删除或更新信息,请邮件至freekaoyan#163.com(#换成@)

低效率滚降、发光颜色稳定的磷光白色有机电致发光器件

本站小编 Free考研考试/2021-12-29

摘要:本文采用多发光层结构, 制备了高亮度下具有高发光效率, 同时在较宽亮度范围内发光颜色稳定的白色磷光有机电致发光器件(WOLED). 在对双发光层结构磷光OLEDs的发光机制和载流子传输过程进行系统研究的基础上, 将两种磷光OLEDs的发光层结构相结合, 获得的多发光层结构磷光WOLED最大电流效率和外量子效率分别为34.6 cd/A和13.5%; 当亮度为1000 cd/m2时, 其电流效率和外量子效率分别为33.9 cd/A 和13.3%, 外量子效率滚降仅为1.5%; 亮度从1000 cd/m2增至10000 cd/m2的过程中, 其CIE色度坐标从(0.342, 0.403)变化至(0.326, 0.392), 变化量ΔCIE为(0.016, 0.011).
关键词: 白色有机电致发光器件/
效率滚降/
颜色稳定性/
磷光

English Abstract


--> --> -->
白色有机电致发光器件(WOLEDs)因其超薄、制造成本低、效率高、视角宽、响应速度快以及可柔性显示等优点, 成为最有应用前途的新一代平板显示和固态照明技术[1-6]. 由于磷光发光材料在常温下能同时利用电激发产生的单线态和三线态激子辐射发光, 理论上磷光OLEDs可实现接近100%的内量子效率[7-12]. 但是, 长寿命的三线态激子及其长距离的扩散引起的三线态-三线态湮灭(TTA)和三线态-极化子淬灭(TPQ) [13,14], 导致磷光WOLEDs在高亮度下发光效率的滚降(roll-off) [15]. 为了抑制TTA和TPQ效应, 人们通过选择合适的主客体材料、平衡载流子注入和传输及扩展载流子复合区域等方法, 使磷光WOLEDs在高亮度下获得了较高的发光效率[9,16-20]. 此外, 由于多发光层结构WOLEDs通常至少有两个发光层, 受载流子俘获、在电场诱导下有机材料迁移率的改变及载流子复合区移动等因素的影响, 易引起随器件内部电场变化的发光颜色漂移[21-23].
为了达到节能环保的商业化应用目标, 在发光亮度超过1000 cd/m2时, WOLEDs在具有高发光效率的同时还应具有高的发光颜色稳定性[9,22]. Liu等[24]报道的单发光层结构磷光WOLED在亮度为1000 cd/m2时电流效率为43.6 cd/A; 亮度从1000 cd/m2增至12000 cd/m2, 其CIE色度坐标变化量ΔCIE为(0.020, 0.005). Yang等[25]制备了以激基复合物为主体的多发光层结构磷光WOLED, 其亮度为1000 cd/m2时的电流效率为44.5 cd/A; 亮度从1000 cd/m2增至15000 cd/ m2, 其CIE色度坐标变化量ΔCIE为(0.006, 0.010), 上述两种磷光WOLED的发光层均采用三种材料掺杂的结构, 制备工艺复杂. 此外, 俞浩健等[26]制备了基于超薄发光层及双极性混合间隔层的四波段磷光WOLED, 在亮度为1000 cd/m2时器件的电流效率为14.8 cd/A; 亮度从465 cd/m2增至15950 cd/ m2, 其CIE色度坐标变化量ΔCIE为(0.023, 0.012).
本文采用蓝色磷光材料Bis (3, 5-difluoro-2-(2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) iridium (III) (Firpic)和橙色磷光材料Iridium (III) bis (4-(4-tert- butylphenyl) thieno[3,2-c]pyridinato-N, C2') acetylacetonate (PO-01-TB)分别作为发光客体, 分别以空穴传输材料1, 3-Bis (carbazol-9-yl) benzene (mCP)和电子传输材料1, 3, 5-Tri[(3-pyridyl)-phen-3-yl] benzene (TmPyPB)作为发光层主体, 研究了双发光层结构磷光OLEDs的发光机制和载流子传输过程. 在此基础上制备了蓝色/橙色互补色发光的多发光层结构磷光WOLED. 该器件同时实现了高亮度下的高发光效率和较宽亮度范围内稳定的白光发射, 并且制备工艺相对简单. 器件的最大电流效率和外量子效率分别为34.6 cd/A和13.5%; 亮度为1000 cd/m2时, 其电流效率和外量子效率分别为33.9和13.3%, 外量子效率滚降仅为1.5%; 亮度从1000 cd/m2增至10000 cd/m2, 其CIE色度坐标变化量ΔCIE为(0.016, 0.011).
图1为器件中所使用材料的能级图及Firpic和PO-01-TB的化学结构. PO-01-TB和Liq购自西安宝莱特光电科技公司, 其余有机材料及涂覆有ITO的玻璃基底从台湾激光科技公司购买. 有机材料的最低未占有分子轨道(lowest unoccupied molecular orbital, LUMO)和最高占有分子轨道(highest occupied molecular orbital, HOMO)能级以及三线态能量(ET)均从已发表的文献中获得. 所有OLEDs均采用方块电阻约为15 Ω/sq的ITO作为阳极, 4, 4', 4"-Tris (N- 3-methylphenyl-N-phenyl-amino) triphenylamine (m-MTDATA)和N, N'-Bis (naphthalen-1-yl)-N, N'-bis(phenyl)-benzidine (NPB)分别作为空穴注入层和空穴传输层, 非掺杂的mCP作为激子阻挡层, TmPyPB兼作电子传输层和空穴阻挡层, 8-Hydroxyquinolinolato-lithium (Liq)/Al为复合阴极.
图 1 器件中所使用材料的能级示意图及Firpic和PO-01-TB的化学结构
Figure1. Energy level diagram of materials used in the devices, and the chemical structures of Firpic and PO-01-TB.

