10月17日至20日，由中国科学院上海硅酸盐研究所与中国科学院上海微系统与信息技术研究所联合承办的第14届等离子体基离子注入和沉积国际会议（PBII&D 2017）在上海举行。上海硅酸盐所生物材料与组织工程研究中心主任刘宣勇研究员与上海微系统所狄增峰研究员为大会主席，上海硅酸盐所丁传贤院士、上海微系统所王曦院士与香港城市大学朱剑豪教授为技术主席，上海硅酸盐所曹辉亮副研究员为大会秘书长。上海硅酸盐所所长宋力昕,广州有色金属研究院周克崧院士、国家自然科学基金委员会邓意达教授等出席会议，澳大利亚悉尼大学Marcela Bilek教授、中科院兰州化学物理研究所陈建敏研究员、香港城市大学Ricky Fu博士、大连理工大学雷明凯教授、阿根廷布宜诺斯艾利斯大学Adriana Márquez教授、荷兰格罗宁根大学Yutao Pei教授、台湾阳明大学黄何雄教授、哈尔滨工业大学田修波教授、美国西南研究院Ronghua Wei教授、香港大学Kelvin W.K. Yeung教授以及来自国内外高等院校、科研院所与公司的200多名代表参加了此次会议。

　　本届会议的主题是“等离子体表面处理技术的研究和应用”。10月18日上午，宋力昕、朱剑豪、刘宣勇、狄增峰分别致辞，周克崧院士与德国莱布尼茨表面改性研究所Stephan M?ndl教授相继作了大会特邀报告。18日下午至20日，与会代表围绕等离子体基离子注入和沉积技术、其它等离子表面处理技术、等离子体表面处理技术在生物材料表面改性中的应用、等离子表面处理技术在半导体材料表面改性中的应用、等离子体表面处理技术在其它材料表面改性中的应用等议题进行了分组交流与讨论。此外，会议还有墙报展示，并颁发了最佳墙报奖。

　　此次会议为研究者提供了一个讨论等离子体离子注入和沉积技术最新研究进展的交流平台。会议的成功举办不仅宣传了我国在等离子表面处理领域的研究成果，也进一步提升了我国在该领域的国际地位与影响力。

　　等离子体基离子注入和沉积国际会议是等离子体表面工程领域著名的国际会议，具有悠久的历史，1993年在美国召开第一届会议，每两年举办一届，迄今已举办13届。现已发展成为等离子基加工技术领域持续时间最长、最具声誉的国际会议之一。



上海硅酸盐所所长宋力昕致辞



大会技术主席、香港城市大学朱剑豪教授致辞



大会主席、上海硅酸盐所刘宣勇研究员致辞



大会主席、上海微系统所狄增峰研究员致辞



周克崧院士与丁传贤院士合影



德国莱布尼茨表面改性研究所Stephan M?ndl教授作特邀报告



与会代表作邀请报告



交流讨论



墙报展示



颁发最佳墙报奖



与会人员合影