开幕式上,胡金波致欢迎辞,表示期望本次论坛能紧紧围绕集成电路中的关键材料的研发中的挑战与难点,集思广益,攻坚克难,为保障国家安全和国民经济发展贡献力量。上海硅酸盐所20余位研究人员参加此次会议,刘学建研究员和姜大朋副研究员分别以“光刻机用先进陶瓷材料研究进展”和“光刻机物镜系统及掩膜台用关键光学材料研究”为题作了报告,介绍研究所在光刻机关键核心材料的研制和应用方面的进展。
参会专家们共同就如何解决集成电路关键材料的研发进行了学术分享和热烈讨论,为实现我国彻底解决集成电路关键材料“卡脖子”问题和关键核心技术实现自强自立献计献策。围绕集成电路关键材料的研发中遇到的问题:如何实现产、学、研更紧密的结合,关键材料研发中所使用的关键器具对于进口的依赖以及国内对于关键原材料的供应以及质量保证,专家们进行了深入的交流和讨论。
本次论坛为集成电路产业链探讨合作共赢提供一个良好的平台,让“产”“学”“研”各环节中学术界以及产业界的专家进一步了解集成电路产业链中材料的相关问题,探索研究机构通过科技创新提供相应的解决方案并转化为生产力的有效途径,将对上海市的集成电路产业崛起产生积极的推动作用。
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中科院上海分院院长胡金波致辞
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刘学建研究员作报告
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姜大朋副研究员作报告
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参会专家代表合影