所有已刻蚀的ITO玻璃基底经由丙酮、乙醇和去离子水依次循环清洗、超声三次, 每次超声时间为10 min, 然后用高速N2吹干基底表面, 最后在温度120 oC恒温真空干燥箱中干燥30 min. 将预处理后的基底移入多源有机分子气相沉积系统的腔室内. 样品室内的真空度优于4 × 10–4 Pa. 各有机功能层依次蒸镀在ITO基底之上, 蒸镀速率为0.1—0.2 nm/s (Liq的蒸镀速率为0.02 nm/s), 之后覆盖掩膜版并蒸镀阴极Al (~0.5 nm/s). 样品制备过程中, 采用FTM-V型石英晶体膜厚监测仪对薄膜厚度进行在线监测. ITO层与阴极Al交叉覆盖形成的发光单元面积为4 mm2. 器件的光电性能采用由电压电流源(Keithley 2400)和光谱扫描光度计(PR655)所构成的测试系统进行测量. 外量子效率(EQE)采用Tanaka等[27]提出的方法由电流密度、发光亮度和电致发光光谱计算得出. 有机薄膜的吸收光谱和光致发光光谱(PL)分别采用紫外-可见光分光光度计(UV 1700, Shimadzu)和荧光光谱仪(Horiba JY Fluorolog-3)进行测量. 器件均未封装且未加光输出耦合装置, 所有测量均在室温条件下大气环境中进行.
2
3.1.双发光层结构OLEDs
-->选用磷光材料Firpic和PO-01-TB分别作为器件蓝光层和橙光层的发光客体, 制备了双发光层结构的磷光OLEDs. 图2为器件A—D的结构示意图. 由于Firpic具有较高的三线态能量(2.62 eV), 为了防止Firpic至其主体的反向能量传递而导致的非辐射能量损失, 选用高三线态能量(2.9 eV)的空穴传输材料mCP作为其主体. 器件A橙光层与蓝光层的主体相同, 而器件B则选用电子传输材料TmPyPB作为橙光层的主体. 此外, mCP具有较高空穴迁移率(~3.2 × 10-4 m2/Vs), 大约是其电子迁移率的1.6倍[28], TmPyPB具有较深的HOMO能级(6.7 eV)和高的电子迁移率(~1.0 × 10–3 m2/Vs) [29], 可以使空穴和电子积累在mCP/TmPyPB界面处. 同时, 由位于发光层两侧高三线态能量的非掺杂mCP和TmPyPB(2.78 eV)层形成的激子限制结构, 能够将激子有效限制在发光层中. 为了研究Firpic与PO-01-TB之间的能量传递问题, 在器件A和B的蓝光层与橙光层之间分别插入3 nm厚的非掺杂mCP和TmPyPB间隙层, 对应器件分别为C和D. 一般Dexter和F?rster能量传递的半径均不超过3 nm [30], 3 nm厚的间隙层可阻挡从Firpic到PO-01-TB的能量传递.
图 2 器件A?D的结构示意图
Figure2. Structure schematic of devices A?D.

通常OLEDs中有两种主要的激子形成机制, 即能量传递和载流子俘获[31,32]. F?rster能量传递的效率与发光层主体和客体之间的分子轨道重叠程度密切相关. 为了研究器件A—D的电致发光过程, 我们在石英基底上分别制备了mCP(20 nm), Firpic(20 nm)和PO-01-TB(20 nm)薄膜, 测量了常温下薄膜的吸收光谱和PL谱. 如图3所示, Firpic和PO-01-TB的主发光峰分别位于470 nm和558 nm. 在350 nm到450 nm范围内Firpic有较宽的吸收谱, 与mCP的PL谱有较大范围的重叠区域, 表明从mCP至Firpic可实现有效的能量传递. 另外, PO-01-TB的吸收光谱在430—550 nm范围内与Firpic的PL谱也有重叠, 说明Firpic的能量还可以进一步传递给PO-01-TB.
图 3 薄膜的紫外-可见光吸收光谱和光致发光光谱
Figure3. UV-vis absorption and PL spectra of the deposited films.

图4给出了器件A—D的电致发光光谱. 四种器件的光谱均呈现出位于468 nm处较强的Firpic蓝光发射, 而位于556 nm处PO-01-TB的相对发光强度则存在一定差别. 器件B橙光最强, 并且间隙层对器件B橙光相对强度减弱的影响明显大于器件A, 可见器件B中经由Firpic能量传递产生的PO-01-TB激子比例较大, 这是该器件橙光较强的主要因素. 该实验结果表明, 器件A—D中载流子复合区位于mCP/TmPyPB的界面处. 器件B中的橙光层紧邻载流子复合区, 蓝光层中Firpic激子能量可以有效传递给相邻橙光层中的PO-01-TB, 呈现出较强的橙光发射; 而器件A中橙光层与载流子复合区的距离较远, 在mCP:PO-01-TB/mCP:Firpic界面附近Fipic激子的密度较低, 使传递给PO-01-TB能量的Firpic激子数量较少, 导致PO-01-TB发光强度较弱. 另外, 值得注意的是含间隙层器件B和D的光谱中仍存在PO-01-TB的辐射发光.
图 4 器件A?D的归一化电致发光光谱(电流密度为20 mA/cm2)
Figure4. Normalized EL spectra of devices A?D at 20 mA/cm2

