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石墨烯增强半导体态二氧化钒近场热辐射

本站小编 Free考研考试/2021-12-29

摘要:本文基于涨落耗散定理和并矢格林函数求解麦克斯韦方程来研究两个半无限大平板的近场热辐射净热流, 提出了两个半无限大块状二氧化钒组成的V/V结构、石墨烯覆盖两个半无限大块状二氧化钒组成的GV/GV结构和石墨烯覆盖VO2薄膜组成的GV0/GV0结构, 深入研究了这三种结构中二氧化钒与石墨烯间的近场热辐射, 并分析了真空间距、二氧化钒薄膜厚度和石墨烯化学势等物理参量变化对近场热辐射的影响. 研究表明: 三种结构的近场热辐射均随间距增大而减小; 在真空间距为10 nm时, 由石墨烯覆盖的GV/GV结构的近场辐射热流比无石墨烯覆盖的V/V结构增强35倍, 耦合效果最好的是GV0/GV0结构, 该结构的近场辐射热流比GV/GV结构增强8.6倍; 在GV0/GV0结构中, 当二氧化钒薄膜厚度为30 nm时, 石墨烯化学势从0.1 eV增加到0.6 eV辐射热流会减小3.3倍. 本文系统研究了二氧化钒与石墨烯间相互耦合的近场热辐射, 对相关结构的近场热辐射实验和实际应用具有理论指导意义.
关键词: 近场热辐射/
薄膜厚度/
石墨烯/
半导体态二氧化钒

English Abstract


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辐射体之间的换热间距接近特征波长时, 热传递不再受普朗克定律的限制, 此时辐射体的表面等离激元(surface plasmon polaritons, SPP)、表面声子极化子(surface phonon polaritons, SPhP)以及光子隧穿效应等使热传递得到显著增强, 这使得近场热辐射的相关研究被广泛关注, 越来越多的研究表明科研人员可通过改进辐射换热结构和选取更优性能的材料来达到调控近场热辐射的目的[1,2].
石墨烯SPP的频率覆盖了从太赫兹到近红外范围且具有可调节特性, 这使得石墨烯及其复合结构非常适合用于近场热辐射研究. 近些年来, 以石墨烯为基础的近场热辐射被广泛深入的研究, 如对单层石墨烯[3,4]的研究, 基于石墨烯的各种超材料[5]的研究, 石墨烯与氮化硼[6]、掺杂硅[7]等材料的近场热辐射研究. 二氧化钒(VO2)是一种相变材料, 在接近温度点68 ℃时会发生从半导体态到金属态的相变, 同时光学性质也会发生突变[8], 这种特性使得VO2受到广泛的关注, 出现了许多关于VO2的研究, 其中包括相变温度以及性能研究、VO2智能窗超材料等[9,10].
在1996年Choi等[11]的研究中发现处在介质态的VO2可能支持表面声子模式, 这促进了VO2在近场热辐射领域内的研究. van Zwol等[12]于2011年研究了VO2的相变特性和声子共振极化作用对近场热辐射热流的调控作用, 并在2012年的文章中证明了介质态VO2的SPhP可以增强近场热传输[13]. 在目前的研究成果中, 对VO2本身以及覆盖石墨烯的VO2结构的热辐射特性研究较少, 对VO2薄膜厚度和石墨烯化学势等物性参数对近场热辐射的影响缺少全面系统的研究. 为此, 本文基于麦克斯韦方程组和波动电动力学的基础上, 对石墨烯覆盖的VO2结构间的近场热辐射进行了研究, 建立了计算模型, 对比分析了三种不同结构的近场热辐射特性, 为更加深入研究VO2与石墨烯之间的热辐射特性以及以后的相关实验和工程实际应用提供了理论基础.
图1为理论分析所用的结构模型. 图1(a)为半无限大块状VO2的近场热辐射模型, 为了方便文中表示, 将此结构表示为V/V结构, 将石墨烯覆盖半无限大块状VO2的近场热辐射模型表示为GV/GV结构. 图1(b)为石墨烯覆盖VO2薄膜(厚度用dh表示)的近场热辐射模型, 表示为GV0/GV0结构. 如图1所示, 真空间距用d表示, 发射端和接收端的温度分别用T1, T2表示, 本文研究的是室温情况下石墨烯对半导体态VO2近场热辐射的影响, 所以设置T1为300 K, T2为298 K.
