磁控溅射制备低红外发射率TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜研究
文献类型 | 会议 |
作者 | 刘海鹰[1];刁训刚[2];杨盟[3];王天民[4] |
机构 | [1]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [2]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [3]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 [4]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心(北京 ↓ |
来源信息 | 年:2004页码范围:219-225 |
会议信息 | 2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会ISSN: |
关键词 | 纳米多层膜 光催化特性 磁控溅射 红外发射率 二氧化钛 |
摘要 | 利用磁控溅射在玻璃衬底上制备了具有良好光谱选择性透过的TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜.利用X射线衍射、UV-VIS-NIR分光光度计、红外发射率测量仪等对样品进行表征,优化了制备薄膜的工艺条件.同时考察了薄膜的光催化特性.结果表明:样品在可见光透过率最高可达94.5﹪,555nm波长处最高达93.5﹪,2500nm波长处反射率>65﹪.8~14μm波段红外发射率ε<0.2.Ag层厚度增加使可见光高透过率波段变窄,透过率下降,内层及外层TiO<,2>厚度的变化引起薄膜在可见光的透过峰位置及强度发生变化,外层的影响明显高于内层.薄膜具有良好的光催化降解罗丹明B的能力,其性能优于单纯的TiO<,2>薄膜. |
所属部门 | 物理科学与核能工程学院 |
会议地点 | 北京 |
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影响因子:
物理系
dc:title:磁控溅射制备低红外发射率TiO<,2>/Ag/TiO<,2>纳米多层膜研究
dc:creator:刘海鹰;刁训刚;杨盟,等
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:会议
dc:format: Media:2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会
dc:identifier: LnterrelatedLiterature:2004年材料科学与工程新进展论文集中国材料研究学会.2004,219-225.
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