为了研究器件A和B发光层中客体发光材料的电学特性, 制备四种单空穴(hole-only)器件H1—H4和四种单电子(electron-only)器件E1—E4, 其结构如图5(a)所示. 分别对比图5(b)图5(c)中单空穴和单电子器件电流密度-电压曲线可以发现, mCP:Firpic中客体Firpic既未俘获空穴, 也未见明显俘获电子的现象, 表明器件A—D的mCP:Firpic层中Firpic激子应来自其主体mCP的能量传递, 而非Firpic的载流子俘获. 此外, 对于PO-01-TB作为客体的掺杂结构, PO-01-TB在mCP:PO-01-TB中对空穴和电子均具有俘获作用, 而TmPypB:PO-01-TB中PO-01-TB仅对空穴具有较强俘获作用. 上述实验结果主要是由于在mCP:PO-01-TB中PO-01-TB的HOMO和LUMO能级均陷在mCP的对应能级之中, 使其易于成为空穴或电子的陷阱; 在TmPypB:PO-01-TB中PO-01-TB与TmPypB高达1.7 eV的HOMO能级也使其成为较深的空穴陷阱点, 表现出较强的空穴俘获作用. 因此, 含间隙层器件B和D中仍然存在的橙光发射应主要来自客体PO-01-TB俘获载流子形成的激子辐射发光.
图 5 (a) 单空穴器件H1?H4和单电子器件E1?E4的结构示意图; (b) 单空穴器件H1?H4和(c) 单电子器件E1?E4的电流密度-电压关系特性曲线
Figure5. (a) Structure schematic of hole-only devices H1?H4 and electron-only devices E1-E4; current density-voltage characteristics of (b) hole-only devices H1?H4 and (c) electron-only devices E1?E4.

图6为器件A和B在不同工作电压下的归一化电致发光光谱. 随工作电压升高, 器件A的橙光先减弱后增强; 而器件B则相反, 且橙光相对强度变化幅度较大. 该实验结果反映了发光层中激子分布随器件内部电场的变化情况. 对于器件A, 电压从6 V增至9 V的过程中, mCP/TmPyPB界面处的空穴密度增加幅度较大, 使mCP:Firpic层中Firpic激子的相对数量有所增加, 导致橙光强度有所减弱; 随电压进一步升高, 器件内部电场增强, mCP的电子迁移率增大, 使向阳极一侧传输的电子密度增加幅度变大, 较多的电子传输至mCP:PO-01-TB层, 使PO-01-TB激子的相对数量有所增加, 导致橙光强度有所增强. 与器件A相似, 器件B橙光相对强度随电压变化也遵循低电场下受mCP/TmPyPB界面处空穴密度变化影响, 高电场下受电子密度变化影响的规律, 其相对强度变化幅度较大主要归因于橙光层TmPyPB:PO-01-TB紧邻载流子复合区, PO-01-TB激子数量受mCP/TmPyPB界面处空穴密度的影响较大.
图 6 (a)器件A和(b)器件B在不同电压下的归一化电致发光光谱; 插图为波长在540?570 nm之间的光谱放大图
Figure6. Normalized EL spectra of devices A(a) and B(b) with different voltage. Inset is the corresponding enlarged spectra at 540?570 nm.

图7为器件A和B的亮度-电压及外量子效率-亮度关系特性曲线. 在工作电压为10 V时, 器件A和B的亮度分别为442 cd/m2和1823 cd/m2, 对应的CIE色度坐标分别为(0.209, 0.352)和(0.302, 0.412), 前者为蓝绿光, 后者发光颜色接近白光区. 另外, 当亮度为1000 cd/m2时, 器件A和B的外量子效率分别为6.1%和11.7%, 分别滚降了16.4%和1.7%.
图 7 器件A和B的亮度-电压关系特性曲线; 插图为器件A和B的外量子效率-亮度关系特性曲线
Figure7. Luminance-voltage characteristics of devices A and B. Inset is EQE-luminance characteristic of devices A and B

