中文题目: 基于平面光栅尺的光刻机工件台位置测量技术研究
作者: 郑亚忠;戴凤钊;步扬;王向朝;
来源图书: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
年: 2016 页： "1"
会议名称: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
中文关键词:
光刻机;套刻;光栅尺;测量精度;双频激光干涉仪;测量技术研究;定位精度;性能指标;集成电路制造;核心装备;
中文摘要:
1.引言作为集成电路制造的核心装备,光刻机决定了集成电路的特征尺寸和集成度。工件台是光刻机的核心分系统,直接影响光刻机三大性能指标中的产率和套刻精度。自32nm节点起,光刻机套刻精度要求达到2.8nm以下。光刻机套刻精度直接受工件台定位精度影响,而工件台定位精度又受到工件台位置测量精度的制约。双频激光干涉仪由于测量光程长,易受环境变化影响,测量精度已不能满足32nm以下节点光刻机


文献类型: 会议论文
正文语种: chinese
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