纳米ITO粉末及高密度ITO靶制备工艺的研究现状
| 外文标题 | Technological Development of Preparing Nanosized ITO Powder and Ultra High Density ITO Target |
| 文献类型 | 期刊 |
| 作者 | Zhang, WJ[1];Wang, TM[2];Mi, B[3];Hong, K[4] |
| 机构 | 北京航空航天大学,北京,100083 ↓ |
| 通讯作者 | Zhang, WJ (reprint author), Beijing Univ Aeronaut & Astronaut, Sch Sci, Beijing 100083, Peoples R China. |
| 来源信息 | 年:2004卷:33期:5页码范围:449-453 |
| 期刊信息 | 稀有金属材料与工程影响因子和分区ISSN:1002-185X |
| 关键词 | 纳米粉末;ITO;溅射靶 |
| 摘要 | 对铟锡氧化物ITO(Indium Tin Oxide)纳米粉末的制备方法如均相共沉淀法,水溶液共沉淀法,电解法,溶胶-凝胶法,喷雾燃烧法,喷雾热分解法等以及ITO磁控溅射靶的现有几种制备工艺进行了综合评述.阐述了各种制备工艺过程和工作原理,比较和分析了各工艺方法的优缺点,并提出了制备高品质ITO粉末及ITO靶的努力方向. |
| 收录情况 | SCIE(WOS:000221772200001) |
| 链接地址 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_xyjsclygc200405001.aspx |
| DOI | 10.3321/j.issn:1002-185X.2004.05.001 |
| 学科 | 材料科学：综合；冶金工程 |
| 被引频次 | 10 |
| 基金 | 国防科工委预研项目 |
全文
影响因子：0.194
中科院分区：
| 一级学科 | 一级分区 | 二级学科 | 二级分区 |
| 工程技术 | 4 | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY材料科学：综合 | 4 |
| 工程技术 | 4 | METALLURGY & METALLURGICAL ENGINEERING冶金工程 | 4 |
JCR分区：
| 学科 | 分区 |
| MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | Q4 |
| METALLURGY & METALLURGICAL ENGINEERING | Q4 |
dc:title:纳米ITO粉末及高密度ITO靶制备工艺的研究现状
dc:creator:张维佳;王天民;糜碧,等
dc:date: publishDate:2004-05-01
dc:type:期刊
dc:format: Media：稀有金属材料与工程
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：稀有金属材料与工程.2004,33(5),449-453.
dc:identifier:DOI：10.3321/j.issn:1002-185X.2004.05.001
dc: identifier:ISBN:1002-185X