2
3.2.多发光层结构WOLEDs
-->为了充分利用电激发产生的激子, 同时提高器件发光颜色稳定性, 将mCP:Firpic置于mCP:PO-01-TB和TmPyPB:PO-01-TB之间, 形成三明治结构的发光层, 并通过改变Firpic的掺杂浓度, 制备了多发光层结构的WOLEDs. 图8(a)给出了器件W1和W2的能级结构和发光层中激子的复合过程. 器件W1和W2中Firpic的掺杂浓度分别为6%和4%. 如图8(b)所示, 在工作电压为10 V时, 器件W1和W2的亮度分别为2252 cd/m2和3496 cd/m2, 对应的CIE色度坐标分别为(0.315, 0.386)和(0.333, 0.397), 均位于白光区. 由图8(c)可知, 器件W1和W2的最大电流效率、外量子效率分别为29.4 cd/A, 11.8%和34.6 cd/A, 13.5%. 可见, 器件W2表现出更优的光电性能. 如表1所列, 当亮度为1000 cd/m2时, 器件W2的外量子效率为13.3%, 仅滚降了1.5%; 即使在5000 cd/m2时, 其外量子效率仍为11.7%, 滚降为13.4%.
DeviceMax EQE/CE/Luminance/
(%/[cd/A]/[cd/m2])
At 1000 cd/m2At 5000 cd/m2
EQE/CE/(%/[cd/A])CIE/(x, y)CRIEQE/CE/(%/[cd/A])CIE/(x, y)CRI
A7.3/16.5/85896.1/13.80.209, 0.351444.2/9.60.215, 0.35446
B11.9/31.2/1389011.7/30.80.303, 0.413569.0/23.40.294, 0.40856
W111.7/29.4/1726011.4/28.30.320, 0.390649.8/23.70.309, 0.38365
W213.5/34.6/1834013.3/33.90.342, 0.4036411.7/29.30.331, 0.39565


表1器件A, B和器件W1, W2的电致发光性能参数
Table1.EL performance parameters of the OLEDs in our studies.

图 8 白光器件W1和W2的 (a) 能级结构和发光层中激子复合过程示意图, 蓝色虚线框为载流子复合区, S1和S0分别代表单线态能级和基态(○), T1代表三线态能级(△); (b) 亮度-电压和关系特性曲线和归一化电致发光光谱(插图); (c) 电流效率-亮度-外量子效率关系特性曲线; (d) 器件B和W2的外量子效率-电流密度关系特性曲线, 图中红线和蓝线分别为的器件B和W2拟合曲线(TTA模型)
Figure8. (a) Energy diagram and exciton dynamics of the WOLEDs W1 and W2. S1 and T1 are respectively the singlet (○) and triplet (△) energy levels, and S0 is the ground state (○). The blue dashed box depicts the main region of carrier recombination. Luminance-voltage characteristics and the normalized EL spectra (b), and current efficiency-Luminance-external quantum efficiency characteristics (c) of the WOLEDs W1 and W2; (d) EQE-current density of the OLEDs B and W2. The red and blue lines are corresponding fitting curves based on the TTA model, respectively.

