磁控溅射制备低红外发射率TiOlt;,2gt;/Ag/TiOlt;,2gt;纳米多层膜研究
| 文献类型 | 会议 |
| 作者 | 刘海鹰[1];刁训刚[2];杨盟[3];王天民[4] |
| 机构 | [1]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [2]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [3]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [4]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 ↓ |
| 会议论文集 | 2004年材料科学与工程新进展论文集 |
| 来源信息 | 年:2004 |
| 会议信息 | 2004年中国材料研讨会ISSN: |
| 关键词 | 纳米多层膜;光催化特性;磁控溅射;红外发射率;二氧化钛 |
| 摘要 | 利用磁控溅射在玻璃衬底上制备了具有良好光谱选择性透过的TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜.利用X射线衍射、UV-VIS-NIR分光光度计、红外发射率测量仪等对样品进行表征,优化了制备薄膜的工艺条件.同时考察了薄膜的光催化特性.结果表明:样品在可见光透过率最高可达94.5﹪,555nm波长处最高达93.5﹪,2500nm波长处反射率>65﹪.8~14μm波段红外发射率ε<0.2.Ag层厚度增加使可见光高透过率波段变窄,透过率下降,内层及外层TiO<,2>厚度的变化引起薄膜在可见光的透过峰位置及强度发生变化,外层的影响明显高于内层.薄膜具有良好的光催化降解罗丹明B的能力,其性能优于单纯的TiO<,2>薄膜. |
| 所属部门 | 物理科学与核能工程学院 |
| 全文链接 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6010608.aspx |
| 会议地点 | 北京 |
| 会议开始日期 | 2004-11-01 |
影响因子：
物理系
dc:title:磁控溅射制备低红外发射率TiOlt;,2gt;/Ag/TiOlt;,2gt;纳米多层膜研究
dc:creator:刘海鹰;刁训刚;杨盟,等
dc:date: publishDate:2004-11-01
dc:type:会议
dc:format: Media：2004年中国材料研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：2004年中国材料研讨会.2004.
dc:identifier:DOI：
dc: identifier:ISBN:
