俞国林 研究员
俞国林，男，1983年7月毕业于中国科学技术大学物理系，1998年9月于日本名古屋工业大学获博士学位，并于2000年被日本名古屋工业大学聘为副教授。2006年8月从加拿大国家研究院微结构研究所(researchofficer)回国。2008年获人事部高层次留学人才回国工作项目资助（全国十人之一），现任中科院上海技术物理研究所研究员，博士生导师。兼任加拿大国家研究院标准测量研究所客座研究员。
俞国林研究员是世界上最早开展Al2O3衬底上AlGaN材料研究的****之一，在这个研究领域连续发表过十余篇论文，至今仍被文献广为引用。在加拿大国家研究院微结构研究所工作期间，主要从事量子霍尔效应和量子点输运的研究工作。他的主要合作者是首先发现半导体量子点（二维人造原子）中电子壳层结构（S.Tarucha,D.G.Austing,etal.,Phys.Rev.Lett.77,3613(1996).）的科学家之一D.G.Austing博士。他们之间的重要研究成果正陆续在世界重要杂志上发表。目前的研究工作仍然专注于量子霍尔效应和量子点输运。在上海技术物理研究所有世界一流的这一领域的研究设备。
所在单位:中国科学院上海技术物理研究所
部　　门:物理室
地　　址:上海市玉田路500号
邮　　编:200083
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