通常磷光OLEDs在高亮度下的效率滚降现象与TTA, TPQ以及电场诱导的激子淬灭密切相关. 由于三线态激子的寿命较长, 且磷光OLEDs中载流子复合区的激子密度很大, TTA是导致器件效率滚降的重要因素. Baldo等[13]报道的TTA模型中外量子效率$\eta _{{\rm{ext}}}^{TT}$与电流密度J的关系为
$\frac{{\eta _{{\rm{ex}}t}^{TT}}}{{{\eta _0}}} = \frac{{{J_0}}}{{4J}}\left( {\sqrt {1 + 8\frac{J}{{{J_0}}}} - 1} \right),$
式中η0为低电流密度下近似无三线态激子淬灭时的初始外量子效率, J0ηext = η0/2时的临界电流密度. 临界电流密度J0越大, TTA的程度越低. 为了对比双发光层和多发光层结构器件随电流变化的激子淬灭程度, 分别选择器件B和W2作为研究对象, 采用TTA模型对实验数据进行了拟合, 如图8(d)所示, 该模型的拟合结果与实验数据匹配度较好, 表明TTA是引起器件B和W2激子淬灭的主导因素. 器件W2的临界电流密度(J0 ≈ 106 mA/cm2)约为器件B (J0 ≈ 72 mA/cm2)的1.5倍, 进一步表明多发光层结构降低了TTA的程度. 从图8(a)中可以看出, Firpic三线态激子能量可以传递给两侧相邻的PO-01-TB, 降低了载流子复合区中Firpic三线态激子的密度并扩展了发光区的宽度, 从而降低了TTA的程度, 减缓了器件在高亮度下发光效率的滚降. 此外, 两个橙光层中PO-01-TB的载流子俘获及Firpic能量传递的共同作用, 平衡了不同电场下WOLEDs的蓝光和橙光发射, 减弱了因器件内部电场变化而引起的发光层中激子分布变化所带来的发光颜色漂移的影响. 如图9所示, 器件W2在较宽发光亮度范围内呈现出发光颜色稳定的白光发射. 当亮度从1000 cd/m2增至10000 cd/m2过程中, CIE色度坐标从(0.342, 0.403)变化至(0.326, 0.392), 变化量仅为(0.016, 0.011), 显色指数(CRI)稳定在64—65之间.
图 9 白光器件W2的亮度从1000 cd/m2增至5000 cd/m2过程中的归一化电致发光光谱和相应CIE色度坐标及显色指数的变化
Figure9. Normalized EL spectra and the corresponding CIE coordinates, CRI of the device W2 at brightness of 1000?5000 cd/m2.

综上所述, 我们在对双发光层结构磷光OLEDs的发光机制和载流子传输过程进行系统研究的基础上, 制备了互补色发光的多发光层结构磷光WOLED. 该器件不仅实现了高亮度下的高发光效率, 同时还实现了在较宽亮度范围内稳定的白光发射, 并且制备工艺相对简单. WOLED的最大电流效率和外量子效率分别为34.6 cd/A和13.5%; 亮度为1000 cd/m2时, 其电流效率和外量子效率分别为33.9和13.3%, 外量子效率滚降仅为1.5%; 亮度从1000 cd/m2增至10000 cd/m2的过程中, 其CIE色度坐标从(0.342, 0.403)变化至(0.326, 0.392), 变化量ΔCIE为(0.016, 0.011), 显色指数稳定在64—65之间. 该实验结果为制备达到商业化应用目标的高性能磷光WOLEDs提供了一种有效方法.
相关话题/结构 材料 电子 电压 光谱

