2017年7月14日上午，上海光源软X射线干涉光刻（XIL）线站负责人吴衍青研究员携两位线站骨干成员来到中科院上海高研院（简称“高研院”），应邀为高研院的科研人员及学生作题为“上海光源EUV干涉光刻技术及发展”的讲座。

报告分为三部分：同步辐射装置的组成和应用、以及上海光源的规模和运行情况；XIL线站的具体情况及方法学发展现状；XIL线站涉及的电子束曝光技术。

报告结束后，现场的老师和同学们与吴衍青研究员及线站骨干成员进行了深入的探讨和交流。吴衍青强调上海光源面向国内外用户开放，欢迎高研院科研人员通过“上海光源用户管理系统”进行在线申请，希望能为更多科研人员提供大科学装置服务。

上海光源，是全球顶级中能第三代同步辐射大科学装置，软X射线干涉光刻（XIL）线站和电子束光刻（EBL）设备、若干图形转移设备及检测设备一起构成了上海光源微纳加工能力的主体。其中XIL线站使用EUV到软X射线的同步辐射，目前可以快速制作单次曝光面积0.4um x 0.4um，几十纳米到微米严格周期性结构。EBL设备与XIL线站构成互补，在光刻技术发展和满足用户需求上发挥着不可替代的作用。