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等离子镀膜工艺中的一个转动长方体优化问题

本站小编 Free考研考试/2021-12-27

曾振柄1,鲁健1,2,曾小伟3
1. 上海大学数学系, 上海 200444;2. 中国科学院上海生命科学研究院计算生物学伙伴研究所,上海 200031; 3. 上海嵩恒网络科技公司,上海 201210
出版日期:2019-12-25发布日期:2020-03-20




A Rotary Cuboid Optimization Problem in Plasma Sputtering Coating

ZENG Zhenbing 1 ,LU Jian 1,2 ,ZENG Xiaowei3
1. Department of Mathematics, Shanghai University, Shanghai 200444; 2. CAS-MPG Partner Institute for Computational Biology, Shanghai 200031; 3. Shanghai Songheng Network Technology Company, Shanghai 201210
Online:2019-12-25Published:2020-03-20







摘要



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研究了等离子体镀膜加工衍生的一个工艺问题, 即寻找最好的公转、自转速度比例, 使得按照该速度比旋转的长方体工件的每个面在镀膜加工过程中接收密度尽可能接近的等离子沉积. 通过分析长方体旋转时各点的运动轨迹, 将该问题转化为两个含参三角函数的积分的计算问题. 给出了用Maple软件计算该积分的的程序. 通过较多数值计算试验, 建立了 最佳公转、自转速度比的经验值. 文章还讨论多个长方体工件、多面体、凸曲面工件的情形, 并给出了一种对静止长方体工件进行烤羊肉串式等离子体镀膜加工的最佳位置.

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