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工艺条件对磁控溅射TiO<,2>薄膜结构和光催化特性的影响

文献类型	会议
作者	桑敏[1];刘发民[2];王天民[3]
机构	[1]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [2]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [3]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 ↓
来源信息	年:2004页码范围:199-204
会议信息	2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会ISSN:
关键词	环境净化 二氧化钛薄膜 射频磁控溅射 光催化降解
摘要	作为新型环境净化材料,TiO<,2>在污水处理、空气净化等方面有着广泛的应用.本文采用TiO<,2>陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO<,2>薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对TiO<,2>薄膜结构和光催化降解有机污染物特性的影响.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对其结构进行了表征,得到了TiO<,2>薄膜的相变规律.进一步利用分光光度计对其光催化降解罗丹明B溶液的效率进行了测量,结果表明:随着衬底温度的升高和溅射功率的增加,降解率先增加后减小,在550℃和130W表现出最佳的光催化效果.
所属部门	物理科学与核能工程学院
会议地点	北京

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物理系刘发民

dc:title:工艺条件对磁控溅射TiO<,2>薄膜结构和光催化特性的影响
dc:creator:桑敏;刘发民;王天民
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:会议
dc:format: Media：2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会.2004,199-204.
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dc: identifier:ISBN: