1.Shenzhen Institute for Quantum Science and Engineering, Department of Physics, Southern University of Science and Technology, Shenzhen 518055, China 2.Shenzhen Key Laboratory of Quantum Science and Engineering, Shenzhen 518055, China
Fund Project:Project supported by the National Key R&D Program of China (Grant No. 2016YFA0301700), the National Natural Science Foundation of China (Grant No. 11925402), the Natural Science Foundation of Guangdong Province, China (Grant No. 2016ZT06D348), and the Science and Technology Innovation Commission of Shenzhen, China (Grant Nos. ZDSYS20170303165926217, JCYJ20170412152620376)
Received Date:15 June 2020
Accepted Date:29 July 2020
Available Online:15 January 2021
Published Online:20 January 2021
Abstract:Topological matters include topological insulator, topological semimetal and topological superconductor. The topological semimetals are three-dimensional topological states of matter with gapless electronic excitations. They are simply divided into Weyl, Dirac, and nodal-line semimetals according to the touch type of the conduction band and the valence band. Their characteristic electronic structures lead to topologically protected surface states at certain surfaces, corresponding to the novel transport properties. We review our recent works on quantum transport mainly in topological semimetals. The main theories describing the transport behavior of topological matters are given in different magnetic regions. Keywords:topological semimetal/ magnetoresistance/ Hall effect/ quantum limit
$ H = A(k_x{{\sigma}}_x+k_y{{\sigma}}_y)+M ( k_w^2-{{k}}^2){{\sigma}}_z, $
其中$ {{\sigma}}_{x, y, z} $是泡利矩阵, $ {{k}} = (k_{x}, k_{y}, k_{z}) $是波矢, $ A $, $ M $, $ k_w $是模型参数. 两个能带在$ (0, 0, \pm k_w) $处相交(图1). 图 1 拓扑半金属的能带结构和贝里曲率 (a)拓扑半金属的能谱示意图, $ (k_x, k_y, k_z) $为波矢, $k_{/\!/}^2 = k_x^2+k_y^2$; (b)贝里曲率矢量场, 拓扑半金属的导带和价带在外尔点处接触, 且在该处存在一对单极子. 转载自文献 [56] Figure1. The band structure and Berry curvature of the topological semimetal: (a) The energy spectrum of a topological semimetal,$ (k_x, k_y, k_z) $ is the wave vector, $k_{/\!/}^2 = k_x^2+k_y^2$; (b) the vector field of the Berry curvature. The conduction and valence bands of a topological semimetal touch at the Weyl nodes, and there is a pair of monopoles. Reproduced with permission from Ref. [56].
其中 $ \cos\theta\equiv k_z / k $, $ k = \sqrt{k_x^2+k_y^2+k_z^2} $, 得到贝里联络为$ {{A}} = (0, 0, \cos^2(\theta/2)/(k\sin\theta)) $. 由此得到贝里曲率为$ - 1/(2 k^2) \hat{e}_k $, 求得单极子荷$ {\cal{N}} = -1 $. 在另一个手性相反的外尔点处, 有效哈密顿量 $H = -v{{k}}\cdot {{\sigma}}$, 单极子荷为1. 因此, 对于双节点模型总单极子荷为零[26]. 在$ z $方向的磁场中, 外尔半金属的能谱被量子化为一组沿$ k_{z} $色散的一维(1D)朗道能带(图2(a)). 考虑沿$ z $ 方向施加磁场$ {{{B}}} = (0, 0, B) $, 选择朗道规范$ {{A}} = (-yB, 0, 0) $. 得到本征能量为[74,100-102] 图 2 在沿$ z $方向的磁场$ B $下, 外尔和狄拉克半金属的最小模型中沿$ k_{z} $色散的朗道能带. 转载自文献[74] Figure2. The Landau energy bands along the $ k_{z} $ dispersion in the minimum model of Weyl and Dirac semimetals under the magnetic field $ B $ along the $ z $ direction. Reproduced with permission from Ref.[74].
霍尔效应由于本质上与对称和拓扑的深刻联系 [95,157]已然成为凝聚态物理的基本研究范式. 所有已知的可测霍尔效应都需要磁场或磁性掺杂来破缺时间反演对称性[157-159]. 最近, 通过测量霍尔电导的零频或倍频分量对低频驱动电场的响应(图3)发现了一种新的霍尔效应[160], 即非线性霍尔效应, 其特别之处在于不需要破缺时间反演对称性, 而是破缺反演对称性. 这一新现象的发现为探索新奇物态的对称性和拓扑性质开辟了新的途径. 在文献[82]中, 我们研究了非线性霍尔效应和二维(2D)系统能带特征之间的关系. 由于非线性霍尔响应与贝里偶极子相关[160], 通过分析倾斜有质量狄拉克费米子的一般模型, 我们发现倾斜能带在反交叉和能带反转附近存在非常强的贝里偶极子, 可以给出明显的非线性霍尔信号. 图 3 测量非线性霍尔效应的示意图. 转载自文献[82] Figure3. Schematic of how to measure the nonlinear Hall effect. Reproduced with permission from Ref.[82].
在半导体-超导体纳米线中的马约拉纳零能模[163-168]总是成对出现, 并位于纳米线的两端. 由于在真实纳米线中的有限尺度效应, 马约拉纳束缚态的能量是杂化的. 杂化能量$ E_0 $因为是塞曼能量、化学势以及纳米线线长的函数而出现振荡[169-171], 称为马约拉纳振荡. 然而实验中观察到$ E_0 $作为磁场的函数[172-177]其振荡与理论预测的截然相反[170]. 我们通过假设沿纳米线的自旋轨道耦合具有阶梯状分布[84] (图4(a))解释了实验中的振荡模式[172-177] (图4(b)—图(d)). 这种自旋轨道耦合的阶梯状分布的假设是合理的, 因为栅极施加的是非均匀的静电势, 而自旋轨道耦合又取决于垂直于纳米线的静电场[178-180]. 此外, 由于超导体和半导体之间的屏蔽效应以及功函数的失配, 超导体的存在可以极大地改变纳米线中的静电场[181]. 因此, 纳米线从覆盖有超导体的部分到没有超导体的部分(隧道势垒区), 自旋轨道耦合的非均匀性是很好的理论假设, 但这一点被大多数理论所忽略, 导致了对马约拉纳振荡的理论理解困难. 图 4 (a)半导体-超导体纳米线结构示意图[172-177], 两端可能存在一对马约拉纳束缚态; (b)?(d)杂化能随着磁场变化的振荡曲线. 红色和黑色曲线为实验数据[172], 蓝色为理论曲线. 转载自文献[84] Figure4. (a) Schematic of the semiconductor-superconductor nanowire structure[172-177], its two ends may host a pair of Majorana bound states; (b)?(d) oscillation curves of hybridization energy vary with magnetic field. The red and black curves are experimental data adapted from Ref. [172]. The blue curves are the theoritical results. Reproduced with permission from Ref.[84].
表1对称类(正交、辛和幺正)[194]与弱局域化(WL)和弱反局域化(WAL)之间的关系[195]. 转载自文献 [88] Table1.The relation between the symmetry classes (orthogonal, symplectic and unitary) [194] and weak localization (WL) and anti-localization (WAL) [195]. Reproduced with permission from Ref. [88].
图5总结了用于研究量子干涉和相互作用引起的弱局域化和反局域化的费曼图[73]. 在计算中, 对电导率有贡献的主要有三项, 包括半经典的电导率(图5(a))、量子干涉修正(图5(b))以及电子-电子相互作用修正(图5(c)). 图 5 在无序(虚线)和电子-电子相互作用(波浪线)下, 计算3D外尔半金属电导率的费曼图[71,72,191,196-199], 有向直线代表格林函数. 转载自文献 [73] Figure5. In the disorder (dashed lines) and electron-electron interaction (wavy lines), the Feynman diagram[71,72,191,196-199] of the conductivity of 3D Weyl semimetal, and the directed line represents the Green's function. Reproduced with permission from Ref [73].
图6给出了理论计算得到的主要结果. 可以看出, 在没有能谷间散射的情况下, 对于较大的$ l_{\phi} $(相位相干长度), 磁导$\delta\sigma^{\rm {qi}}(B)$ 为负且与$ \sqrt{B} $ 成正比, 显示了3D外尔费米子的弱反局域化特征. 这种 $ -\sqrt{B} $ 的相关性与实验非常符合[41,42]. 随着$ l_{\phi} $变短, 从$ -\sqrt{B} $到$ -B^{2} $的变化是很明显的, 最终$ \delta^{qi}(B) $ 在 $ l_{\phi} $和平均自由程$ l_e $相等时消失, 因为该系统不再处于量子干涉状态而进入半经典扩散状态. 图 6 不同条件下的磁导$\delta\sigma^{\rm {qi}}(B)$对参数的依赖关系 (a) $\eta_{\rm I} = \eta_{*} = 0$ 时不同的相干长度$ l_{\phi} $; (b) $ \eta_{*} = 0 $时不同的$ \eta_{\rm I} $; (c)有限$ \eta_{*} $时不同的$ \eta_{\rm I} $; (d) $ \eta_{\rm I} $ 和 $ \eta_{*} $之间的差异, 其中$ \eta_{\rm I} $与能谷间散射相关, 而$ \eta_{*} $与能谷内散射相关. 虚线表示两个散射过程的相关性, $ \nu = \pm $是能谷指标. 转载自文献[73] Figure6. The dependence of magnetoconductivity $ \delta\sigma^{\rm {qi}}(B) $ on parameters under different conditions: (a) Different coherence length $ l_{\phi} $ at $ \eta_{\rm I} = \eta_{*} = 0 $; (b) different $ \eta_{\rm I} $ at $ \eta_{*} = 0 $; (c) different $ \eta_{\rm I} $ at finite $ \eta_{*} $; (d) the difference between $ \eta_{\rm I} $ and $ \eta_{*} $, where $ \eta_{\rm I} $ is correlated with intervalley scattering and $ \eta_{*} $ is correlated with intravalley scattering. The dashed lines indicate the correlation between the two scattering processes. $ \nu = \pm $ is the valley index. Reproduced with permission from Ref.[73].
24.2.双外尔半金属中的弱局域化 -->
4.2.双外尔半金属中的弱局域化
对于单一能谷连接费米球上从$ {{k}} $到$ -{{k}} $的背散射中间态的每条路径(在图7(a)中标记为$ P $), 均在原点处包含了单极子荷, 并且存在一个对应的时间反演$ P' $. 量子干涉是由两个时间反演路径$ P $和$ P' $之间的相位差决定的, 该相位差为沿$ P $和$ \bar P\equiv -P' $形成的环路累积的贝里相位[95,196,200-202], 即从$ -{{k}} $到$ {{k}} $的对应路径: 图 7 3D拓扑半金属动量空间中的费米球, 其中位于原点的点表示单极子荷$ {\cal{N}} $ (a) $ P $表示从波矢$ {{k}} $到标记为(${{k}}_1, {{k}}_2, \cdots, {{k}}_n$)的中间态的背散射, $ P' $ 表示$ P $的时间反演; (b) $ P $ 和$ P' $ 之间的相位差等效于在环路 $ {\cal{C}} = P+\bar{P} $周围累计的贝里相位. 转载自文献 [75] Figure7. The Fermi sphere in 3D topological semimetal momentum space, where the dot at the origin represents monopole charge $ {\cal{N}} $: (a) $ P $ is the backscattering from the wave vector $ {{k}} $ to $ -{{k}} $ via intermediate states labeled as (${{k}}_1, {{k}}_2, \cdots, {{k}}_n$), $ P' $ represents the time-reversal of $ P $; (b) the phase difference between $ P $ and $ P' $ is equivalent to the Berry phase accumulated around loop $ {\cal{C}} = P+\bar{P} $. Reproduced with permission from Ref. [75].
拓扑半金属中的手征反常[26,210,211]被广泛认为是产生负磁阻的原因[41-43,46,55,56,60,61,63,65,66,68,224]. 然而, 在无法定义手征的拓扑绝缘体中, 也可以观察到负磁阻现象, 这导致了对负磁阻进行理论解释的巨大混乱[152-155,225-228]. 在文献[80]中, 我们使用具有贝里曲率和轨道磁矩修正后的半经典玻尔兹曼方程来解释拓扑绝缘体中的负磁阻, 并与实验结果进行了定量的比较(图12). 图 12 理论计算的负磁阻与实验[152-154]的比较. 转载自文献[80] Figure12. The comparison between the theoretical negative magnetoresistance and the experiments[152-154]. Reproduced with permission from Ref. [80].
表2对于具有不同色散和维度的系统, (48)式中的相移$\phi$. $B_z$和$B_{/\!/}$是节线平面内外的磁场. $\alpha$, $\beta$, $\gamma$, δ 对应于图14中费米面的截面. 转载自文献[79] Table2.For systems with different dispersion and dimensions, the phase shift ? in Eq. (48). $B_z$ and $B_{/\!/}$ are magnetic fields outside and inside the nodal-line plane. $\alpha$, $\beta$, $\gamma$, and $\delta$ correspond to the cross sections of Fermi surface in Fig. 14. Reproduced with permission from Ref. [79].
式中$ \delta\ll 1 $为振荡部分, $ \sigma_0 $为零场电导率. 通过详细分析[74,269,274]可知, 峰的位置遵循关系式$\rho_{zz} \sim \sigma_{zz}^{-1} \sim \sigma_{yy} \sim \rho_{xx}$, 因此$ \rho_{zz} $ 和$ \rho_{xx} $在朗道能带边缘出现的峰及其相移是相同的. 由图13可见, 数值结果与理论分析预测高度一致. 定义$ E_A = A k_w $和$ E_M = Mk_w^2 $, 对于$ E_M\neq E_A $, 随着拍频模式的出现, $ \phi {\text{-}} E_{\rm F} $曲线开始出现断裂. 在图13(c)中, 对于$ E_A < E_M $相移降到$ -5/8 $以下, 而不是在栗弗席兹点周围从–1/8单调地移到–5/8(即$ E_{\rm F} = E_M $), 这是因为没有简单的$ k_z^2 $依赖关系[77]. 在栗弗席兹点, 可以解析地证明相移为$ -9/8 $, 这与图13(c)中的相移一致. 它相当于$ -1/8 $, 通常认为它起源于大小为$ \pi $的贝里相位. 图 13 对于(1)式描述的外尔半金属, 数值(散点)和解析(实线)得到的频率$ F $的曲线 (a)固定$ M $对应不同的$ A $; (b)固定$ A $对应不同的$ M $. (c)固定$ E_M $ 不同的$ E_A $ 对应的相移$ \phi $的曲线. 曲线断裂是因为在拍频模式出现时, F和$ \phi $无法拟合. 垂直虚线表示栗弗席兹点. 转载自文献[77] Figure13. For the Weyl semimetal described in Eq. (1), the frequency $ F $ obtained by numerical (scatters) and analytical (solid curves): (a) Fixed $ M $ corresponds to different $ A $; (b) fixed $ A $ corresponds to different $ M $. (c) Fixed $ E_M $, for different $ E_A $ corresponds to the curve of phase shift $ \phi $. The curve breaks because $ F $ and $ \phi $ can not fit when beating patterns occur. The vertical dashed lines represents the Lifshitz point. Reproduced with permission from Ref.[77].
表3从Cd3As2的实验中得到的相移$\phi_{\exp}$. 转载自文献[77] Table3.The phase shift $\phi_{\exp}$ obtained from the experiment of Cd3As2. Reproduced with permission from Ref. [77].
表4节线半金属的相移$\phi$. $\alpha, \beta, \gamma, \delta$ 是图14中的极值截面. 转载自文献[79] Table4.The phase shift $\phi$ of the nodal-line semimetal. $\alpha, \beta, \gamma, \delta$ are the extremal cross sections in Fig. 14. Reproduced with permission from Ref. [79].
图 14 (a) (17)式中节线半金属的节线(虚线环), 轮胎状和鼓形费米面, $ E_{\rm F} $是费米能, $ u $ 是模型参数; (b)轮胎状费米面在节线平面内的最大($ \alpha $)和最小($ \beta $)截面; (c)轮胎状费米面在节线平面外的最大($ \gamma $)和最小($ \delta $)截面. 转载自文献[79] Figure14. (a) In the model of nodal-line semimetal Eq.(17), the nodal line (dashed ring), torus and drum Fermi surface, $ E_{\rm F} $ is Fermi energy, $ u $ is model parameter; (b) the maximum ($ \alpha $) and minimum ($ \beta $) cross sections of the torus Fermi surface; (c) the maximum ($ \gamma $) and minimum ($ \delta $) cross sections of the Fermi surface outside the nodal-line plane. Reproduced with permission from Ref. [79].
