射频磁控溅射技术制备IT-SOFC电解质材料GDC的研究
| 文献类型 | 会议 |
| 作者 | 徐立海[1];杨炜[2];王聪[3] |
| 机构 | [1]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [2]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 [3]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心 ↓ |
| 会议论文集 | 第十二届中国固态离子学学术会议论文集 |
| 来源信息 | 年:2004页码范围:329-331 |
| 会议信息 | 第十二届中国固态离子学学术会议ISSN: |
| 关键词 | 固体氧化物燃料电池;电解质薄膜;Gd<,0.1>Ce<,0.9>O<,1.95>;射频磁控溅射 |
| 摘要 | 固体氧化物燃料电池(SOFC)低温化、微型化是当前SOFC研究发展的另一重要方向之一,而电解质薄膜化,致密化是实现微型中低温固体氧化物燃料电池(IT-SOFC)的重要途径.本文选择Gd<,0.1>Ce<,0.9>O<,1.95>(GDC)作为IT-SOFC的电解质材料,并应用射频磁控溅射技术制备了GDC薄膜,通过搜索制备工艺条件,确定并优化了其工艺参数.应用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对GDC薄膜进行结构和形貌分析.结果表明应用溅射气压1Pa,衬底温度650℃,靶功率300W制备的GDC薄膜具有较纯的立方莹石相结构,并在多孔氧化铝衬底上沿(111)密排方向具有择优生长特征. |
| 所属部门 | 材料科学与工程学院 |
| 全文链接 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_5607377.aspx |
| 会议地点 | 苏州 |
| 会议开始日期 | 2004-10-24 |
| 人气指数 | 1 |
| 浏览次数 | 1 |
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影响因子：
dc:title:射频磁控溅射技术制备IT-SOFC电解质材料GDC的研究
dc:creator:徐立海;杨炜;王聪
dc:date: publishDate:2004-10-24
dc:type:会议
dc:format: Media：第十二届中国固态离子学学术会议
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：第十二届中国固态离子学学术会议.2004,329-331.
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