图 1 (a)无石墨烯覆盖的近场热辐射模型; (b)石墨烯覆盖VO2薄膜的近场热辐射模型
Figure1. (a) The near-field thermal radiation between bulk VO2; (b) the near-field thermal radiation between VO2 films covered by graphene.

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2.1.介质态VO2介电常数
-->介质态VO2介电函数公式为:
$ \varepsilon (\omega )={\varepsilon }_{\infty }+{\sum\limits_{j\rm=1}^{N}\frac{{S}_{j}{\omega }_{j}^{2}}{{\omega }_{j}^{2}-{\rm i}{\gamma }_{j}\omega -{\omega }^{2}}}, $
该公式是一个经典的振荡器模型, 对其详细描述来自2007年 Zhang[14]的著作. 2013年, Yang等[15]的论文里同样使用了此公式. 其中${\varepsilon _\infty }$为高频常数, $\omega $为角频率, ${\omega _j}$为共振频率, ${\gamma _j}$为散射率, i表示虚数单位, ${S_j}$表示振荡强度. VO2在介质态下为晶体结构, 入射光分解为平行于光轴和垂直于光轴两部分. 1966年 Barker等[16]的实验测量结果表明平行于光轴共有8个共振模式, 垂直于光轴有9个共振模式, 并给出了对应的参数数值, 在本文计算中我们也使用其给出的参数数值来表示介质态VO2的介电函数.
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2.2.石墨烯电导率
-->石墨烯电导率的研究已经比较成熟, 在 Riccardo 等[17]的文章中有对石墨烯电导率的详细描述, 分别用下面的公式表示, 其中${\sigma _{\rm{1}}}$表示带内贡献, ${\sigma _{\rm{2}}}$表示带间贡献, 两者相加即为石墨烯电导率$\sigma = {\sigma _1} + {\sigma _2}$.
${\sigma _1} = \frac{{2{\rm{i}}{e^2}{k_{\rm{B}}}T\ln \left[ {2\cosh \left( {\mu /\left( {2{k_{\rm{B}}}T} \right)} \right)} \right]}}{{(\omega + {\rm{i}}/\tau ){\rm{\pi }}{\hbar ^2}}},$
${\sigma _{\rm{2}}} = \frac{{{e^2}}}{{4\hbar }}\left[ {E\left( {\frac{{\hbar \omega }}{2}} \right) + \frac{{{\rm{i}}4\hbar \omega }}{{\rm{\pi }}}I} \right],$
其中
$E(\delta ) = 1/\left[ {\frac{{\cosh \left( {\mu /\left( {{k_{\rm{B}}}T} \right)} \right)}}{{\sinh \left( {\delta /\left( {{k_{\rm{B}}}T} \right)} \right)}} + \coth \left( {\delta /\left( {{k_{\rm{B}}}T} \right)} \right)} \right],$
$I = \int_0^\infty {\left[ {E(\delta ) - E\left( {\frac{{\hbar \omega }}{2}} \right)} \right]} \bigg/\left[ {{{\left( {\hbar \omega } \right)}^2} - 4{\delta ^2}} \right]{\rm{d}}\delta ,$
在本文中$\mu $表示石墨烯化学势, 可以在$\mu $ = 0.1—0.6 eV内调节, 取弛豫时间$\tau $ = 10–13 s, $\omega $表示角频率, 绝对温度T为设置的T1 = 300 K, T2 = 298 K, e表示电子电荷数, kB为玻尔兹曼常数, i表示虚数单位, $\hbar $表示狄拉克常数.
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2.3.半无限大平板结构的近场热辐射热流
-->用来求解真空距为d的两个半无限大平板结构的近场辐射热流Q [18]的表达式为
$\begin{split}Q =\; & \frac{1}{{4{{\rm{\pi }}^2}}}\int_{\rm{0}}^\infty {\left[ {\varTheta \left( {\omega,{T_1}} \right) - \varTheta \left( {\omega,{T_2}} \right)} \right]{\rm{d}}\omega } \\ & \times\int_{\rm{0}}^\infty {{\xi _{j = {\rm s},{\rm p}}}\left( {\omega,\beta } \right)\beta {\rm{d}}\beta },\end{split}$
其中$\beta $为波矢的横向分量; ${\xi _{j = {\rm s}, {\rm p}}}\left( {\omega, \beta } \right)$为光子隧穿概率, 包括横向电波(s极化)和横向磁波(p 极化)的贡献; $ \varTheta \left(\omega, T\right)$为普朗克谐振子的平均能量, 可以表示为
$\varTheta \left(\omega, T\right)=\frac{\hslash \omega }{\exp\left[\hslash \omega /({k}_{\rm{B}}T)\right]-1},$
其中$\hbar $表示狄拉克常数.
用来计算$ {\xi _{j = {\rm{s, p}}}}\left( {\omega, \beta } \right) = {\xi _{\rm{s}}}\left( {\omega, \beta } \right) + {\xi _{\rm{p}}}\left( {\omega, \beta } \right) $的表达式为[7]
$ {\xi _{j = {\rm{s,p}}}}(\omega ,\beta ) = \left\{ \begin{aligned} & \frac{{\big( {1 - {{\left| {{r_{j,{\rm{E}}}}} \right|}^2}} \big)\big( {1 - {{\left| {{r_{j,{\rm{R}}}}} \right|}^2}} \big)}}{{{{\Big| {1 - {r_{j,{\rm{E}}}}{r_{j,{\rm{R}}}}{{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_{\rm{z}}^{\left( 0 \right)}d}}} \Big|}^2}}},\;\beta < {k_0},\\ & \frac{{4{\rm{Im}} ({r_{j,{\rm{E}}}}){\rm{Im}} ({r_{j,{\rm{R}}}}){{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_{\rm{z}}^{\left( 0 \right)}d}}}}{{{{\Big| {1 - {r_{j,{\rm{E}}}}{r_{j,{\rm{R}}}}{{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_{\rm{z}}^{\left( 0 \right)}d}}} \Big|}^2}}},\;\beta > {k_0}, \end{aligned} \right. $
其中${r_{j, {\rm{E}}}}$${r_{j, {\rm{R}}}}$分别代表发射端和接收端的菲涅耳反射系数. $ {k}_{z}^{(0)}={({k}_{0}^{2}-{\beta }^{2})}^{1/2}$为真空中波矢Z方向上的分量, 此公式中${k_0} = \omega /{c_0}$表示真空中波矢, ${c_0}$表示真空中的光速.
两个被石墨烯覆盖的半无限大介质间的菲涅耳反射系数可以用(6)式和(7)式表示[19], 而没有石墨烯覆盖的两半无限大介质之间的菲涅耳反射系数只需要将(6)式和(7)式中含有石墨烯电导率的部分变为0即可[20]. 当石墨烯覆盖有厚度的两介质时, 菲涅耳反射系数计算公式变为(8)式和(9)式[2,21].
$ {r_{\rm s}} = \frac{{k_z^{({\rm{0s}})} - k_z^{({\rm{1s}})} - \sigma \mu_0 \omega }}{{k_z^{({\rm{0s}})} + k_z^{({\rm{1s}})} + \sigma \mu_0 \omega }}, $
${r_{\rm p}} = \frac{{k_z^{({\rm{0p}})}\varepsilon _ \bot ^{({\rm{1}})} - k_z^{\rm {(1p)}}\varepsilon _ \bot ^{(0)} + \frac{{\sigma k_z^{({\rm{0p}})}k_z^{({\rm{1p}})}}}{{{\varepsilon _0}\omega }}}}{{k_z^{({\rm{0p}})}\varepsilon _ \bot ^{({\rm{1}})} + k_z^{({\rm{1p}})}\varepsilon _ \bot ^{(0)} + \frac{{\sigma k_z^{({\rm{0p}})}k_z^{({\rm{1p}})}}}{{{\varepsilon _0}\omega }}}},$
${r_{\rm {s}}} = \frac{{{r_{\rm {s01}}} + {r_{\rm {s12}}}(1 + {r_{\rm {s01}}} + {r_{\rm {s10}}}){{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_z^{\rm {(1s)}}d_{\rm{h}}}}}}{{1 - {r_{\rm {s10}}}{r_{\rm {s12}}}{{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_z^{(1s)}d_{\rm{h}}}}}},$
${r_{\rm p}} = \frac{{{r_{\rm {p01}}} + {r_{\rm {p12}}}(1 - {r_{\rm {p01}}} - {r_{\rm {p10}}}){{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_z^{\left( \rm{1p} \right)}{d_{\rm{h}}}}}}}{{1 - {r_{\rm{p10}}}{r_{\rm{p12}}}{{\rm{e}}^{2{\rm{i}}k_z^{\left( {\rm{1p}} \right)}{d_{\rm{h}}}}}}}$
其中在上述公式中, $k_z^{(n{\rm p})} = \sqrt {\varepsilon _ \bot ^{(n)}k_0^2 - \varepsilon _ \bot ^{(n)}{\beta ^2}/\varepsilon _{/\!/} ^{(n)}}$, $k_z^{(n{\rm s})} = \sqrt {\varepsilon _ \bot ^{(n)}k_0^2 - {\beta ^2}}$, n = 0, 1, 2表示各介质, ${r_{(j = {\rm s}, {\rm p}), n_1, n_2}}$表示从介质n1到介质n2的菲涅耳反射系数, $\varepsilon _ \bot ^{(n)}$表示各向异性材料介电常数垂直于光轴的部分, $\varepsilon _{/\!/} ^{(n)}$表示其平行于光轴的部分, dh表示薄膜厚度, μ0表示真空磁导率.
图2(a)表示在石墨烯化学势$\mu = 0.1$ eV时, 三种结构(V/V结构、GV/GV结构、GV0/GV0结构)的近场辐射热流随真空间距变化的曲线图. 图2(b)表示的是真空间距d = 10 nm, 化学势$\mu = 0.1$ eV时, 三种结构的光谱辐射通量曲线图. 如图, 三条曲线分别表示V/V结构、GV/GV结构和VO2薄膜厚度dh = 30 nm的GV0/GV0结构. 可以看出图2(a)中三种结构的辐射热流均随真空间距的增大逐渐减小. 同样间距下GV/GV结构(红色圆点曲线)的辐射热流与V/V结构(黑色米号曲线)相比较均有所增加, 且当真空间距越小时相差越大. 最大差距在d = 10 nm时, GV/GV结构的辐射热流为4426.73 W/m2 (图2(a) A点), 约是V/V结构(图2(a) B点)的35倍, 这表明GV/GV结构中石墨烯的SPP增强了中红外频段的近场热辐射. GV0/GV0结构(蓝色五角星曲线)与GV/GV结构相比较, 说明VO2薄膜厚度对辐射热流有较大影响. 在间距较小时, GV0/GV0结构比同样间距下GV/GV结构的近场辐射热流均有所增加, 如d = 10 nm时GV0/GV0结构的辐射热流达到38088.43 W/m2 (图2(a) C点), 是GV/GV结构(图2(a) A点)的8.6倍. 而随着间距逐渐增大, 差距越来越小, 在真空间距大于600 nm以后, GV/GV结构的近场辐射热流值会大于同样间距下GV0/GV0结构. 图2(a)的内插图表示GV/GV结构和GV0/GV0结构在间距d = 900 nm时, 角频率对光谱辐射通量的影响. 从图2(a)的内插图中可以看出, 两种结构下VO2薄膜的SPhP对近场辐射热流起主要作用, 而此时GV/GV结构VO2薄膜的SPhP要优于GV0/GV0结构, 特别是在7.3 × 1013 rad/s附近的中频率段和大于1.5 × 1014 rad/s的高频率段, GV/GV结构的光谱辐射通量比GV0/GV0结构有几个数量级的增强.
图 2 (a) 真空间距对辐射热流的影响; (b) 真空间距d = 10 nm, 石墨烯化学势$\mu = 0.1$ eV时的光谱辐射通量
Figure2. (a) Heat flux in different structures at different vacuum spacing; (b) spectral heat flux with d = 10 nm and $\mu = 0.1$ eV.

图2(b)的结果表明GV/GV结构(红色虚线)和GV0/GV0结构(蓝色实线)产生的光谱辐射通量相对于V/V结构(黑色点画线)都有数量级的增强. GV/GV结构中在7 × 1013, 1.0 × 1014, 1.3 × 1014和1.5 × 1014 rad/s都出现了峰值. 这是由于石墨烯的加入使得石墨烯的SPP与块状VO2中SPhP产生相互耦合作用, 光谱辐射通量有明显增强. 在GV0/GV0结构中, 除了在上述GV/GV结构出现峰值的频率段处出现了频率范围更宽、光谱辐射通量更明显的峰值外, 在3 × 1013—4 × 1013 rad/s低频率段还出现新的峰值, 此部分产生的主要原因是在薄膜厚度较小时, 石墨烯之间SPP的作用增强, 对辐射热流起主要作用. 在图3中可以直观的看到上述现象, 与之对应的是图3(c)中在低于5 × 1013 rad/s的低频段和1.5 × 1014—2.1 × 1014 rad/s的高频段出现面积较大的明亮波段. 这也说明在d = 10 nm时石墨烯SPP与VO2薄膜的SPhP相互耦合作用要比石墨烯与块状VO2耦合作用强很多.
图 3 (a)?(e) $\mu = 0.1$ eV时光子隧穿概率的等值线图, 其中(a), (b)为 GV/GV结构, (c)?(e)为 GV0/GV0结构; (f) $\mu = 0.6$ eV时GV/GV结构的光子隧穿概率的等值线图
Figure3. (a)?(e) Photon tunneling probability at $\mu = 0.1$ eV: (a), (b) GV/GV structure; (c)?(e) GV0/GV0 structure; (f) photon tunneling probability at $\mu = 0.6$ eV.

图3(a)(e)均表示$\mu = 0.1$ eV时光子隧穿概率的等值线图, 其中图3(a)图3(b)表示GV/GV结构, 图3(c)(e)表示GV0/GV0结构; 图3(f)表示$\mu = 0.6$ eV时GV/GV结构的光子隧穿概率的等值线图. 比较图3(a)图3(b)可以看出, GV/GV结构中随着真空间距从10 nm变化到100 nm, 明亮波段的面积明显减小, 这是由于石墨烯SPP的作用随着间距增大会逐渐减弱, 使得辐射热流随真空间距的增大逐渐减小. 在图中标注的条件下, 图3(c)图3(a)相比较可以看出, 图3(c)的明亮带面积要明显多于图3(a), 这更直观地表明, 一定厚度(dh = 30 nm)的VO2薄膜SPhP跟石墨烯SPP相互耦合作用要优于块状VO2. 图3(c)(e)相比较可以看出, 在GV0/GV0结构中石墨烯化学势和VO2薄膜厚度一定($\mu = 0.1$ eV, dh = 30 nm)时, 随着真空间距增大, 明亮波段的面积明显减小, 表明真空间距增大会减弱石墨烯间SPP的作用, 同时VO2薄膜SPhP跟石墨烯SPP相互耦合作用也会变弱, 最终导致明亮波段面积减小, 此结果与图2(a)中计算GV0/GV0结构的辐射热流得到的结果一致.
图2(a)中可以看出, 当d = 10 nm时GV0/GV0结构(dh = 30 nm)的辐射热流是GV/GV结构(dh为无限厚)的8.6倍, 所以薄膜厚度变化也是影响近场辐射热流的较大因素. 图4(a)表示不同的石墨烯化学势情况下, 辐射热流随VO2薄膜厚度变化的曲线图, 图4(b)d = 10 nm, $\mu = 0.1$ eV时不同VO2薄膜厚度的光谱辐射通量. 从图4(a)中可以看出在化学势$\mu = 0.1$—0.6 eV范围内, 辐射热流随均着VO2薄膜厚度增大而减小, 而在同样的化学势下, VO2薄膜厚度的变化对辐射热流影响相对较小. 图4(a)中最顶端的黑色方块曲线表示在d = 10 nm, $\mu = 0.1$ eV时, 薄膜厚度从30 nm增大到500 nm, 即图4(a)B点的辐射热流相比A点(A点的辐射热流为38088.43 W/m2)仅减小了2858.26 W/m2, 减小幅度相对较小. 从图4(b)中可以看出, VO2薄膜厚度对光谱辐射通量的影响主要集中在小于5 × 1013 rad/s的低频率段, 形成峰E, 在此频率段随着薄膜厚度逐渐增大, 光谱辐射通量会有明显减小. 在大于5 × 1013 rad/s的频率段(如峰F和峰G形成的频率段), 随着薄膜厚度逐渐增大也可以看出与峰E频率段相似的规律, 但是光谱辐射通量减小的幅度相比峰E处会小很多. 这是由于在小于5 × 1013 rad/s的低频率段起主要作用的是石墨烯的SPP, 随着薄膜厚度增加会减弱两个石墨烯SPP的耦合, 使其对光谱辐射通量的影响逐渐减小. 在峰F和峰G形成的频率段, 总体上石墨烯SPP和VO2薄膜的SPhP相互耦合使得VO2的本身的频带变宽, 光谱辐射通量明显增强. 而随着薄膜厚度增加, 石墨烯之间的SPP耦合减小的同时, 石墨烯SPP和VO2薄膜的SPhP相互耦合也减小, 就使得光谱辐射通量呈变小的规律. 为了更加直观说明上述现象, 绘制了图5(a)(d)分别表示不同物性参数下GV0/GV0结构的光子隧穿概率的等值线图. 比较图3(c), 图5(a)图5(b)可以看出在$\mu = 0.1$ eV时, 薄膜厚度从30到100 nm再到500 nm变化过程中, 小于5 × 1013 rad/s的低频率段的明亮波段面积有明显的减小, 而其余频率段变化相对较小.
图 4 (a) 不同的石墨烯化学势情况下, 辐射热流随VO2薄膜厚度变化的曲线图; (b)不同VO2薄膜厚度时的光谱辐射通量
Figure4. (a) Heat flux at different graphene chemical potentials on different thickness of VO2 film; (b) spectral heat flux at different vanadium dioxide film thickness.

图 5 GV0/GV0结构光子隧穿概率的等值线图 (a), (b) $\mu = 0.1$ eV; (c), (d) $\mu = 0.6$ eV
Figure5. Photon tunneling probability of GV0/GV0 structure: (a), (b) $\mu = 0.1$ eV; (c), (d) $\mu = 0.6$ eV.

石墨烯化学势的变化可以直接影响石墨烯的电导率, 从而最终影响了近场辐射热流. 首先如图4(a)所示, 当d = 10 nm, 化学势($\mu$ = 0.1—0.6 eV)逐渐增大时, 辐射热流随VO2薄膜厚度的变化. 图4(a)中可以看出随着化学势逐渐增大, 薄膜厚度dh从30 nm增大到500 nm而引起的辐射热流的减小量会变得相对较小, 特别是在$\mu = 0.6$ eV时(玫红色左三角形线), 图4(a)C点到D点仅减小了800.49 W/m2, 这一现象从图5(c)图5(d)中的dh = 30 nm和500 nm的明亮带面积没有明显的变小可以直观地看出. 薄膜厚度相同时, 随着石墨烯化学势逐渐增大, 近场辐射热流数值变化较大. 图4(a)中当dh = 30 nm, $\mu = 0.1$ eV时(图4(a)A点)的辐射热流为38088.43 W/m2, 是$\mu = 0.6$ eV时(图4(a)C点)辐射热流11399.80 W·m–2的3.3倍. 从图3(c)图5(a), (b)中明亮带的面积比较可以更加直观地看出, VO2薄膜厚度从30到100 nm再到500 nm变化时, 随着厚度增加明亮带的面积有所减小, 但是减小的幅度要比图3(c)(e)中由于间距逐渐增大而引起的明亮带面积的变化小. 由此可以看出, 厚度一定时(本文中特别是dh = 30 nm时), 化学势对于近场热辐射有较大的影响. 图2(a)的结果表明真空间距对辐射热流的影响在100 nm之内变化比较大, 所以如图6所示, 我们继续在d = 10—100 nm范围内研究在不同的石墨烯化学势下, 真空间距对辐射热流的影响, 图6(a)图6(b)分别表示GV/GV结构和GV0/GV0结构(dh = 30 nm). 从图6(a)中可以看出, 间距d = 10—40 nm范围内辐射热流下降幅度较大, 在d > 40 nm后, 曲线的变化开始趋于平缓. 辐射热流值在d = 10 nm, $\mu = 0.1$ eV时最大达4426.74 W/m2 (图6(a) A点), 约是同间距下$\mu = 0.6$ eV时(图6(a) B点)的5.3倍, 从图3(f)明亮波段的面积比图3(a)的有明显减小可以更直观地看出. 随着间距增大, 在$\mu = 0.1$ eV辐射热流下降幅度也是最大的, 但是始终是大于同间距下其他化学势的辐射热流. 在$\mu = 0.6$ eV时, 间距从10 nm变化到100 nm (从图6(a) B点到D点), 辐射热流减小了725.80 W/m2, 约是同条件下$\mu = 0.1$ eV时(从图6(a) A点到C点)减小量的2/11, 该理论分析可辅助实验人员在对GV/GV结构的实验研究与实际应用中, 多关注石墨烯化学势对辐射热流的影响. 图6(b)可以看出, GV0/GV0结构总体的变化规律与GV/GV结构类似, 但值得注意的是在GV0/GV0结构下, 虽然当间距d < 40 nm, 化学势$\mu = 0.1$ eV时会产生较大的辐射热流值, 但是随着间距增加, 辐射热流下降幅度也较大, 在间距d > 40 nm以后, 化学势从$\mu$ = 0.1—0.6 eV, 辐射热流几乎相同, 变化很小. 由此可知化学势对GV0/GV0结构的影响主要集中在较小的间距内, 该结果对GV0/GV0结构的实验与应用有一定的指导意义, 亦可辅助实验人员进行更加深入的研究和探索.