2D量子霍尔效应的发现打开了拓扑物态领域的大门[157,279]. 在3D电子气中, 由于沿磁场方向的波矢$ k $是好量子数, 量子霍尔效应通常只能在2D系统中观察到[157,256,280-282]. 在文献[78,283]中, 我们描述了拓扑半金属中的3D量子霍尔效应. 拓扑半金属在平行于外尔点方向的表面处有拓扑保护的表面态, 即费米弧[284,285-288](图15(a)和图15(b)). 图 15 (a)外尔半金属中的费米弧和体态的色散, $ k_{/\!/} $表示$ (k_x, k_y) $; (b)在$k_z\text-k_x$平面上$ y = L/2 $, $ E_{\rm F} = E_w $处的费米弧; (c)宽度为$ W $, 厚度为$ L $的外尔半金属板; (d)在$E_{\rm F} = E_w$处的费米弧(实线); (e)?(g)波函数在$ k_z = 0 $处沿$ y $轴的分布; (h) 3D量子霍尔效应中的朗道能级和边缘态; (i)单一表面的电子无法被y方向的磁场$ B $驱动完成一个完整的回旋运动. 转载自文献[78,283] Figure15. (a) The energy dispersions of the Fermi arc and bulk states in a Weyl semimetal, $ k_{/\!/} $ stands for $ (k_x, k_y) $; (b) the Fermi arc at $ y = L/2 $ and $ E_{\rm F} = E_w $ in the $ k_z\text-k_x $ plane; (c) a Weyl semimetal slab with width $ W $ and thickness $ L $; (d) Fermi arc (solid) at $ E_{\rm F} = E_w $; (e)?(g) the distribution of wave function along $ y $-axis at $ k_z = 0 $; (h) the Landau levels and edge states in the 3D quantum Hall effect; (i) an electron in single surface could not be driven in a y-direction magnetic field $ B $ to perform a complete cyclotron motion. Reproduced with permission from Refs. [78,283].
单一表面上, 费米弧无法形成一个闭合的费米环, 而这一点对量子霍尔效应至关重要. 然而, 在外尔半金属中, 来自相反表面的费米弧(图15(c))可以形成所需的闭合费米环(图15(d)). 电子通过外尔点在相对表面的费米弧之间实现隧穿(图15(e)—图15(g)), 通过这一机制电子可以完成完整的回旋运动, 从而实现3D量子霍尔效应. 在实际材料中, 隧穿距离受平均自由程的限制, 在高迁移率的拓扑半金属[60,103]中, 平均自由程大约为$ 100\; {\rm {nm}} $, 在一些材料中甚至可以达到$ 1$ μm[289], 在我们的计算中块体厚度为100 nm. 为使量子霍尔效应仅来自费米弧的贡献需将费米能级调到外尔点上来耗尽体态载流子[290]. 外尔半金属TaAs家族[291-295]和狄拉克半金属Cd3As2和Na3Bi具有量子霍尔效应所要求的极高迁移率[46,48,50,51,54]、低载流子密度[224]等特性. 通过费米弧的3D量子霍尔效应预计可以存在于Cd3As2[224,296-298], Na3Bi以及TaAs家族的材料中[61,290]. 根据久保(Kubo)公式, 我们计算了霍尔电导[78,299-303]. 当费米能远离外尔点时, 霍尔电导服从通常的$ 1/B $依赖关系. 当费米能向外尔点移动时, 开始出现$ \sigma_{\rm H}^s $ 的量子化平台. 从图15(c)可见, 费米弧的边界态具有独特的3D空间分布. 具体而言, 上边界态向左传播(绿色箭头), 下边界态向右传播(橙色箭头). 这种费米弧边缘态的独特3D分布可以通过扫描隧道显微镜[304]或微波阻抗显微镜[305]来探测. 与拓扑绝缘体[281,282] 不同, 基于费米弧的量子霍尔效应需要两个表面的共同作用. 最近的工作[306]系统地探讨了外尔半金属中3D量子霍尔效应的边缘态图像. 