本届会议的主题是“等离子体表面处理技术的研究和应用”。10月18日上午,宋力昕、朱剑豪、刘宣勇、狄增峰分别致辞,周克崧院士与德国莱布尼茨表面改性研究所Stephan M?ndl教授相继作了大会特邀报告。18日下午至20日,与会代表围绕等离子体基离子注入和沉积技术、其它等离子表面处理技术、等离子体表面处理技术在生物材料表面改性中的应用、等离子表面处理技术在半导体材料表面改性中的应用、等离子体表面处理技术在其它材料表面改性中的应用等议题进行了分组交流与讨论。此外,会议还有墙报展示,并颁发了最佳墙报奖。
此次会议为研究者提供了一个讨论等离子体离子注入和沉积技术最新研究进展的交流平台。会议的成功举办不仅宣传了我国在等离子表面处理领域的研究成果,也进一步提升了我国在该领域的国际地位与影响力。
等离子体基离子注入和沉积国际会议是等离子体表面工程领域著名的国际会议,具有悠久的历史,1993年在美国召开第一届会议,每两年举办一届,迄今已举办13届。现已发展成为等离子基加工技术领域持续时间最长、最具声誉的国际会议之一。
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上海硅酸盐所所长宋力昕致辞
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大会技术主席、香港城市大学朱剑豪教授致辞
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大会主席、上海硅酸盐所刘宣勇研究员致辞
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大会主席、上海微系统所狄增峰研究员致辞
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周克崧院士与丁传贤院士合影
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德国莱布尼茨表面改性研究所Stephan M?ndl教授作特邀报告
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与会代表作邀请报告
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交流讨论
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墙报展示
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颁发最佳墙报奖
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与会人员合影