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金属硅化物及纳米硅薄膜的研究

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06
文献详情


金属硅化物及纳米硅薄膜的研究
文献类型学位
作者王金良[1]
机构
授予学位博士
年度2000
学位授予单位北京航空航天大学
语言中文
关键词硅基;金属硅化物
摘要该研究课题的主要目的就是对Si基底上蒸发的Cr、Fe、Mn薄膜进行热处理,用固相反应法(SPR)作成过渡金属硅化物薄膜.通过X射线衍射线衍射法(XRD)和软X射线发射光谱法(SXES)对它们进行了表征,发现这些过渡金属在Si基底上都形成了单一相的、均匀的硅化物薄膜.进而又用软X射线发射光谱法对这些硅化物的价电子结构进行了研究,发现这些硅化物 与Si晶体的软X射线Si-L<,2,3>和Si-K<,β>发射谱具有不同的形状.



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dc:title:金属硅化物及纳米硅薄膜的研究
dc:creator:王金良
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:学位
dc:format: Media：北京航空航天大学
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：北京航空航天大学.2000.
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dc: identifier:ISBN:
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