图 6 在石墨烯不同的化学势情况下, 真空间距对辐射热流的影响 (a)表示GV/GV结构; (b)表示GV0/GV0结构
Figure6. Heat flux with different vacuum spacing at different graphene chemical potentials: (a) GV/GV structure; (b) GV0/GV0structure.

本文在室温下, 对半导体态VO2和石墨烯进行近场热辐射研究. 提出了V/V结构、GV/GV结构和GV0/GV0结构, 主要研究了结构间真空间距、VO2薄膜厚度和石墨烯化学势三种参数对上述结构近场热辐射的影响, 对不同的参数和不同结构之间的近场热辐射热流以及光子隧穿概率进行了计算比较, 得出以下结论:
1) 在文中三种结构的计算中, d = 10 nm时, GV0/GV0结构的辐射热流相对最高可达38088.43 W/m2 (图2(a) C点), V/V结构相对最低为127.21 W/m2 (图2(a) B点), 说明石墨烯的加入可以明显增强VO2的近场热辐射;
2) 在d = 10—1000 nm真空间距下的三种结构, 辐射热流均随真空间距的增大逐渐减小, 且在间距越小时, 三种结构辐射热流差值越大;
3) 石墨烯化学势的变化可以很大程度影响近场热辐射流, 在计算中, 薄膜厚度越小, 变化越大. 在石墨烯化学势$\mu = 0.1$ eV时, 薄膜厚度从30—500 nm (图4(a) A点至B点), 辐射热流最大变化了2858.26 W/m2, 而在薄膜厚度为30 nm时, 石墨烯化学势从$\mu$ = 0.1—0.6 eV (图4(a) A点至C点), 辐射热流变化为26688.64 W/m2. 所以选取较小的VO2薄膜厚度通过调节石墨烯的化学势可大范围调节近场热辐射热流;
4) 在不同的石墨烯化学势下, 辐射热流都随着VO2薄膜厚度增大而减小; 在同样的化学势下, VO2薄膜厚度变化对辐射热流影响相对较小; 由薄膜厚度变大引起的辐射热流变化的幅度比由于间距变大而引起辐射热流变化要小.
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    本站小编 Free壹佰分学习网 2022-09-19
  • Fe-Cr合金辐照空洞微结构演化的相场法模拟
    摘要:Fe-Cr合金作为包壳材料在高温高辐照强度等极端环境下服役,产生空位和间隙原子等辐照缺陷,辐照缺陷簇聚诱发空洞、位错环等缺陷团簇,引起辐照肿胀、晶格畸变,导致辐照硬化或软化致使材料失效.理解辐照缺陷簇聚和长大过程的组织演化,能更有效调控组织获得稳定服役性能.本文采用相场法研究Fe-Cr合金中空 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 激光诱导击穿光谱技术结合神经网络和支持向量机算法的人参产地快速识别研究
    摘要:利用激光诱导击穿光谱技术结合机器学习算法,对东北5个产地(大兴安岭、集安、恒仁、石柱、抚松)的人参进行产地识别,建立了主成分分析算法分别结合反向传播(BP)神经网络和支持向量机算法的人参产地识别模型.实验采集了5个产地人参共657组在200—975nm的激光诱导击穿光谱,经光谱数据预处理后,对 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 本征磁性拓扑绝缘体MnBi<sub>2</sub>Te<sub>4</sub>电子结构的压力应变调控
    摘要:由于MnBi2Te4电子结构具有对晶格常数的改变相当敏感的特性,本文采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对MnBi2Te4反铁磁块体的电子结构施加等体积应变调控.研究发现体系能带结构在材料等体积拉伸和压缩作用下变化灵敏,体系出现绝缘体-金属相变.特别地,当施加特定应变后导带和价带在Γ处出现交叉 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 基于等离激元多重杂化效应的光吸收结构
    摘要:近年来,以聚合物为代表的高分子材料由于具有比其他光吸收材料(如半导体材料、碳基材料以及贵金属纳米材料)更好的柔性和粘弹性而受到广泛关注.本文基于等离子体再聚合技术和磁控溅射工艺在聚合物材料层上制备了具有等离激元多重杂化效应的光吸收结构,该结构具有宽谱高吸收特性.该结构的制备工艺简单易行,对不同 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 考虑自旋-轨道耦合效应下SeH<sup>–</sup>阴离子的光谱和跃迁性质
    摘要:采用高精度的从头算方法研究了SeH–阴离子的基态(X1Σ+)和低激发(a3Π,A1Π,b3Σ+,21Σ+)的势能曲线、偶极矩和跃迁偶极矩.在计算中考虑了价-芯(CV)电子关联、Davidson修正、标量相对论修正和自旋-轨道耦合效应(SOC).考虑了SOC效应后,${{m{b}}^3}\S ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 锆铌合金的特殊准随机结构模型的分子动力学研究
    摘要:锆合金(如:锆铌(Zr-Nb)合金)的辐照损伤问题是裂变堆结构材料和燃料棒包壳材料设计的关键,而深入理解辐照损伤的物理机制,往往需借助于原子尺度的计算模拟,如:分子动力学和第一性原理等.针对随机置换固溶体合金的模拟,首先需构建能反映合金元素随机分布特征的大尺寸超胞,然而第一性原理计算量大,不宜 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 基于Rayleigh-Bloch模式的单层结构弯曲声波导
    摘要:基于一维声栅中的Rayleigh-Bloch(RB)模式基本特点,设计了一种单层结构弯曲声波导.利用有限元方法从时域和频域两方面验证了弯曲声波导的有效性,RB模式波可以沿着波导的弯曲界面传播.研究发现,由于采用了环形结构基本单元,在该波导中存在两种传播模式,分别对应能量局域在单元间(模式-1) ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 黑磷各向异性拉曼光谱表征及电学特性
    摘要:采用机械剥离法制备出层状黑磷,通过微纳加工制备0°—360°四对对称电极并以黑磷作为沟道材料的背栅型场效应晶体管,对层状黑磷的拉曼光谱及其场效晶体管的电学输运特性进行了研究.偏振拉曼图谱结果表明,黑磷的3个特征峰强度随偏振角改变呈现180°周期变化;不同角度电极源漏电流表明,黑磷在0°(180 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 双金属/TiO<sub>2</sub>纳米管复合结构中增强的光电流
    摘要:将传统半导体材料与金属微纳结构相结合,利用其表面等离激元共振效应,可有效地增强复合结构的光电转换效率,使其广泛地被用于光电化学和光电探测等领域.本文以氧化铝纳米管为模板,采用原子层沉积技术制备出高有序的TiO2纳米管,并通过电子束热蒸发技术在大孔径的纳米管薄膜中分别负载金、铝和双金属金/铝纳米 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29
  • 基于原子操纵技术的人工量子结构研究
    摘要:扫描隧道显微镜原子操纵技术是指利用扫描探针在特定材料表面以晶格为步长搬运单个原子或分子的技术.它是纳米尺度量子物理与器件研究领域一种独特而有力的研究手段.利用这种手段,人们能够以原子或分子为单元构筑某些常规生长或微加工方法难以制备的人工量子结构,通过对格点原子、晶格尺寸、对称性、周期性的高度控 ...
    本站小编 Free考研考试 2021-12-29