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--> --> -->室温条件下h-LuFeO3的铁电性不稳定, 可以通过应力使其稳定存在[13,14]. 然而采用外延应力调控h-LuFeO3铁电性能对实验条件的要求十分苛刻[15], 极大地限制了应力对h-LuFeO3的调控效果. 研究发现, 采用掺杂的方法不仅能对h-LuFeO3性能进行调控, 且能制备出铁电性在室温下稳定存在的h-LuFeO3[16-18]. 该方法对实验条件依赖小, 能够增强材料的铁电光伏相关性能. 在Lu位置置换离子半径较小的离子, 是获得稳定六角结构LuFeO3的一种重要方法. Lin等[16]通过第一性原理计算表明, Sc掺杂可以使LuFeO3更稳定, 而其多铁性不受影响. 但In离子半径比Lu和Sc都要小, 理论上InFeO3也是六角结构. Liu等[17]利用In掺杂h-LuFeO3能得到六角结构的h-Lu1–xInxFeO3 材料, X射线全谱拟合结果表明, 随着In含量的增加, 材料结构逐渐由极性的P?63cm (x = 0.4—0.6)转变为非极性的P?63/mmc (x = 0.75), 即顺电相. 而目前并未深入研究In掺杂对h-LuFeO3光学性能的影响. 本文基于密度泛函理论(density functional theory, DFT)的第一性原理计算方法对h-Lu1–xInxFeO3 (x = 0, 0.167, 0.333, 0.667)的磁结构、带隙、光吸收系数及自发极化等性质进行了研究, 揭示In掺杂对h-LuFeO3的极化性质及光学性质的影响, 为提高h-LuFeO3的铁电光伏性能提供可靠的理论依据.
3.1.晶体结构
In在h-LuFeO3的掺杂位置有两种, 分别记为P1和P2[21], 如图1(a)所示. 在包含30个原子的晶胞模型中, 有4个P1位原子和2个P2位原子, 首先讨论h-Lu1–xFexO3最稳定的磁序. 采用A型、C型、G型三种反铁磁结构和铁磁结构对相同的晶胞模型进行优化. 为了得到最稳定的晶胞结构, 以G型反铁磁序h-Lu0.833In0.167FeO3能量为基准, 比较了不同掺杂位置的In原子替换单个Lu原子对h-LuFeO3磁序的影响, 并比较了相对总能量, 结果如表1所列. 结果表明, 四种磁序中非线性G型反铁磁序的h-Lu0.833In0.167FeO3能量最低, 这与先前报道的计算结论一致[22], 且无论是P1位掺杂还是P2位掺杂均没有改变磁序. 利用(1)式计算了不同掺杂位置的掺杂形成能:
图 1 h-Lu1–xInxFeO3的球棍结构模型图 (a) P1, P2位置; (b) h-Lu0.667In0.333FeO3; (c) h-Lu0.333In0.667FeO3Figure1. Model of the ball-and-stick structure of h-Lu1–xInxFeO3: (a) P1, P2 position; (b) h-Lu0.667In0.333FeO3; (c) h-Lu0.333In0.667FeO3
| 掺杂位置 | G型/eV | C型/eV | A型/eV | 铁磁型/eV |
| 未掺 | 0 | 0.01 | 1.37 | 0.01 |
| P1 位置 | 0 | 10.38 | 3.14 | 12.51 |
| P2 位置 | 0 | 0.03 | 0.25 | 1.41 |
表1不同磁序下不同位置的In掺杂相对能量变化
Table1.Relative energy changes of In doping at different positions under different magnetic orders.
由于本征InFeO3稳定相是顺电相P?63/mmc, 计算时控制了In∶Lu最高为2∶1. h-LuFeO3的P1位置比P2位置更容易掺杂, 故均选择In原子替换P1位原子, In∶Lu分别为1∶2和2∶1时, 对应的晶胞优化结果如图1(b)和图1(c)所示. 以非线性G型反铁磁序的h-Lu0.833In0.167FeO3能量为基准, 比较了不同磁序的晶胞结构优化后相对能量的变化, 结果如表2所列. 随着掺杂浓度的提高, h-Lu1–xInxFeO3 (x = 0.333, 0.667)磁序未发生变化, 非线性G型反铁磁序的h-Lu0.833In0.167FeO3能量最低.
| 材料 | G型/eV | C型/eV | A型/eV | 铁磁型/eV |
| h-Lu2/3In1/3FeO3 | 0 | 0.0126 | 0.8604 | 0.8604 |
| h-Lu1/3In2/3FeO3 | 0 | 0.0096 | 0.8952 | 0.9487 |
表2In∶Lu为1∶2和2∶1时h-Lu1–xInxO3不同磁序的相对能量
Table2.Relative energy of h-Lu1–xInxO3 with different magnetic sequencewhen In∶Lu is 1∶2 and 2∶1.
确定了最稳定的磁序后, 计算P1位的In掺杂对h-LuFeO3晶格参数的影响, 与先前实验报道的h-LuFeO3晶格参数进行对比, 结果如表3所列, 表明非线性G型反铁磁序h-Lu0.833In0.167FeO3结构优化结果与实验值符合较好. 随着In原子含量的提高, h-Lu1–xInxFeO3晶胞沿c轴拉伸, c/a比从1.94增加到2.04, 这有利于材料自发极化率的增强. 而晶胞略微缩小, 我们猜测可能是由于In的离子半径比Lu离子半径小造成的.
| 材料 | 晶格常数/? | 体积/?3 | 轴角/(°) | ||||
| a | b | c | α | β | γ | ||
| (h-LuFeO3)[15] | 5.965 | 5.965 | 11.702 | ||||
| (h-LuFeO3)[23] | 5.985 | 5.985 | 11.770 | ||||
| h-LuFeO3 | 6.067 | 6.067 | 11.756 | 374.926 | 90.000 | 90.000 | 119.993 |
| h-Lu0.833In0.167FeO3 | 6.042 | 6.042 | 11.880 | 374.770 | 90.047 | 90.004 | 120.214 |
| h-Lu0.667In0.333FeO3 | 6.005 | 6.007 | 11.935 | 372.221 | 90.014 | 90.033 | 120.166 |
| h-Lu0.333In0.667FeO3 | 5.922 | 5.923 | 12.119 | 367.516 | 89.999 | 90.001 | 120.173 |
表3h-Lu1–xInxO3的结构优化结果
Table3.Structure optimization results of h-Lu1–xInxO3.
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3.2.电子结构
h-Lu0.833In0.167FeO3, h-Lu0.667In0.333FeO3以及h-Lu0.333In0.667FeO3的能带图见图2. 从图2(a)可知, h-Lu0.833In0.167FeO3的带隙大小为1.16 eV, 小于实验值(2.0 eV)[24], 与先前文献中利用了Local Density Approximation (LDA), Perdew-Burke-Ernzerhof for solid (PBEsol)等方法计算的h-LuFeO3带隙对比如表4所列. 带隙偏小是因为利用DFT方法会低估材料带隙, 然而掺杂计算的主要目的是为了预测相对变化趋势, 而非研究绝对值的大小, 因此选取DFT方法并不影响最终结论.
图 2 h-Lu1–xFexO3的能带图 (a) h-Lu0.833In0.167FeO3; (b) h-Lu0.667In0.333FeO3; (c) h-Lu0.333In0.667FeO3Figure2. Energy band diagrams of h-Lu1–xFexO3: (a) h-Lu0.833In0.167FeO3; (b) h-Lu0.667In0.333FeO3; (c) h-Lu0.333In0.667FeO3
| CASTEP[22] | WIEN2K[24] | VASP[25] | 本工作 | |
| 交换关 联泛函 | LDA | GGA- PBE | GGA- PBEsol | GGA- PBE |
| U值 | 3 | 4.5 | 4.61 | 4.5 |
| 带隙/eV | 0.54 | 1.1 | 1.35 | 1.16 |
表4本工作带隙计算结果与已发表结果对比
Table4.Comparison of calculated band gap results with published results.
三种计算模型的h-Lu1–xInxFeO3导带底和价带顶均在G点, 表明h-Lu1–xInxFeO3为直接带隙半导体材料. 如图2(b)所示, 当In∶Lu = 1∶2时, 即In占据晶胞中两个P1位置时, 带隙减小到1.05 eV, 表明In原子的替换可减小材料的带隙. 由图2(c)可知, 当In∶Lu = 2∶1时, In完全占据4个P1位置, 带隙的变化并不明显, 仅下降了0.01 eV; 但此时导带底(1—2 eV范围内)杂质能级的增多有利于提升材料的光吸收系数.
为了深入研究In掺杂对h-LuFeO3带隙两端电子跃迁的影响, 分析了未掺杂h-LuFeO3和h-Lu0.333In0.667FeO3在带隙附近, 即能量在–2— 2 eV间的态密度图, 如图3所示. 由图3(a)可知, 未掺杂h-LuFeO3的导带底(1—2 eV范围内)大部分由Fe 3d轨道占据, 小部分由O 2p轨道占据; 价带顶(–1—0 eV范围内)主要是O 2p轨道占据, 而Lu对价带顶和导带底的贡献有限, 从主要占据价带顶的O 2p轨道电子转变为主要占据导带底的Fe 3d轨道电子, 表现出Fe 3d轨道与O 2p轨道的高度杂化. 因此调控Fe 3d轨道与O 2p轨道杂化程度可以影响材料的光吸收性能.
图 3 分布态密度图 (a) 未掺杂的h-LuFeO3; (b) h-Lu0.333In0.667FeO3Figure3. Distribution density of states: (a) Undoped h-LuFeO3; (b) h-Lu0.333In0.667FeO3.
图3(b)为h-Lu0.333In0.667FeO3的态密度图, 导带底(1—2 eV范围内)大部分由Fe 3d轨道占据, 小部分由O 2p轨道及In 4s轨道占据; 价带顶(–1—0 eV范围内)主要由O 2p轨道占据. 相对未掺杂的h-LuFeO3, h-Lu0.333In0.667FeO3杂质能级的出现及导带底Fe 3d轨道赝势峰强度的增大, 使材料带隙缩小, 接收价带电子的能力增强. 分析结果表明, In掺杂影响了材料Fe-O间的轨道杂化, 提高了h-Lu0.333In0.667FeO3的光吸收系数.
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3.3.光吸收性能及铁电极化强度
图4为光沿c轴入射h-Lu1–xInxFeO3的光吸收系数变化情况, 发现在1.64—2.4 eV范围内, 掺杂后的光吸收系数比未掺杂的h-LuFeO3略微减小. 但在能量大于2.4 eV区域, 材料光吸收系数随着In/Lu比值的增大而增大, 表明In掺杂能够有效提高h-LuFeO3在太阳光能量范围内的光吸收效率.
图 4 In掺杂前后h-LuFeO3光学吸收系数随入射光子能量的变化Figure4. Change of optical absorption coefficient of h-LuFeO3 with incident photon energy before and after In doping.
铁电极化是影响铁电光伏性能的另一个重要性质. 铁电光伏材料以自身铁电极化为内建电场, 增大铁电极化能够减少载流子复合概率[26], 因此缩小带隙和增大铁电极化强度是提高铁电光伏材料性能的两大研究方向. 根据伯恩有效电荷定性计算自发极化强度计算公式为[27]

图 5 不同In/Lu比的h-Lu1–xInxFeO3极化值(红色曲线)和晶格常数c/a比(蓝色曲线)Figure5. Polarization values (red curve) and lattice constant c/a ratios (blue curve) of h-Lu1–xInxFeO3 with different In/Lu ratios.
