FeSi-M-O(M=Al,Zr)纳米颗粒薄膜的结构与磁性研究
| 文献类型 | 学位 |
| 作者 | 兰卫华[1] |
| 机构 | 北京航空航天大学 ↓ |
| 授予学位 | 硕士 |
| 年度 | 2003 |
| 学位授予单位 | 北京航空航天大学 |
| 语言 | 中文 |
| 关键词 | 电子束物理气相沉积;颗粒薄膜;磁性能;电阻率;退火处理 |
| 摘要 | 该文以复合材料设计思想为指导,选用具有良好软磁性能的FeSi和具有高电阻率的Al<,2>O<,3>或ZrO<,2>),采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备了不同组分的FeSi-M-O(M=Al,Zr)纳米颗粒薄膜,并通过不同的退火处理对其结构进行改善,系统地研究了FeSi和Al<,2>O<,3>(或ZrO<,2>)的组织结构对薄膜磁性能和电阻率的影响.用EB-PVD技术,通过改变ZrO<,2>含量、基板温度、蒸发原子入射角等参数制备了不同组织结构的FeSi-Zr-O薄膜.对基板温度300℃时制备的ZrO<,2>含量为35wt﹪的FeSi-Zr-O颗粒膜进行真空退火热处理,Fe会进一步晶化,从而导致薄膜饱和磁化强度增加.同时退火也会在一定程度上消除薄膜内的残余应力,从而降低薄膜矫顽力. |
影响因子：
dc:title:FeSi-M-O(M=Al,Zr)纳米颗粒薄膜的结构与磁性研究
dc:creator:兰卫华
dc:date: publishDate:1753-01-01
dc:type:学位
dc:format: Media：北京航空航天大学
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：北京航空航天大学.2003.
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dc: identifier:ISBN:
