中文题目: 高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法
作者: 诸波尔;李思坤;王向朝;
来源图书: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
年: 2016 页： "1"
会议名称: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
中文关键词:
投影物镜;波像差;NA;光刻机;高精度检测;套刻;掩模;数值孔径;成像分辨率;浸没式;
中文摘要:
光刻投影物镜的波像差是影响光刻机套刻精度和成像分辨率的主要因素之一。随着光刻技术从干式发展至浸没式,光刻机投影物镜的数值孔径增加到1.35,高阶波像差(主要为Z~Z)的影响变得不可忽略。为了使掩模图形高保真度地成像到硅片上,3 8 6 4需要对大数值孔径光刻机投影物镜高阶波像差进行快速、高精度检测。
文献类型: 会议文摘
正文语种: chinese
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高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法_上海光学精密机械研究所
上海光学精密机械研究所 免费考研网/2018-05-06
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