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磁控溅射制备低红外发射率TiOlt;,2gt;/Ag/TiOlt;,2gt;纳米多层膜研究

北京航空航天大学 辅仁网/2017-07-06

文献详情


磁控溅射制备低红外发射率TiOlt;,2gt;/Ag/TiOlt;,2gt;纳米多层膜研究
文献类型会议
作者刘海鹰[1];刁训刚[2];杨盟[3];王天民[4]
机构
会议论文集2004年材料科学与工程新进展论文集
来源信息年:2004
会议信息2004年中国材料研讨会ISSN:
关键词纳米多层膜;光催化特性;磁控溅射;红外发射率;二氧化钛
摘要利用磁控溅射在玻璃衬底上制备了具有良好光谱选择性透过的TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜.利用X射线衍射、UV-VIS-NIR分光光度计、红外发射率测量仪等对样品进行表征,优化了制备薄膜的工艺条件.同时考察了薄膜的光催化特性.结果表明:样品在可见光透过率最高可达94.5﹪,555nm波长处最高达93.5﹪,2500nm波长处反射率>65﹪.8~14μm波段红外发射率ε<0.2.Ag层厚度增加使可见光高透过率波段变窄,透过率下降,内层及外层TiO<,2>厚度的变化引起薄膜在可见光的透过峰位置及强度发生变化,外层的影响明显高于内层.薄膜具有良好的光催化降解罗丹明B的能力,其性能优于单纯的TiO<,2>薄膜.
所属部门物理科学与核能工程学院
全文链接http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_6010608.aspx
会议地点北京
会议开始日期2004-11-01



影响因子:


物理系刁训刚

dc:title:磁控溅射制备低红外发射率TiOlt;,2gt;/Ag/TiOlt;,2gt;纳米多层膜研究
dc:creator:刘海鹰;刁训刚;杨盟,等
dc:date: publishDate:2004-11-01
dc:type:会议
dc:format: Media:2004年中国材料研讨会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:2004年中国材料研讨会.2004.
dc:identifier:DOI:
dc: identifier:ISBN:
相关话题/材料 北京 凝聚态物理 物理 纳米

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