外尔半金属中不同手性外尔点处的速度相反, 强磁场使体态进入手征朗道能带, 这一点显著地影响了边缘态的载流子输运. 除了上下表面的费米弧通过隧穿形成一个闭环[78]外, 在磁场作用下拓扑半金属中还观察到其他奇异的量子霍尔现象[296,307,308]. 在垂直磁场$ {{B}} $中, 基于半经典运动方程从理论上给出了边缘态的闭合3D轨道. 在$ x $方向, 由于手征朗道能带的影响, 上(下)表面费米弧态的半圆轨道形成跳跃边缘态. 在$ z $方向, 手征朗道能带和侧面的费米弧态共同构成闭合轨道. 此外, 由于手征朗道能带沿磁场方向色散, 边缘态的量子通道可以由倾斜的磁场控制, 导致边缘态的分布和霍尔电导的行为发生了显著的变化. 当调整$ {{B}}_z $并保持$ {{B}}_y $不变时, 边缘态的位置会从一侧变化到另一侧, 霍尔电导也随之改变符号. 文献[306]利用数值方法进一步分析了局域态密度分布, 以及霍尔电导随磁场大小和方向的变化. 3D量子霍尔效应也可以由电荷密度波(CDW)机制[309]实现, 最近在ZrTe5[310]的实验中观察到了这一机制, 并看到了清晰的量子化平台. 在文献[87]中我们详细地探讨了这一机制, 并给出了一个完备的理论可以解释实验的主要特征. 我们发现电荷密度波可以在1D的朗道能带上产生, 而且强烈依赖于磁场的大小. 磁场诱导了3D电子气向电荷密度波相的二阶相变, 导致朗道能带打开一个能隙从而使体态绝缘, 即3D电子气变为一系列的2D量子霍尔态, 从而实现3D量子霍尔效应(图16). 图 16 左图: 2D电子气在磁场中形成量子霍尔态. 中间图: 3D时朗道能级变为一系列2D的朗道能带. 右图:电荷密度波使朗道能带打开能隙, 使体态绝缘, 可以观察到3D量子霍尔效应. 转载自文献[87] Figure16. Left: the quantum Hall state in 2D electron gas under magnetic field. Center: in 3D, the Landau levels turn to one dimensional Landau bands. Right: the charge density wave gap the Landau band, so that the bulk is insulating and the 3D quantum Hall effect can be observed. Reproduced with permission from Ref. [87].
其中$B_{0} = \hbar/(2 ed^{2})$. 可见, 磁导是由杂质势的范围给出的, 与模型参数无关. 这意味着对外尔半金属有$ \hat{{z}} $方向的正线性磁导. 通过数值计算发现, 对于长程无序系统也具有正的磁导, 尽管对于弱的短程无序, 系统往往趋向于具有负的磁导[40]. 图17给出了不同极限下的纵向和横向磁导. 特别地, 图17(f)中长程势极限下的$ \sigma_{xx}\propto1/B $. 垂直于$ x{\text{-}}y $平面的场中, 还存在霍尔电导率$\sigma_{yx} = {\rm{sgn}}(M)(k_w/\pi)e^{2}/h+en_{0}/B$, 其中第一项是反常霍尔电导率, 第二项是经典电导率. 在弱场中, 经典霍尔效应占主导地位, $ \sigma_{xx} $和$ \sigma_{yx} $都与$ 1/B $成正比, 在磁场$ B $中电阻$ \rho_{xx} = \sigma_{xx}/(\sigma_{xx}^{2}+\sigma_{yx}^{2}) $是线性的. 注意, 这里垂直场中的线性磁阻与以前的机制并不相同[274,317]. 图 17 不同的势范围下, 外尔半金属在$ \hat{{z}} $方向磁场B中的纵向电导率$ \sigma_{zz} $和横向电导率$ \sigma_{xx} $. 转载自文献[76] Figure17. The longitudinal conductivity $ \sigma_{zz} $ and transverse conductivity $ \sigma_{xx} $ of the Weyl semimetal in the $ \hat{{z}} $-direction magnetic field B under the different potential ranges. Reproduced with permission from Ref. [76].
