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上海理工大学田家炳理学院研究生导师简介-王小平

上海理工大学 免费考研网/2013-04-04

王小平教授简介

姓名:王小平
性别:男
出生年月:1964.10
职称:教授
学历:博士研究生
学位:博士
研究方向:薄膜材料
Email:wxpchina64@yahoo.com.cn
联系电话:13764442830


社会学术兼职:
1、全国近代物理研究会理事兼副秘书长;
2、科技期刊《微细加工技术》理事;中国光学学会会员;
3、英文高级期刊《中国物理快报》特约评审。

学习和工作简历:

1986年毕业于东北师范大学物理系;
1986-1992年主要从事物理教学工作;
1992年考入郑州大学物理系攻读凝聚态物理专业硕士学位,并开始与导师一起从事金刚石薄膜电致发光器件的研究工作。
1995年获硕士学位并到郑州航空工业管理学院任教。
1999年5月获“河南省优秀青年教师”称号,并受到省级奖励。
1999年9月开始在郑州大学攻读凝聚态物理专业博士学位,2002年7月获博士学位。
2003年调入上海理工大学工作。从参加工作至今历任助教、讲师、副教授、教授。
作为项目主持人主持并完成过一项国家自然科学基金项目(“高亮度蓝区金刚石薄膜电致发光器件的研制”批准号:59882005);
作为第3完成人完成一项金刚石碳膜场致电子发射方向的国家级“863”项目历时5年(“平板显示用金刚石薄膜冷阴极制备技术及其特性研究”715-002-0042),其中“863”项目通过国家级鉴定,同时得到了“863”专家委员会的高度评价,项目成果被列为“九五重大科技成果”。我们制备的场发射器件于2001年2月26到3月6日863”成果展。参加了在北京举办的“
作为项目主持人主持完成省级骨干教师资助计划科研项目及省级教学项目各一项,近几年来作为主要完成人完成的两项科研成果均获河南省教委科技进步壹等奖。
作为项目主持人完成上海市教委科研创新重点项目一项、作为第一合作人完成上海市教委教育发展基金项目一项。
目前作为主要参加者参加《电磁学》上海市重点建设课程工作,主编并正式出版教材一部。
此外,作为实验室建设负责人分别完成两项上理工物理实验室建设共计350万元的实验室建设项目。
近些年来共发表科研论文50余篇,其中有20余篇被SCI或EI收录。有多篇论文分别获得省级自然科学优秀论文壹、贰等奖。现为应用物理学专业带头人,理学院物理实验室主任。

03年后发表主要学术论文:

[1]"Fieldelectronemissionfrombunchyflake-likenano-carbonfilms"ChinesePhysicsB2009,18(5):2078-2081(已被SCI收录)
[2]“Fieldemissioncharacteristicsofnano-structuredcarbonfilmsdepositedondifferently-pretreatedMofilms”,Appl.Surf.Sci.Vol.255,No.5P2,(2008)3257-3262(已分别被SCI和EI收录)
[3]“FieldEmissionPropertiesofBall-LikeNano-CarbonThinFilmsDepositedonMoFilmswithAccidentedTopography”Chin.Phys.Lett.Vol.25,No.11(2008)4154-4157(已被SCI收录)
[4]“Aneffectivemethodforimprovementoffieldelectronemissionsitedensityanduniformityofamorphouscarbonthinfilms”Chin.Phys.Lett.Vol.23,No.5(2006):1314-1316
(已被SCI收录)
[5]”Electroluminescenceofdiamond:Cethinfilms”,Semi.Sci.Tech.(UK)Vol.18(2003)144-146.(已分别被SCI和EI收录)
[6]“Electroluminescencespectrumshiftwithswitchingbehaviourofdiamondthinfilms”,Chin.Phys.Lett.Vol.20,No.10(2003)1868-1870.已被SCI收录)
[7]“第三代半导体材料在LED产业上的发展和应用”材料导报,Vol.23,No.1(2009)7-11
[8]“一种新型结构碳材料——碳纳米管套纳米丝”固体电子学研究与进展,Vol.28,No.3(2008):321-324.(已被EI收录)
[9]“平板显示用场发射冷阴极材料”材料导报,Vol.22,No.1(2008):8-12
[10]“掺杂对碳基材料场发射的影响”材料导报,Vol.22,No.16(2008):79-82
[11]“衬底位置对大面积CVD金刚石薄膜质量的影响”微细加工技术,No.4(2008):40-42
(已被EI收录)
[12]“新型结构碳材料——碳纳米针”微细加工技术,No.5(2008).(已被EI收录)
[13]”线槽状几何增强模型研究”上海理工大学学报(自然科学版),2008,30(6)83-87
(已被EI收录)
[14]“ZnO半导体薄膜的研究进展”材料导报,Vol.22,专辑XII(2008):216-218
[15]“上海理工大学应用物理学专业建设及实验教学平台建设”华东理工大学学报(自然科学版),Vol.34Sup,(2008):160-162
[16]“金刚石薄膜的发展、制备及应用”,材料导报(网刊)Vol.3,No.3(2008):3-7
[17]“场电子发射器件中实际电子发射点密度达到实用程度的标准”,,中国组织工程与临床康复(原《中国临床康复》)Vol.11,No.4(2007):8948-8950
[18]“金刚石薄膜电致发光研究”,物理实验,Vol.26,No.7,(2006)13-18
[19]“金刚石薄膜电致发光现象的研究进展”物理实验。Vol.24,No.7(2004)11-15
[20]“掺稀土Ce的金刚石薄膜光致发光研究”物理实验Vol.23,No.1(2003)18-20.
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