纳米硅薄膜的拉曼谱研究
| 外文标题 | Raman Study of Nanocrystalline Silicon Films |
| 文献类型 | 期刊 |
| 作者 | 徐刚毅[1];王天民[2];王金良[3] |
| 机构 | [1]兰州大学,物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000 [2]兰州大学,物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000;北京航空航天大学,材料物理与化学研究中心,北京,100083 [3]北京航空航天大学,材料物理与化学研究中心,北京,100083 ↓ |
| 来源信息 | 年:2000卷:36期:5页码范围:47-53 |
| 期刊信息 | 兰州大学学报（自然科学版）ISSN:0455-2059 |
| 关键词 | 纳米硅薄膜;拉曼谱;声子限制模型 |
| 摘要 | 通过等离子增强化学汽相沉积法,制备了本征和掺磷的氢化纳米硅薄膜(nc-Si∶H), 研究了晶粒尺寸和掺杂浓度对纳米硅薄膜拉曼谱的影响.结果表明晶粒变小和掺杂浓度增加都使纳米晶粒的TO模峰位逐渐偏离声子限制模型的计算值.X-射线衍射和透射电镜像的结果表明晶粒变小导致硅晶粒应力增加,而掺杂使晶粒内部杂质和缺陷增多,这些因素破坏了晶粒内晶格的平移对称性,进一步减小声子的平均自由程,导致实验值偏离理论计算值.晶格平移对称性的破缺还体现在,随晶粒尺雨减小或掺杂浓度增加,拉曼谱中TA,LA振动模的相对散射强度增加. |
| 所属部门 | 材料科学与工程学院 |
| 链接地址 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_lzdxxb200005009.aspx |
| DOI | 10.3321/j.issn:0455-2059.2000.05.009 |
| 人气指数 | 2 |
| 浏览次数 | 2 |
全文
影响因子：
dc:title:纳米硅薄膜的拉曼谱研究
dc:creator:徐刚毅;王天民;王金良
dc:date: publishDate:2000-10-30
dc:type:期刊
dc:format: Media：兰州大学学报（自然科学版）
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：兰州大学学报（自然科学版）.2000,36(5),47-53.
dc:identifier:DOI：10.3321/j.issn:0455-2059.2000.05.009
dc: identifier:ISBN:0455-2059
