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--> --> -->截断能与k点/不加自旋 | 参数 | |||
Eg/ eV | a/? | b/? | c/? | |
300 eV/2 × 2 × 2 | 0.603 | 3.162 | 12.399 | 4.809 |
300 eV/3 × 3 × 3 | 0.358 | 3.348 | 11.195 | 4.549 |
320 eV/3 × 3 × 3 | 0.455 | 3.342 | 11.418 | 4.588 |
400 eV/3 × 3 × 3 | 0.490 | 3.340 | 11.466 | 4.598 |
300 eV/4 × 4 × 4 | 0.113 | 3.239 | 11.324 | 4.597 |
截断能与k点/加自旋 | 参数 | |||
Eg/eV | a/? | b/? | c/? | |
280 eV/3 × 3 × 3 | 0.178 | 3.350 | 11.137 | 4.485 |
300 eV 3 × 3 × 3 | 0.343 | 3.370 | 11.103 | 4.515 |
320 eV/3 × 3 × 3 | 0.239 | 3.346 | 11.277 | 4.501 |
表1考虑和不考虑自旋极化、取不同截断能和不同k点时计算的黑磷体材料的能隙和晶格参数
Table1.Calculated energy gap and lattice parameters of bulk black phosphor using different cut-off energies and different k points considering or disregarding spin polarization.
对单层黑磷烯选取1 × 1 × 1, 2 × 2 × 1, 3 × 3 × 1超原胞进行收敛性测试计算. 折合成1 × 1 × 1超原胞的总能分别为–718.312, –718.578, –718.561 eV. 可见2 × 2 × 1, 3 × 3 × 1超原胞总能差异在0.01 eV量级. 为节省计算资源, 单层黑磷烯的超原胞选取2 × 2 × 1, 原胞共20个P原子. 为防止BP层间的相互干扰, 在C方向建15 ?的真空层. 我们优化了纯净的2 × 2 × 1 BP烯的结构, 得到其晶格常数为a = 4.41 ? 和b = 3.27 ?, 带隙为0.867 eV与已发表的结果相吻合[21].
缺陷和掺杂的存在会影响材料的稳定性, 其浓度与其在材料中的形成能有关. 通常较高的杂质或缺陷形成能会导致较低的浓度, 同时其稳定性也较差. 黑磷烯BP及其甲醛吸附体系中P空位和掺杂Al的形成能Ef (BP or CH2O/BP: PV), Ef (BP or CH2O/BP: AlP)分别定义为
体系的吸附能Ead可以表示为
BP烯吸附体系中, 原子的电荷可以由电荷布居分析求得, 并且体系总电荷由单个原子的电荷叠加得到[22]. 电荷转移ΔQ为
气体传感器的工作原理是气体吸附在半导体衬底的表面时, 吸附体系中会发生电荷相互转移, 从而引起电导率的变化. 电导率σ与半导体的带隙Eg之间关系为[23]
3.1.结构性质
缺陷和掺杂的存在会影响黑磷烯的传感性, 也会影响结构的稳定性. 表2给出了BP及CH2O/BP体系存在P空位、Al掺杂、或P空位-Al掺杂对的缺陷形成能. 从表2可以看出, 黑磷烯中形成Al替位掺杂比形成一个P空位要容易得多; 形成替位杂质-空位对比单独形成Al替位掺杂难, 但比单独形成P空位容易. 而对于CH2O/BP体系, 形成掺杂、空位或杂质-空位对都比BP容易. 当然, 由于形成缺陷或掺杂会使黑磷的稳定性有所下降(由于杂质缺陷形成能为正(CH2O/BP体系Al替位掺杂除外)).Ef/eV | AlP | PV | AlP + PV |
BP | 0.256 | 2.325 | 0.878 |
CH2O/BP | –0.107 | 1.631 | 0.234 |
表2BP或CH2O/BP中存在P空位、Al掺杂或P空位-Al掺杂对时的缺陷形成能
Table2.Defect formation energies of P vacancy, Al impurity, or P-vacancy and Al impurity pair in BP or CH2O/BP.
