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上海交通大学微纳科学技术研究院博士课程内容介绍《微电子制造科学与技术》

上海交通大学 免费考研网/2012-12-28


《微电子制造科学与技术》

课程代码C340703学分/学时3.0/54开课时间
课程名称微电子制造科学与技术
开课学院微纳科学技术研究院
任课教师陈迪
面向专业电子科学与技术
预修课程(null)
课程讨论时数8 (小时)课程实验数0 (小时)
课程内容简介

本课程主要介绍微米/纳米先进制造技术,包括微电子制造的单项工艺及其集成技术、微电子机械系统(MEMS)和纳米加工技术等。主要内容有:微米/纳米制造技术的现状和展望、半导体衬底、真空科学和等离子体,各种单项微电子加工工艺,如扩散、热氧化、离子注入、光学和非光学光刻、刻蚀、物理淀积、化学气相淀积、外延生长等,以及各种单项工艺的集成技术,如器件隔离、接触和金属化、CMOS、MOSFET技术和硅双极型工艺技术,并初步介绍微电子机械系统(MEMS)和纳米加工技术。 本课程是双语教学,主要课本是美国Campbell教授撰写的微电子制造科学原理与工程技术(英文版),通过本课程的学习,使学生了解和掌握微电子制造的单项工艺及其集成技术、微电子机械系统(MEMS)和纳米加工技术等,并使学生掌握本课程的专业英语词汇,锻炼学生的专业英语自学能力和表达能力。

课程内容简介(英文)

This course will introduce the advanced micro/nano fabrication technology. Including unit processes of microelectronic fabrication, MEMS and nano fabrication technique. The main contents are: Status and prospects of micro/nano fabrication technology, semiconductor substrates, vacuum science and plasmas. Several unit processes of microfabrication like diffusion, thermal oxidation, ion implantation, optical and nonoptical lithography, etching, physical deposition, chemical vapor deposition and epitaxial growth. Process integration of these unit processes for example CMOS technique and silicon bipolar technique, microelectro mechanical systems (MEMS) and some nano fabrication technologies will be introduced. This course is bilingual. The book of Stephen A. Campbell, “The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication” will be used. Through this course, knowledge of unit processes of microelectronic fabrication, MEMS and some nano fabrication technique will be introduced. After this course, students will be request to mastery English glossaries of micro/nano fabrication technologies. The ability of self- learning and presentation in English of students will be exercised

教学大纲

①课程的性质和任务 本课程的目的是使学生掌握微米纳米先进制造技术的基本原理及技术,本课程的英文专业词汇,以及专业英语的自学能力和表达能力②课程的教学内容和基本要求 1.Introduction绪论2.Semiconductor Substrates 半导体衬底3.Diffusion 扩散4.Thermal Oxidation 热氧化5.Ion Implantation 离子注入6.Optical Lithography 光学光刻7.Photoresists 光刻胶8.Nonoptical Lithographic Techniques 非光学光刻技术9.Vacuum Science and Plasmas 真空科学和等离子体10.Etching 刻蚀11.Physical Deposition: Evaporation and Sputtering 物理淀积:蒸发和溅射12.Chemical Vapor Deposition (CVD) 化学气相淀积13.Epitaxial Growth 外延生长14.Process Integration 工艺集成15.Microelectro Mechanical Systems (MEMS) 微电子机械系统16.Nano Fabrication Technologies 纳米加工技术③实验(上机)内容和基本要求 参观部分微米/纳米加工设备。④对研究生能力培养的要求:课内教学活动;课外科技活动和社会实践的教学活动中能力培养的安排及要求。课内安排学生进行部分教学内容的试讲,锻炼其专业英语的自学能力和表达能力。⑤其它需要说明的内容:本课程教学中对于现代教学技术(计算机、多媒体、网络)的实际应用或其它教学环节。本课程有6节课用多媒体投影仪进行教学。

课程进度计划

1.Introduction绪论2.Semiconductor Substrates 半导体衬底3.Diffusion 扩散4.Thermal Oxidation 热氧化5.Ion Implantation 离子注入6.Optical Lithography 光学光刻7.Photoresists 光刻胶8.Nonoptical Lithographic Techniques 非光学光刻技术9.Vacuum Science and Plasmas 真空科学和等离子体10.Etching 刻蚀11.Physical Deposition: Evaporation and Sputtering 物理淀积:蒸发和溅射12.Chemical Vapor Deposition (CVD) 化学气相淀积13.Epitaxial Growth 外延生长14.Process Integration 工艺集成15.Microelectro Mechanical Systems (MEMS) 微电子机械系统16.Nano Fabrication Technologies 纳米加工技术

课程考核要求

①考试目的; 掌握微米纳米先进制造技术的基本原理及技术,本课程的英文专业词汇。②考试方式;口试或笔试③考试内容及要求教学大纲的全部内容,要求掌握各种微纳制造技术的基本原理、关键公式、各种微纳制造工艺的优缺点和应用领域。

参 考 文 献
  • 史蒂芬 A. 坎贝尔l; 微纳尺度制造工程 (英文版);电子工业出版社; 2010年9月
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