Fund Project:Project supported by the National Natural Science Foundation of China (Grant Nos. 11704187, 11974185, 11834004), the Fundamental Research Funds for the Central Universities (Grant No. 30920021153), and the Project Funded by China Postdoctoral Science Foundation (Grant No. 2019M661841)
Received Date:18 April 2021
Accepted Date:22 May 2021
Available Online:07 June 2021
Published Online:05 July 2021
Abstract:In this paper, the high-order harmonic generation by the interaction between strong laser and bilayer MoS2 material is studied by numerically solving the multi-band semiconductor Bloch equations. It is found that the conversion efficiency of high-order harmonics generated by T-stacking bilayer MoS2 is one order of magnitude higher than that of AA-stacking bilayer MoS2. The theoretical analysis shows that due to the breaking of crystal symmetry under the atomic level dislocation, part of the interband forbidden transition paths are opened, and the excitation channels of interband transition are increased, which greatly increases the carrier transition probability and enhances the high-order harmonic conversion efficiency. In addition, the study of wavelength scaling of harmonic yield shows that the enhanced high-order harmonics in T-stacking bilayer are better wavelength-dependent under the action of a long wavelength laser (> 2000 nm). This work provides a new idea of how to optimize and enhance the conversion efficiency of solid-state high-order harmonics. Keywords:high harmonic generation/ bilayer MoS2/ stacking pattern/ wavelength scaling
3.结果与讨论通常, 双层MoS2材料具有多种稳定的堆栈结构, 图1(a)和1(b)所示分别为双层MoS2材料AA型(层间S原子顶对顶)和T型(层间S原子错位)堆栈下的结构. 通过结构优化, 计算得到的双层MoS2材料在AA型和T型堆栈下的晶格参数都在3.19 ? (1 ? = 0.1 nm)左右. 然而优化所得的AA型堆栈双层MoS2材料的层间距为3.69 ?, 较T型堆栈双层MoS2材料的层间距3.09 ?大. 图1(c)中蓝色区域为双层MoS2材料的第一布里渊区, 其中Γ–M和Γ–K分别为倒空间中的两个高对称性方向. 由于层状MoS2材料在Γ–K方向的高次谐波转换效率要比Γ–M方向低很多[34], 因此在本工作中只关注双层MoS2材料在Γ–M方向的高次谐波辐射. 此外, 图1(d)和1(e)分别为AA型堆栈和T型堆栈双层MoS2材料在Γ–M方向的能带结构, 图中所示共12条价带和8条导带. 对比双层MoS2在两种不同堆栈方式下的能带结构, 发现不管是带隙还是能带的色散分布都几乎保持一致, 也就是说堆栈方式对其能带结构影响很小. 图 1 (a)和(b)分别为双层MoS2材料AA型堆栈和T型堆栈结构的俯视图(上图)和侧视图(下图); (c) 双层MoS2材料的第一布里渊区; (d)和(e) 分别为双层MoS2材料AA型堆栈和T型堆栈在高对称性Γ–M方向的能带结构 Figure1. Top and side views of bilayer MoS2 for (a) AA stacking and (b) T stacking; (c) the first brillouin zone of bilayer MoS2; (d) energy bands of bilayer MoS2 for (a) AA stacking and (b) T stacking in Γ–M direction.
图2(a)所示为模拟得到的双层MoS2材料在AA型堆栈(蓝线)和T型堆栈(红线)下的高次谐波谱, 计算过程中共使用了12条价带和8条导带进行计算. 所用激光为波长为3200 nm的中红外激光场, 脉冲的半高全宽为2个光周期, 激光电场的峰值强度 I = 1.0 × 1011 W/cm2. 对比两种不同堆栈方式下产生的高次谐波谱, 惊奇地发现在谐波谱的高能区域, 双层MoS2在原子错位的T型堆栈下产生高次谐波的转换效率比在AA型堆栈下的高次谐波效率高一个数量级. 通常, 固体高次谐波的高能区域主要来源于材料中更高的导带或更低的价带参与跃迁贡献. 如图2(b)所示, 若在模拟过程中只考虑2条价带(v1, v2)和4条导带(c1, c2, c3, c4), 则两种堆栈方式下产生的高次谐波谱基本没有区别, 同时高能区域高次谐波谱消失. 但在模拟中使用4条价带(v1, v2, v3, v4)和4条导带(c1, c2, c3, c4), 计算得到的高次谐波谱如图2(c)所示, 图2(a)出现的谐波高能区域增强现象又显现出来. 因此, 确定相比于图2(b)中使用的2条价带和4条导带, 在模拟图2(c)高次谐波中额外增加的价带v3和v4对高能高次谐波的产生起着重要作用, 同时也是影响两种不同堆栈方式下高次谐波谱区别的关键. 由于前面发现对于两种不同堆栈方式下的能带结构几无差别, 因此可认为带间跃迁偶极矩是T型堆栈谐波增强的主要因素. 图 2 模拟计算得到的双层MoS2材料在高对称性Γ–M方向的高次谐波谱(红线为T型堆栈, 蓝线为AA型堆栈) (a) 模拟过程中使用12条价带8条导带; (b) 模拟过程中使用2条价带4条导带; (c) 模拟过程中使用4条价带4条导带 Figure2. Calculated high harmonic spectra from bilayer MoS2 in AA stacking (blue line) and T stacking(red line) with (a) twelve valence bands and eight conduction bands; (b) two valence bands and four conduction bands; (c) four valence bands and four conduction bands used in simulation.
