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南昌大学材料科学与工程学院导师教师师资介绍简介-王小兰副研究员/硕导(LED中心)
本站小编 Free考研考试/2021-05-03
基本情况:
王小兰,女,博士,副研究员,硕士生导师。2007年7月毕业于中国科学院半导体研究所获工学博士学位。参与和主持国家重点研发项目、国家自然科学基金等10余项;发表论文30余篇,获授权及申请专利近10项。
曾任职于晶能光电(江西)有限公司,从事半导体材料与器件的研究及产业化工作。现就职于南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心,研究方向:半导体材料生长与器件制备。
联系方式:
地 址: 南昌市高新区艾溪湖北路679号南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心
邮 编: 330096
E-mail: wangxiaolan@ncu.edu.cn.
承担课题情况:
(1)主持国家自然科学青年基金项目“490nmGaN基青光LED的关键技术研究” 直接经费24万元,执行年限:2018-2020
(2)作为子课题负责人承担国家重大研发计划“战略性先进电子材料”专项——大失配、弱分凝InGaN外延生长和高发光效率绿光量子阱研究,300万元,执行年限:2016-2019
发表论文情况:
1 Jianli Zhang, Xiaolan Wang?, Junlin Liu, Chunlan Mo, Xiaoming Wu, Guangxu Wang, Fengyi Jiang,Study on Carrier transportation in InGaN based green LEDs with V-pits structure in the active region,Optical Materials 86 46-50 2018
2 Zhi-Hui Wang(王智辉), Xiao-Lan Wang(王小兰)*, Jun-Lin Liu(刘军林), Jian-Li Zhang(张建立), Chun-Lan Mo(莫春兰), 等,Effect of Green Quantum Well Number on Properties of Green GaN-Based Light-Emitting Diodes,CHIN. PHYS. LETT. 087302-1-4 2018
3 聂晓辉,王小兰*,莫春兰,张建立,潘拴,刘军林,V形坑尺寸对硅衬底InGaN/AlGaN近紫外LED光电性能的影响,发光学报 38(6) 735-741 2018
4 X. L. Wang*, D. G. Zhao, X. Y. Li, H. M. Gong, H. Yang, J. W. Liang, The effect of LT AlN buffer thickness on the properties of high Al composition AlGaN epilayer, Materials Letters, 60, (3693) 2006
5 X. L. Wang*, D. G. Zhao, X. Y. Li, H. M. Gong, H. Yang, Effect of oxidation on the optical and surface properties of AlGaN, Applied Surface Science, 252, (8706) 2006
6 X. L. Wang*, D. G. Zhao,U Jahn, K. Ploog, D S Jiang, H Yang, and J W Liang, The effects of LT AlN buffer thickness on the optical properties of AlGaN grown by MOCVD and Al compostion inhomogeneity analysis, Journal of Physics D: Applied Physics, 40, (1113) 2007
7 WANG Xiao- Lan(王小兰)*, ZHAO De- Gang(赵德刚),YANG Hui(杨辉),LIANG Jun-Wu(梁骏吾),Growth of AlGaN epitaxial film with high Al content by metalorganic chemical vapor deposition, Chinese Physics Letters, 24, (774) 2007
8 X. L. Wang*, D. G, Zhao, D. S. Jiang, H. Yang, J. W. Liang, U. Jahn, K. Ploog, Al compositional inhomogeneity of AlGaN epilayer with a high Al composition grown by metal-organic chemical vapor deposition, Journal of Physics: Condensed Matter, 19, (176005) 2007
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