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衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究

外文标题	Fabrication of Ferroelectrics LiNbO3 Thin Films by Pseudospark Electron Beam Ablation Deposition at the Controlled Substrate Temperature
文献类型	期刊
作者	文雄伟[1];李路明[2];江兴流[3];韩丽君[4];潭轶平[5]
机构	[1]清华大学机械系 [2]清华大学机械系 [3]北京航空航天大学理学院 [4]北京航空航天大学理学院 [5]北京航空航天大学理学院 ↓
来源信息	年:2004期:z1页码范围:205-208
期刊信息	航空制造技术ISSN:1671-833X
关键词	电子束;铁电薄膜;薄膜沉积
摘要	介绍了在不同衬底温度下,用强脉冲电子束在单晶硅(110)衬底上沉积LiNbO3薄膜的工艺过程,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的试验结果.使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)等方法,对薄膜的成份、晶体结构及表面形貌进行分析测试.采用表面轮廓仪测定LN薄膜的膜厚分布均匀性等.
收录情况	PKUISTIC
所属部门	物理科学与核能工程学院
链接地址	http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_hkgyjs2004z1056.aspx
DOI	10.3969/j.issn.1671-833X.2004.z1.056
基金	国家自然科学基金; 航空科研项目

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dc:title:衬底温度可控强脉冲电子束烧蚀沉积LiNbO3薄膜工艺研究
dc:creator:文雄伟;李路明;江兴流,等
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:期刊
dc:format: Media：航空制造技术
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：航空制造技术.2004,205-208.
dc:identifier:DOI：10.3969/j.issn.1671-833X.2004.z1.056
dc: identifier:ISBN:1671-833X