赵爱武
单位：合肥物质科学研究院-固体物理所
地址：安徽合肥1130 信箱
邮编：230031
电话：
个人主页： http://sourcedb.hf.cas.cn/rjc/ch/201601/t**_**.html
实验室介绍：


个人简历 Personal resume


赵爱武，博士，研究员，博导，2003年获中科院固体物理所凝聚态物理专业理学博士学位，2004-2006年在中国科技大学化学系做博士后。 主要从事纳米结构材料以及跨尺度微纳结构材料制备技术与性能研究。目前主要研究微纳结构材料及微纳结构系统的构筑原理及其在传感器、微流控芯片中的应用。目前主要主持的课题有国家自然科学基金面上项目、中国科学院知识创新工程重要方向项目和合肥物质科学中心的重要方向项目等，另外作为主要学术骨干参加的课题有973、国家“863”子课题项目等课题。目前主要主持的课题具体研究内容为SERS在微流控芯片中的应用和光谱增强型微纳米材料的设计以及纳米生物标记及传感研究方面。在国际学术刊物上发表SCI论文45篇，SCI论文被他引280多次。


研究方向 Research direction


1、功能微纳结构材料设计与制备
2、微纳结构功能材料在微纳器件和生命科学中的应用
3、细胞分选芯片在肿瘤细胞研究中的应用



招生信息 Enrollment information


考生应感兴趣于纳米结构材料合成方面或MEMS微加工及微流控芯片的设计制备研究。具有基础的材料结构分析及光谱分析知识,若具有生命科学方面的专业知识背景的更为理想。


论文专著 The monograph


1)Cube-like Fe3O4@SiO2@Au@Ag magnetic nanoparticles: a highly efficient SERS substrate for pesticide detection - Nanotechnology - 2018/2 - 0957-4484 29（16）
2)In-situ monitoring reversible redox reaction and circulating detection of nitrite via an ultrasensitive magnetic Au@Ag SERS substrate - Sensors & Actuators: B. Chemical - 2018.1 - 2018, 256, 107–116
3)Fabrication of Fe3O4@SiO2@Ag magnetic-plasmonic nanospindles as highly efficient SERS active substrates for label-free detection of pesticides - New Journal of Chemistry - 2017.6 - 2017, 41, 1582-1590
4)Facile Fabrication of Large-Scale Silver Nanowire Bilayer Films and Its Application as Sensitive and Reproducible Surface-Enhanced Raman Scattering Substrates - J. Nanosci. Nanotechnol - 2017.3 - 2017, 17,690-695.
5)Bio-inspired hierarchical hair arrays with tunable adhesive superhydrophobicity - Colloids and Surfaces A - 2017 - 538, 262–269
6)Fabrication of cube-like Fe3O4@SiO2@Ag nanocomposites with high SERS activity and their application in pesticide detection - J. Nanopart. Res. - 2016.3 - 2016, 18, 178
7)Hierarchically assembled NiCo@SiO2@Ag magnetic core–shell microspheres as highly efficient and recyclable 3D SERS substrates - Analyst - 2015.6 - 2015, 140, 440–448
8)Bioinspired ribbed hair arrays with robust superhydrophobicity fabricated by micro/nanosphere lithography and plasma etching - RSC Adv. - 2015.5 - 2015, 5, 96404–96411