工艺条件对磁控溅射TiOlt;,2gt;薄膜结构和光催化特性的影响
| 文献类型 | 会议 |
| 作者 | 桑敏[1];刘发民[2];王天民[3] |
| 机构 | [1]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [2]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [3]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 ↓ |
| 会议论文集 | 2004年材料科学与工程新进展论文集 |
| 来源信息 | 年:2004 |
| 会议信息 | 2004年中国材料研讨会ISSN: |
| 关键词 | 环境净化;二氧化钛薄膜;射频磁控溅射;光催化降解 |
| 摘要 | 作为新型环境净化材料,TiO<,2>在污水处理、空气净化等方面有着广泛的应用.本文采用TiO<,2>陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO<,2>薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对TiO<,2>薄膜结构和光催化降解有机污染物特性的影响.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对其结构进行了表征,得到了TiO<,2>薄膜的相变规律.进一步利用分光光度计对其光催化降解罗丹明B溶液的效率进行了测量,结果表明:随着衬底温度的升高和溅射功率的增加,降解率先增加后减小,在550℃和130W表现出最佳的光催化效果. |
| 所属部门 | 物理科学与核能工程学院 |
| 全文链接 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6010605.aspx |
| 会议地点 | 北京 |
| 会议开始日期 | 2004-11-01 |
影响因子：
物理系
dc:title:工艺条件对磁控溅射TiOlt;,2gt;薄膜结构和光催化特性的影响
dc:creator:桑敏;刘发民;王天民
dc:date: publishDate:2004-11-01
dc:type:会议
dc:format: Media：2004年中国材料研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：2004年中国材料研讨会.2004.
dc:identifier:DOI：
dc: identifier:ISBN:
