中文题目: 基于莫尔条纹的光刻对准方法
作者: 杜聚有;戴凤钊;王向朝;
来源图书: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
年: 2016 页： "1"
会议名称: 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
中文关键词:
套刻;工艺节点;投影光刻机;重复精度;对准方法;莫尔条纹;亚纳米;关键性能指标;衍射光;傅里叶变换;
中文摘要:
1.引言套刻精度是光刻机的关键性能指标之一,对准重复精度是实现套刻精度的前提。目前1×nm工艺节点集成电路已经量产,其对应套刻精度为2.5nm,对准重复精度达到了亚纳米量级。随着集成电路向10nm及以下工艺节点发展,对套刻精度和对准重复精度提出了更高的要求。目前国际上高端投影光刻机采用的主流对准技术主要是场像对准FIA技术和SMASH技术等。但目前这两种对准技术还存在一定的缺陷,主要表现为:
文献类型: 会议论文
正文语种: chinese
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基于莫尔条纹的光刻对准方法_上海光学精密机械研究所
上海光学精密机械研究所 免费考研网/2018-05-06
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