X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节
| 外文标题 | COMPARATIVE ANALYSIS OF DLC FLIM FINE STRUCTURE BY RAMAN SPECTRA AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY |
| 文献类型 | 期刊 |
| 作者 | Li, LH[1];Zhang, HQ[2];Cui, XM[3];Zhang, YH[4];Xia, LF[5];Ma, XX[6];Sun, Y[7] |
| 机构 | 北京航空航天大学机械学院,;哈尔滨工业大学材料学院, ↓ |
| 通讯作者 | Li, LH (reprint author), Beijing Univ Aeronaut & Astronaut, Sch Mech & Automat, Beijing 100083, Peoples R China. |
| 来源信息 | 年:2001卷:50期:8页码范围:1549-1553 |
| 期刊信息 | 物理学报影响因子和分区ISSN:1000-3290 |
| 关键词 | 类金刚石碳膜;Raman光谱;X射线光电子能谱 |
| 摘要 | 分别采用具有和不具有弯曲弧磁过滤器的两种真空阴极弧离子镀方法，在不同工艺参量下制备了类金刚石碳膜.采用Raman光谱和X射线光电子能谱（XPS）, 分析了不同工艺参量下的类金刚石碳膜的键结构，通过对Raman光谱的D峰、G峰和C1s电子结合能峰位、强度的对比，详细讨论了沉积工艺参量对类金刚石碳膜结构的影响.研究发现，不同工艺下具有高强度D峰Raman光谱的类金刚石碳膜，其C1s电子结合能却分别位于284.15，285.50 eV，表明高度石墨化和高度金刚石化两种状态类金刚石碳膜，都可以形成具有高强度D峰Raman光谱曲线. |
| 收录情况 | SCIE(WOS:000170333200028) |
| 链接地址 | http://d.g.wanfangdata.com.cn/Periodical_wlxb200108028.aspx |
| DOI | 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028 |
| 学科 | 物理：综合 |
| 被引频次 | 1 |
| 基金 | 国防预研基金; 国防科技预研跨行业综合技术项目 |
全文
影响因子：0.813
中科院分区：
| 一级学科 | 一级分区 | 二级学科 | 二级分区 |
| 物理 | 4 | PHYSICS, MULTIDISCIPLINARY物理：综合 | 4 |
JCR分区：
| 学科 | 分区 |
| PHYSICS, MULTIDISCIPLINARY | Q4 |
dc:title:X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节
dc:creator:李刘合;张海泉;崔旭明,等
dc:date: publishDate:2001-08-01
dc:type:期刊
dc:format: Media：物理学报
dc:identifier: LnterrelatedLiterature：物理学报.2001,50(8),1549-1553.
dc:identifier:DOI：10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028
dc: identifier:ISBN:1000-3290
