中文题目: 基于线性规划的光刻机光源优化方法
作者: 王磊;李思坤;王向朝;杨朝兴;
来源图书: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
年: 2016 页： "1"
会议名称: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
中文关键词:
光刻机;实现速度;技术发明;离轴;集成电路制造;集成电路芯片;数值孔径;掩模;评价函数;光刻胶;
中文摘要:
光刻技术是极大规模集成电路制造的关键技术之一。光刻分辨率决定集成电路芯片的特征尺寸。在曝光波长与数值孔径一定的情况下,需通过改善光刻工艺和采用分辨率增强技术减小工艺因子,提高光刻分辨率。光源优化(Source Optimization,SO)技术是一种重要的分辨率增强技术。由于不需要重新制造掩模,SO具有成本低、实现速度快的优点。自离轴照明技术发明以来,已有不少学者对SO进行了研究。近来,Flex Ray等自由
文献类型: 会议论文
正文语种: chinese
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基于线性规划的光刻机光源优化方法_上海光学精密机械研究所
上海光学精密机械研究所 免费考研网/2018-05-06
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