研究甲醛在本征BP烯上的吸附时, 要考虑以下几种吸附位. 空位: 在BP烯体系中空位置; 桥位: 在BP烯结构P-P键中间的位置; 顶位: 在BP烯中一个P原子的顶部正上方的位置. 甲醛分子中的C, H, O原子分别位于空位、桥位和顶位的正上方. 同时甲醛与BP烯的平面存在平行、垂直和倾斜三种取向[24]. 对以上每一种情况分别进行几何优化. 结果表明, 当甲醛中的O原子位于顶位正上方并且倾斜吸附在BP烯表面时, 此时体系能量最低最稳定, 如图1(a)所示. 优化后结构参数见表3. 甲醛中C=O键长L(C—O)为1.221 ?, O原子与BP烯平面相距D(CH2O—BP) = 3.180 ?. 由(4)式得出体系吸附能为0.179 eV (17.212 kJ/mol < 40 kJ/mol, 说明此时为物理吸附). 根据以上数据可知甲醛气体吸附在本征BP表面时气敏性很低, 不适合作为传感器材料.
图 1 (a) 本征、(b) 掺杂Al、(c) 含P空位及(d) P空位与Al掺杂共存时BP烯甲醛吸附系统超原胞
Figure1. The supercells of CH2O/BP adsorption systems: (a) Intrinsic BP; (b) Al doped BP; (c) BP containing P vacancies; (d) BP with the coexistence of P-vacancies and Al doping.
基底 | Ead/eV | D(CH2O—BP) /? | L(C—O)/? |
本征 | 0.179 | 3.180 | 1.221 |
P空缺 | 0.875 | 4.007 | 1.223 |
Al掺杂 | 0.542 | 1.840 | 1.247 |
Al掺杂P空缺共存 | 0.824 | 1.886 | 1.265 |
表3本征、P空位、Al掺杂、P空位与Al掺杂共存时BP烯吸附甲醛的优化结构参数
Table3.The optimal structure parameters of intrinsic, P-vacancy contained, Al doping, P-vacancy and Al doping coexisted BP systems adsorbed formaldehyde molecule.
掺杂Al原子时同样考虑以上三种吸附位置和三种取向. 优化结果表明, 当甲醛分子垂直吸附在BP烯表面的Al原子正上方时, 体系能量最低, 达到最稳定状态, 如图1(b)所示. BP烯存在空位的缺陷结构是指去掉一个P原子. 因为BP是褶皱模型, 存在上下两层, 本文选择去掉上层一个P原子形成空位. 令甲醛分子吸附在空位近邻的P原子正上方, 因为其他吸附位置经优化发现不稳定. 同时依然让甲醛分子与BP烯的平面存在平行、垂直和倾斜三种取向. 优化结果表明, 当甲醛中的O原子位于空位近邻P原子正上方并且垂直吸附在BP烯表面时, 体系最稳定, 如图1(c)所示. P空位与Al掺杂共存是指去掉一个P原子后, 在BP烯上层用一个Al 原子替换一个P空位近邻的P原子. 甲醛分子吸附在Al原子正上方, 同样考虑以上几种吸附位及三种取向, 然后进行结构优化. 优化结果表明, 当甲醛分子的O原子位于Al原子正上方(P原子被Al取代)并且倾斜吸附在BP烯表面时, 体系达到最稳定状态, 如图1(d)所示. 根据表3结构参数可知, 掺杂Al原子后的BP烯吸附甲醛分子的吸附能明显大于本征BP烯的吸附能(Al: 0.542 eV/52.1154 kJ/mol; 本征: 0.179 eV/17.212 kJ/ mol). 当甲醛分子分别吸附在含P空位的黑磷烯平面上或吸附在含P空位与Al掺杂共存的黑磷烯上时, 吸附能都比本征的BP时的大, (P空位: 0.875 eV/84.135 kJ/mol; P空位与Al掺杂共存: 0.824 eV/79.231 kJ/mol; 本征: 0.179 eV/17.212 kJ/mol). 进一步分析4种体系吸附甲醛分子时甲醛键长的变化, 结果发现C=O键长L(C—O)有所增大, 不过含P原子空缺体系对C=O键长几乎没什么影响. Al掺杂体系, D(CH2O—BP)由3.180 ?缩小为1.840 ?, P空位与Al掺杂共存的BP烯体系, D(CH2O—BP)缩小为1.886 ?, 表明Al掺杂增强了甲醛与BP烯的相互作用, 验证了吸附能增大观点. 对于P原子空缺BP烯体系, D(CH2O—BP)为4.007 ?, 比本征的D(CH2O—BP)还要增大, 说明只存在空位缺陷的体系对甲醛分子的吸附很弱.
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3.2.BP烯吸附甲醛的电子性质
通过对本征、含P原子空缺、Al掺杂以及P空位与Al掺杂共存的4种BP烯体系的态密度和能带图(图2, 图3, 态密度绘图时高斯展宽设为0.05 eV; 能带计算时k网格取15×15×1, 能带计算路径为Г(0, 0, 0)→X(0.5, 0, 0)→M(0.5, 0.5, 0) →Y(0, 0.5, 0)→Г(0, 0, 0))的计算, 研究了4种情况下吸附甲醛的电子性质和传感性质. 能量零点表示费米能级的位置, 图中用虚线标出.图 2 本征、Al掺杂、含P空位、P空位和Al掺杂共存时吸附或未吸附CH2O的BP态密度图 (a), (b) 各BP烯体系的总态密度和不同原子的局域态密度图; (c), (d) 各吸附CH2O的BP烯体系的总态密度和不同原子的局域态密度图
Figure2. The density of state of intrinsic, Al doped, P vacancy contained, P vacancy and Al doping coexisted BP with or without CH2O adsorption: (a), (b) The total density of state and the local density of state of different atoms of each BP system; (c), (d) the total density of state and the local density of state of different atoms of each BP system with CH2O adsorption.
图 3 本征、Al掺杂、P空位、P空位和Al掺杂共存时吸附或未吸附CH2O的BP的能带图 (a) 本征BP烯; (b) 本征BP烯吸附CH2O; (c) 含P原子空位的BP烯; (d) 含P原子空位的BP烯吸附CH2O; (e) Al掺杂的BP烯; (f) Al掺杂BP烯吸附CH2O; (g) P空位和Al掺杂共存的BP烯; (h) P空位和Al掺杂共存BP烯吸附CH2O
Figure3. The energy band of intrinsic, Al doped, P vacancy contained, P vacancy and Al doping coexisted BP with or without CH2O adsorption: (a) Intrinsic BP; (b) intrinsic BP after adsorption of CH2O; (c) BP with P atom vacancy; (d) P atom vacancy contained BP after adsorption of CH2O; (e) Al doped BP; (f) Al doped BP after adsorption of CH2O; (g) P vacancy and Al doped coexisted BP; (h) P vacancy and Al doped coexisted BP after adsorption of CH2O.
对于本征BP烯, 由图2(a)中标(—BP)的部分和图3(a)可知, 此时的费米能级位于价带顶. 图3(a)的能隙为0.867 eV(计算结果), 而态密度图2(a)中显示的带隙明显比能带图中的大. 这是由于在画DOS图时高斯展宽设为0.05 eV, 如设置为0.1则带隙就很小. 高斯展宽设为0.05 eV是为了更清楚地显示不同原子对电子结构的贡献, 后面讨论带隙以能带计算为准. 对于本征BP烯吸附甲醛时, 由图2(c)中标(—BP+CH2O)的图像和图3(b)分析可知, 费米能级也处于价带顶, 带隙变为0.891 eV. 由图2(d)中标(—BP+CH2O)的部分图像可以看出, 导带底和价带顶附近的能级是P原子的贡献, 甲醛分子的各原子在此区域没有贡献. 分析比较上述两种体系下的带隙变化不大(此带隙对应半导体的本征激发), 由(6)式得出纯净黑磷烯体系吸附甲醛前后的电导率变化不大, 因此可知本征BP烯不适合作为传感材料. 对于含P空位的BP烯, 图2(a)中标有(—BP(—P))的是其总态密度图, 可以看出导带底大约在1.5 eV, 价带顶在0 eV左右. 带隙中存在由P空位形成的缺陷能级, 在费米能级以上, 且靠近价带, 说明含P空位的BP体系是p型半导体. 图2(b)中标有(—BP(—P))的图是空位近邻和较远P原子的局域态密度图, 可以看出带隙中央和费米能级处出现了由近邻P原子贡献的缺陷能级. 由含P空位的BP体系的能带图(图3(c))可以发现能带间隙中存在两条缺陷能级并且形成能带, 即最高占据能级和最低未占据能级都由杂质带贡献, 由于最高占据态能带跨越了费米能级, 所以它高于费米能级部分同时成为了最低未占据态能带, 由此可以得出有效能隙为零. 对于含P空位吸附甲醛的BP烯, 从图2(c)中标有(—BP(—P+CH2O))的小图得出在费米能级附近能区的电子密度较高, 因此有效带隙几乎为零. 由图2(d)中标(—BP(–P+CH2O))的部分图像可以看出费米能级附近的能级是由P原子贡献的, 甲醛分子的各原子在此区域也没有贡献. 进一步分析能带图(图3(d)), 空位近邻P原子在费米能级附近能量在–0.2—0.35 eV之间产生了缺陷能级, 由于缺陷能级跨越了费米能级, 所以同样得出有效带隙仍然是零. 由(6)式无法计算得出两种体系的导电率的变化大小, 所以没办法判断是否可以作为传感材料. 对于Al掺杂的BP烯, 结合图2(a)中标(—BP(+Al))的小图和能带图(图3(e))分析可知能隙比本征和存在空位的BP的隙明显变宽, 是0.913 eV. 由图2(b)中标(—BP(+Al)的部分图像可以看出价带顶的能级是由Al和Al近邻P原子贡献的, 导带底由Al原子贡献. 对于Al掺杂吸附甲醛的BP烯, 由图2(c)和图2(d)中标(—BP(+Al+CH2O))的图和能带图(图3(f))分析得出甲醛在带隙中引入了一个杂质能级, 在价带顶附近, 此时有效带隙为0.315 eV, 对比得出明显小于0.913 eV, 说明掺Al黑磷烯的带隙明显变小. 由(6)式得出引入杂质能级大大提高了的电导率, 所以Al掺杂BP烯体系对甲醛的传感性大大增加. 类似讨论P空位和Al掺杂共存的BP烯, 结合图2(a)中标(—BP(—P+Al))的小图和能带图(图2(g))分析可知能隙是1.153 eV. 由图2(b)中标(—BP(—P+Al))的部分图像可以看出价带顶的能级是由Al和P原子贡献的. 仔细观察图2(c)和图2(d)中标(—BP(—P+Al+CH2O))的小图和能带图(图3(h))发现P空位和Al掺杂共存的情况与单独掺Al的BP烯吸附行为类似, 只是有效带隙值略有不同, 分别约为1.153 eV和0.303 eV, 可见P空位和Al掺杂共存BP烯体系对甲醛的传感性也大大增加.
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3.3.BP烯吸附甲醛的电荷分析
甲醛分子及其各原子电荷得失情况见表4. 对于本征BP烯体系, 当甲醛中的O原子位于顶位并且倾斜吸附在BP烯表面, 甲醛的C, O原子与H间产生电荷转移, 但是甲醛分子所带总电荷为零, 说明甲醛分子与BP烯之间没有电荷转移, 说明本征BP烯吸附甲醛前后的导电情况没有变化, 并且与甲醛之间也没有离子键相互作用, 所以本征BP烯不适合用于传感器制造. 含P空位的BP烯体系, 甲醛中的O原子位于空位近邻P原子上方并且垂直吸附在BP烯上层表面, 甲醛所带的总电荷也为零, 说明甲醛分子与含P空位的BP烯之间没有电荷转移. 没有电荷转移, 说明甲醛吸附前后BP的电导率没有变化, 含P空位的BP烯体烯也不能成为传感器材料. 当甲醛分子倾斜吸附在掺杂Al和P空位与掺杂Al共存的BP表面的Al原子正上方时, 甲醛分子与掺杂Al原子BP体系及P空位与掺杂Al共存BP体系之间电荷转移分别为0.04e和0.15e (甲醛得电子, 说明有带正电的空穴注入到黑磷体系中). 空穴的注入导致p型载流子密度增大, 从而改变了BP烯吸附甲醛时的电导率. 这些结果说明Al掺杂或P空位与Al掺杂共存改善了BP烯体系对甲醛的吸附性和传感性, 这与上面能带结构讨论的结论是一致的.基底 | 电 荷/e | ||||
H | H | C | O | ΔQ | |
本征 | 0.28 | 0.28 | –0.06 | –0.50 | 0 |
P空缺 | 0.27 | 0.27 | –0.06 | –0.48 | 0 |
Al掺杂 | 0.34 | 0.33 | –0.13 | –0.58 | –0.04 |
Al掺杂与P空缺 | 0.31 | 0.34 | –0.19 | –0.61 | –0.15 |
表4甲醛分子及各原子的电荷得失
Table4.The charge gain or loss of formaldehyde molecule and its atoms.