27.2.量子极限下的背散射禁止 -->
7.2.量子极限下的背散射禁止
拓扑绝缘体作为拓扑物态中最先被关注的体系, 为探索奇异的拓扑物态[318-325] 提供了诸多线索. 在强磁场中, 2D拓扑绝缘体的最低朗道能级相互交叉, 该特征可以作为量子自旋霍尔相的标志[326,327]. 同样在2D情况下, 干涉效应[328]也可以用来探测量子自旋霍尔相. 然而在3D时, 如何利用最低朗道能带来识别拓扑绝缘体却很少被讨论. 在文献[81]中, 我们研究了3D拓扑绝缘体在强场量子极限下的磁阻(图18(b)). 在临界磁场中, 背散射在量子极限下被完全抑制, 这一效应可以用来识别拓扑绝缘体. 不过这种禁止的背散射在拓扑半金属中是不存在的[74,76,238]. 这一理论与最近的实验展现出惊人的一致性(图18(c)和图18(d)). 此外, 这一机制可以很好地应用于那些能隙较小的材料, 例如ZrTe5[329,330]和Ag2Te [331]. 图 18 (a) 3D拓扑绝缘体的零场能谱($ k_x = k_y = 0 $); (b)在强磁场中, 费米能只穿过$ 0+ $朗道能带; (c)实验测得Pb1–xSnxSe的磁阻[226]; (d)理论计算出的磁阻. 转载自文献[81] Figure18. (a) The zero field energy spectrum of 3D topological insulator ($ k_x = k_y = 0 $); (b) in a strong magnetic field, fermi energy $ E_{\rm F} $ can only crosses the $ 0+ $ Landau energy band; (c) the magnetoresistance of Pb1–xSnxSe in experiment[226]; (d) the theoretical calculated magnetoresistance. Reproduced with permission from Ref. [81].
其中 ${\cal{M}}_\nu \equiv M_1 \Big[k_{\rm c}^2- k_{/\!/}^2 - \dfrac{2}{l_B^2} (\nu + {1}/{2})\Big]$. 通过数值求解得到$x{\text{-}}z$平面上任意方向的能谱. 图19给出了外尔半金属的朗道能带. 当磁场沿$ z $方向($ \theta = 0 $)时, 最低的朗道能带(红色)穿过费米能(虚线). 随着磁场从$ z $方向旋转到$ x $方向($ \theta = \pi/2 $), 最低朗道能带发生了移动. 当磁场沿$ x $方向时, 朗道能带的能谱是粒子-空穴对称的, 并且由于外尔费米子之间的耦合存在一个能隙. 这就是为什么在外尔半金属TaP[64]的强场量子极限下, 霍尔电阻出现明显的符号反转. 由于能隙的存在, 外尔费米子获得质量并失去其手性. 由于具有手性和无质量是外尔费米子的两个主要特征, 因此霍尔信号表明外尔费米子被湮灭. 图 19 外尔半金属在垂直$ y $方向的磁场$ {{B}} $中的朗道能带, 其中$ k_{/\!/}\equiv k_x\sin\phi+k_z\cos\phi $为平行于$ {{B}} $的波矢, $\tan\phi = B_x/B_z$. 红色曲线是第0个朗道能带, 虚线是费米能. 转载自文献[70] Figure19. The Landau energy band of Weyl semimetal in the magnetic field $ {{B}} $ perpendicular to the $ y $ direction, where $ k_{/\!/}\equiv k_x\sin\phi+k_z\cos\phi $ is the wave vector parallel to $ {{B}} $, $ \tan\phi = B_x/B_z $. The red curve is the $ 0 $th Landau energy band, and the dashed line represents the Fermi energy. Reproduced with permission from Ref. [70].
其中$\varGamma \!=\! 2\varLambda l_B/(v_b\sqrt{2\varDelta})$, $ -\varLambda $代表价带的截断能, $\delta \!=\! (v_a/v_b)\cos\alpha \cos\theta+(v_c/v_b) \sin \alpha \sin\theta$, 在这里$ \alpha = \tan ^{-1} \big[ (v_{c}/v_{a}) \tan \theta \big]$. 当较高外尔锥的磁化被猝灭时[338], 非饱和磁化来自量子极限下被视为负能带的较低外尔锥. 量子极限下的磁化行为不依赖于具体的材料参数, 这是一个普遍性的特征. 图20给出了在强磁场中对TaAs样品进行测量得到的$M_{/\!/}$和$ M_{\rm{T}} $. 由图可见实验数据可以很好地用(60)式和(61)式进行拟合. 我们对3D外尔费米子的理论计算再现了弱场中的德哈斯-范阿尔芬(dHvA)振荡以及量子极限下$M_{/\!/}$显著增强的行为. 需要强调的是, 不同于非相对论性电子的饱和磁化, 对于固定$ E_{\rm F} $和固定$ N_{\rm{c}} $两种情况$M_{/\!/}$和$ M_{\rm{T}} $在强磁场中均给出了类似的趋势. 图 20 实验与理论的比较 (a) $M_{/\!/}$(黑线); (b)$ M_{\rm T} $(黑线). 转载自文献[85] Figure20. Comparison between experiments and theory for the $M_{/\!/}$ and $ M_{\rm T} $ of TaAs: (a) $M_{/\!/}$(black line); (b) $ M_{\rm T} $(black line). Reproduced with permission from Ref. [85].
27.5.反常热电效应 -->
7.5.反常热电效应
热电效应是对材料拓扑性质更敏感的一种探测手段. 非平庸电子的存在导致拓扑材料呈现出反常的热电行为. 在较高的磁场下, 能斯特信号在热电势接近零的临界磁场处出现符号反转. 在强场量子极限下, 热电势和能斯特信号都呈现出奇异的峰值. 我们认为这些反常行为可以归因于拓扑材料中第0个朗道能带的能隙闭合和能带反转[86]. 过渡金属五碲化物(ZrTe5, HfTe5等)作为非常接近拓扑相变临界的拓扑材料引起了相当大的关注[43-45,340-347]. 近40年来, 作为热电材料的ZrTe5以其巨大的热电势而闻名[348]. 然而, 关于ZrTe5在磁场中的热电性质却很少有人研究. 在存在垂直磁场和纵向热梯度的情况下, 载流子的扩散可以产生纵向电场$ E_{x} = -S_{x x} \cdot|\nabla T| $(热电势)和横向电场$ E_{y} = S_{x y} \cdot|\nabla T| $ (能斯特效应)[349]. 由于这些热电效应与电导率的导数成正比, 它们对异常的载流子输运尤为敏感, 并已被用于研究各种半金属和拓扑材料[350-359]. 我们详细探讨了ZrTe5在磁场下的热电效应[86]. 图21给出了热电势$ -S_{xx} $的温度依赖性. 高温时, 负的$ -S_{xx} $表明主要载流子是空穴. 随着温度的降低, $ -S_{xx} $在温度大约为$ T^{*} = 132 $ K时变为正, 并且电阻率达到峰值, 表明ZrTe5从$ p $型半导体转变为$ n $型半金属, 这一点与以前的研究相一致[346,360]. 由于不同迁移率的电子和空穴载流子的存在, ZrTe5在室温下表现出巨大的磁热电势. 其热电势在9 T的磁场中可增加至370 μV/K, 比大多数材料的热电势都大, 但比外尔半金属的热电势要小[361]. 图 21 零磁场下ZrTe5的电阻率$ \rho(T) $(黑色)和塞贝克系数$ –S_{x x}(T) $(蓝色)的温度依赖曲线. 插图:实验测量示意图, $ B $是磁场, $ \nabla T $是温度梯度, $ a $, $ b $和$ c $是晶轴. 转载自文献[86] Figure21. Temperature dependence of the electrical resistivity $ \rho(T) $ (black) and Seebeck coefficient $ –S_{x x}(T) $ (blue) of ZrTe$ _5 $ at zero magnetic field. Inset: the measurement setup. $ B $ is the magnetic field and $ \nabla T $ is the temperature gradient. $ a, b$ and $c$ are crystallographic axes. Reproduced with permission from Ref. [86].