中国科学院上海光学精密机械研究所高密度光存储技术实验室由干福熹院士于1985年创建。从上世纪八十年代初开始，在国内率先开展光存储材料和技术研究，是我国最重要的信息存储材料与技术研究基地之一。
　 本实验室长期从事新型光存储材料研究、多层膜结构设计和盘片制备、光盘母盘刻录技术研究、光盘性能测试与评估、光盘应用系统开发和新型超高密度光存储技术探索等方面的工作。近年来，本实验室密切注意国际信息存储技术发展的最新动态，研究开发提高存储密度和数据传输率的新型信息存储技术和材料。主要包括：光磁混合存储材料和技术；相变存储材料；近场超分辨纳米光存储材料与技术；数字全息光盘存储材料与技术；分子光存储材料与技术、新型纳米材料制备与表征技术和超高密度、超快光信息存储的物理基础等。完成了国家重大科技攻关项目、国家高技术发展计划（“863”）、 国家自然科学基金重点项目、中科院重大基础研究项目、上海市科技发展基金重点项目等三十余项课题的研究和开发任务，有十一项科研成果分别获国家、中科院和上海市科技进步奖，另有多项实用化成果通过各级鉴定。在国内外核心学术刊物上发表研究论文八百多篇，申请发明专利一百余项，培养硕士、博士研究生一百多人。
　 本实验室是光盘及其应用国家工程研究中心的技术依托单位，并与国内外光盘研究开发机构和相关企业建立了广泛而紧密的联系, 积极推进科研成果和技术的转化。同时，注重国际学术交流，自1988年创立至今，已成功地主办了八届国际光存储学术会议（ISOS）。该系列会议已成为本领域有重要影响力的国际学术会议之一。