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上海交通大学微纳科学技术研究院专业学位课程内容介绍《集成电路制造技术》

上海交通大学 免费考研网/2013-01-08


《集成电路制造技术》

课程代码P340509学分/学时3.0/54开课时间
课程名称集成电路制造技术
开课学院微纳科学技术研究院
任课教师凌行
面向专业电子与信息工程微电子学与固体电子学方向工程硕士
预修课程
课程讨论时数0 (小时)课程实验数0 (小时)
课程内容简介

本课程选择硅基超大规模集成电路作为讨论分析对象,学习和掌握硅VLSI的主要工艺结构与原理及其有关工艺设备的特点。通过本门课程的学习,期望学生能深刻理解硅VLSI工艺技术与工艺设备的基本知识,为集成电路与系统的设计和制造打好最必要的IC技术的理论基础。本课程综合应用学生已学过的半导体物理、半导体器件基础等课程知识,去解决现代VLSI制造中的实际工艺问题。使学生具有研究本领域前沿课题的能力。 与集成电路制造相关的基础技术信息;整个集成电路工艺的制作过程;对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。另外,还介绍了各种先进的工艺技术、制造流程、测量方法等。

课程内容简介(英文)

The course focuses on the silicon VLSI, including the principles and methodology in the fabrication processes and the instrumentation involved in. Through the course, the students are expected to grasp the basic knowledge about the silicon-based VLSI processing and equipment; furthermore, to grasp the basic theoretical knowledge for the IC circuit and system design and fabrication.The course allows the students to utilize their knowledge on semiconductor physics and semiconductor device basics to resolve the practical processing issues in modern VLSI fabrication. foundational technique information related to intergrate curcuit;entire manufacture process of intergrate curcuit technics;To each kind of single item craft,it not only inculdes its physical and chemical principle,but also describes the processing equipments used in the intergrate curcuit production. What's more, it also introduces various advanced processing technology, fabrication flew,measuring technique and so on.

教学大纲

第一章:引言及历史展望;第二章:现代CMOS工艺技术;第三章:晶体生长、晶圆片制造与硅晶圆片的基本特性;第四章:半导体制造--洁净室、晶圆片清洗与吸杂处理;第五章:光刻;第六章:热氧化和Si-SiO2界面;第七章:扩散;第八章:离子注入;第九章 薄膜淀积;第十章 刻蚀;第十一章 后端工艺;

课程进度计划

(无)

课程考核要求

(无)

参 考 文 献
  • 教材硅超大规模集成电路工艺技术--理论、实践与模型Silicon VLSI Technology Fundamentals,Practice and Modeling参考书目1、半导体制造技术(中英文版) 电子工业出版社2、芯片制造(第四版)(中英文版) 电子工业出版社3、微电子制造科学原理与工程技术(第二版)(中英文版) 电子工业出版社
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