  • 领限时大额优惠券,享本站正版考研考试资料!
    大额优惠券
    优惠券领取后72小时内有效,10万种最新考研考试考证类电子打印资料任你选。涵盖全国500余所院校考研专业课、200多种职业资格考试、1100多种经典教材,产品类型包含电子书、题库、全套资料以及视频,无论您是考研复习、考证刷题,还是考前冲刺等,不同类型的产品可满足您学习上的不同需求。 ...
    本站小编 Free壹佰分学习网 2022-09-19
  • 入射光照对典型光刻胶纳米结构的光学散射测量影响分析
    摘要:作为一种快速、低成本和非接触的测量手段,光学散射测量在半导体制造业中的纳米结构三维形貌表征方面获得了广泛关注与运用.光学散射测量是一种基于模型的测量方法,在纳米结构待测参数的逆向提取过程中,为降低参数之间的耦合性,通常需要将结构的光学常数作为固定的已知量,即假设结构的材料光学常数不受光学散射仪 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 可调谐掺铥光纤激光器线宽压缩及其超光谱吸收应用
    摘要:可调谐二极管激光吸收光谱技术是一种应用非常广泛的吸收光谱测量技术.利用宽带可调谐窄线宽光源进行吸收光谱测量的超光谱吸收技术可以在单次扫描中获取一段连续光谱的所有吸收数据,可大大提高可调谐二极管激光吸收光谱技术的数据信息容量和光谱诊断能力.分析了在2μm波段对水进行超光谱吸收测量时对激光器输出线 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 锐真空-等离子体边界倾角对激光尾波场加速中电子注入的影响
    摘要:超短超强激光脉冲在气体等离子体中激发的尾波场加速在过去40年里有了长足的发展,人们已经在厘米加速距离内获得了数GeV的准单能电子加速,激光尾波加速的最高电子能量已经达到8GeV.为了进一步提升加速电子束的稳定性和品质,多种电子注入方式先后被提出.本文研究了基于锐真空-等离子体边界面的密度跃变注 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 预取向半晶态高分子片晶结构形成微观机理及其应力-应变响应特性的分子动力学模拟
    摘要:通过分子动力学模拟方法对不同预取向聚乙烯醇熔体(polyvinylalcohol,PVA)形成的半晶态高分子熔体形成核结晶及拉伸过程中的应力-应变响应特性进行了系统地研究.模拟结果显示预取向度高的PVA熔体对应更快的成核动力学.通过追踪全trans伸直链长度(dtt)、成核原子维诺体积(V)和 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 脂质体包裹荧光受体方法研究α-突触核蛋白在磷脂膜上的结构和动态特征
    摘要:α-突触核蛋白(α-synuclein,α-syn)在帕金森病的发病机理中起着关键的作用,因而近年来受到了越来越广泛的关注.α-syn在膜上的动力学过程对理解其功能至关重要.本文使用基于脂质体的单分子荧光衰减方法—LipoFRET,首次对较高浓度下α-syn与磷脂膜的相互作用的动态过程进行了单 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 层状材料褶皱对几种地质活动机理研究的启示
    摘要:从制备层状材料褶皱得到启示,给出了地球地质活动的一些可能的机理性解释.层状晶体的褶皱可以通过在柔性基底上施加的单轴或双轴应力实现,这与地球的层状结构及地球表面的山体褶皱形成机理有许多相似之处.由于地球质量分布不均匀且存在自转,因此各个板块的转动惯量是不一样的,本文指出南北半球之间存在自转角速度 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 拓扑材料中的超导
    摘要:近来,人们在凝聚态体系中发现了由拓扑不变量定义的物相,其中最重要的有拓扑绝缘体、拓扑半金属和拓扑超导体等.这些物相的拓扑性质由非平凡的拓扑数描述,相应的材料被称为拓扑材料,具有诸多新奇的物理特性.其中拓扑超导体由于边界上有满足非阿贝尔统计的Majorana零能模,成为实现拓扑量子计算的主要候选 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 典型磁性材料价电子结构研究面临的机遇与挑战
    摘要:目前在磁性材料磁有序现象研究中广泛使用的交换作用、超交换作用和双交换作用模型形成于1950年代及其以前,这些模型都涉及材料中的价电子状态,但那时还没有充分的价电子状态实验依据.1970年代以来,有关价电子结构实验结果的报道越来越多,这些实验结果表明传统的磁有序模型需要改进.首先,大量电子谱实验 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 经式8-羟基喹啉铝的光谱与激发性质密度泛函
    摘要:经式8-羟基喹啉铝(mer-Alq3)是一种光电性能优良的小分子有机半导体发光材料.本文采用密度泛函理论(DFT)B3LYP/6-31G*方法和基组对其进行结构优化,计算并研究了该分子的红外光谱、拉曼光谱和前线轨道.计算得到的红外光谱、拉曼光谱均与实验相符.前线轨道表明基态最高占据轨道(HOM ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 光学微腔中倍频光场演化和光谱特性
    摘要:在考虑光学微腔中二阶和三阶非线性效应的情况下,引入了可同时描述腔内基频和倍频光场的演化过程的Lugiato-Lefeve方程,分析了SiN微腔中二次谐波的产生,并讨论了各参数对腔内基频和倍频光场的影响.理论分析结果表明,失谐参量为0时,稳定后的基频光场为平顶脉冲的形式,而倍频光场呈正弦分布;失 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29