中文关键词
厌氧氨氧化(ANAMMOX)基质暴露水平活性生物量脱氮性能 英文关键词anaerobic ammonium oxidation(ANAMMOX)substrate exposure levelbiological activitybiomassnitrogen removal performance |
作者 | 单位 | E-mail | 陈方敏 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | 1154696532@qq.com | 高佳琦 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 黄勇 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | yhuang_sz@sina.com | 胡羽婷 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 李祥 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 顾澄伟 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 谈新伟 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 殷记强 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 方文烨 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 苏州科技大学环境生物技术研究所, 苏州 215009 | | 倪敏 | 苏州科技大学环境科学与工程学院, 苏州 215009 江苏省环境科学与工程重点实验室, 苏州 215009 | |
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中文摘要 |
基质暴露水平对ANAMMOX微生物的生长代谢有着重要意义,目前关于基质暴露水平对ANAMMOX污泥长期富集过程中生长特性的研究少有报道.采用两个连续流搅拌反应器,在逐步提升进水负荷的过程中,研究了高基质暴露水平培养方式(R1:出水NH4+-N和NO2--N浓度均为40~60 mg·L-1)与低基质暴露水平培养方式(R2:出水NH4+-N和NO2--N浓度均为0~20 mg·L-1)对ANAMMOX微生物生长量和生物活性,以及反应器脱氮效能的影响及机制.结果表明,高基质暴露水平培养方式更有利于ANAMMOX反应器脱氮性能的提升.相比之下,高基质暴露水平培养方式下获得的NLR [0.69 kg·(m3·d)-1]和NRR [0.41 kg·(m3·d)-1]分别是低基质暴露水平培养方式的2倍;高基质暴露水平培养方式下,ANAMMOX污泥浓度(以VSS计)和总基因拷贝数分别达到1805 mg·L-1和4.81×1012copies,更有利于ANAMMOX微生物的快速富集培养;低基质暴露水平培养方式下,ANAMMOX污泥的活性更强[以N/VSS计,0.27 g·(g·d)-1],有利于富集生物活性更高的ANAMMOX污泥. |
英文摘要 |
Substrate exposure levels are vital for the growth and metabolism of ANAMMOX microorganisms, and their effects on growth characteristics of ANAMMOX sludge during the enrichment process have been rarely reported. Using two continuous flow stirred reactors and the process of a gradually developing nitrogen load, the changes in biomass and activity, as well as nitrogen removal efficiency of the reactors were investigated under high substrate exposure level culture mode (R1:effluent NH4+-N and NO2--N concentrations were 40-60 mg·L-1) and low substrate exposure level culture mode (R2:effluent NH4+-N and NO2--N concentrations were 0-20 mg·L-1). The results showed that the high substrate exposure level culture mode was more beneficial to the improvement of nitrogen removal performance of the ANAMMOX reactor. For comparison, the NLR (nitrogen load rate), which was 0.69 kg·(m3·d)-1, and the NRR (nitrogen remove rate), which was up to 0.41 kg·(m3·d)-1, was obtained in the high substrate exposure culture mode. These values were twice as high as those obtained in the low substrate exposure culture mode. Under the culture mode with high substrate exposure level, the sludge concentration (in VSS) and the total gene copy numbers of ANAMMOX reached 1805 mg·L-1 and 4.81×1012 copies, respectively, which was conducive to the rapid enrichment of ANAMMOX microorganisms. In the low substrate exposure level culture mode, ANAMMOX sludge was more active,in N/VSS, 0.27 g·(g·d)-1, which was conducive to the cultivation of ANAMMOX sludge with higher biological activity. |
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