为了阐明T型堆栈谐波增强背后的物理机制, 计算出双层MoS2材料部分能带间的跃迁偶极矩. 图3(a)和3(b)分别为AA型堆栈的第三条价带v3和第四条价带v4与最低4条导带的带间跃迁偶极矩. 对于AA型堆栈, 双层MoS2材料两层镜面对称, 层与层之间的相互作用非常弱, 电子很难从其中一层跃迁到另外一层, 价带v3和v4只与同一层内的导带c3和c4间有带间跃迁偶极矩, 因此相比于图2(b)只包含v1和v2价带, 图2(c) 中进一步考虑v3和v4价带贡献的谐波效率略有增强. 然而对于T型堆栈, 双层MoS2镜面对称被打破, 电子有一定几率从其中一层跃迁到另外一层, 因此如3(c)和3(d)所示在T型堆栈中价带v3和v4与最低的4条导带间都有跃迁偶极矩. 分析认为, 正是由于在T型堆栈下材料对称性被打破, 使得原有的部分带间禁戒跃迁路径被打开, 带间跃迁激发通道增加, 大大增加了载流子跃迁概率, 使得高次谐波转换效率增强. 图 3 双层MoS2材料的部分带间跃迁偶极矩 (a)和(b)分别为AA型堆栈的双层MoS2材料中第三条价带v3和第四条价带v4与最低4条导带的带间跃迁偶极矩; (c)和(d)分别为T型堆栈的双层MoS2材料中第三条价带v3和第四条价带v4与最低4条导带的带间跃迁偶极矩 Figure3. The parts of transition dipole moments: (a) and (b) show the transition dipole moments among two valence bands (v3 and v4) and four lowest conduction bands in AA stacking, respectively; (c) and (d) how the transition dipole moments among two valence bands (v3 and v4) and four lowest conduction bands in T stacking, respectively.
此外, 本工作还研究了两种堆栈方式下双层MoS2材料随驱动激光波长变化的高次谐波谱. 如图4(a)和4(b)所示, 高次谐波的转换效率随着激光波长的增加逐渐降低, 这主要是因为更长的激光波长对应更小的光子能量, 电子需要吸收更多的光子才能从价带跃迁到导带, 跃迁概率大为降低, 使得高次谐波效率逐渐衰减. 虽然谐波效率整体随着波长变大逐渐降低, 但发现相比于AA型堆栈, T型堆栈7—12 eV能量范围的高次谐波在1000—6000 nm波长范围内都增强1个数量级, 同时随着激光波长的增大该区域谐波相比AA型堆栈的增强越明显. 图 4 模拟计算得到的双层MoS2材料随驱动激光波长变化的高次谐波谱 (a) AA型堆栈; (b) T型堆栈 Figure4. Wavelength dependent high harmonic spectra from bilayer MoS2 in (a) AA stacking and (b) T stacking.
而通过计算双层MoS2高次谐波的波长定标发现, 波长范围不同, 高次谐波的波长定标也不同. 这里取T型堆栈相较AA型堆栈高次谐波显著增强的7—12 eV能量范围(图3(b)中灰色阴影区域)研究波长定标. 以AA型堆栈为例, 如图5(a)所示, 可发现激光波长在1000—2000 nm范围内, 高次谐波的波长定标遵循λ–1.44 ± 0.10, 远高于气体高次谐波的波长定标. 随着激光波长的逐渐增大, 高次谐波的波长定标逐渐降低, 如在激光波长在2000—4000 nm范围时, 高次谐波的波长定标降为λ–3.78 ± 0.10. 当激光波长达到4000—6000 nm时, AA型堆栈的双层MoS2高次谐波波长定标则接近于气体高次谐波的波长定标. T型堆栈双层MoS2高次谐波中具有类似的波长定标规律, 不同之处在于原子错位T型堆栈双层MoS2的高次谐波波长定标随着波长的增大(2000—6000 nm)下降速度明显小于AA型堆栈, 这也预示着在波长较长的激光驱动下, T型堆栈相比AA堆栈所增强的高次谐波具有更优越的波长定标. 图 5 模拟得到的双层MoS2材料高次谐波产率的波长定标 (a) AA型堆栈; (b) T型堆栈; 图中直线由波长定标公式拟合得到 Figure5. Wavelength scaling of high harmonic yield from bilayer MoS2 in (a) AA stacking and (b) T stacking. Lines are fits of the scaling law to the data.