陈宜方
微纳系统中心
职称：教授 博导
职务：信息学院教学指导委员会成员、信息学院教授委员会成员
电子邮件：yifangchen@fudan.edu.cn
办公地点：微电子楼305室
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研究兴趣
学术任职
获奖情况
学习工作经历
授课情况
代表性论文或专著

一、纳米技术
1. 纳米光刻（Nanolithography）: 高分辨率电子束光刻（High resolution electron beam lithography） 纳米压印光刻（Nanoimprint lithography） 卷对卷微纳滚动热压印（Micro Nano roll-to-roll embossing/printing） 三维电子束灰度光刻技术（Grey scale EB-lithography for 3D profile） Stencil光刻（Stencil lithography） ? Stencil近场光刻（Stencil near field lithography (patented)） ? 电子束全息光刻技术（EBL for holography） 泰伯效应纳米光刻（Talbot nanolithography） ? 光子纳米喷射超分辨光刻（Super resolution lithography by photon nanojet）
2. 微纳工艺与纳米制备（Micro nano processing & nanofabrications）:
? X射线光学中高高宽比菲涅尔波带片，汇聚透镜和光栅（High aspect ratio Fresnel zone plates, condenser, gratings ） 纳米尺度反应离子刻蚀，深RIE，离子束刻蚀（Nanoscale RIE, DRIE, Ion beam etch） 纳米压印模板（NIL templates/stamps/shims） 氮化硅隔膜技术（SiNx membrane technique） 纳米压印制备微流体/纳流体（Microfluidic/nanofluidic channels by NIL） 纳米透镜研制超衍射极限成像（Nanolens for image beyond diffraction limit by photon nanojet effect） 原子力显微镜高高宽比探针制备（Manufacture of AFM tips） 纳米电机系统/微米电机系统（NEMS/MEMS technique）
二、纳米科学（Nanoscience）
1．纳米电子器件（Nanoelectronics）: 高电子迁移率晶体管和T形栅（High electron mobility transistors (HEMTs) and T gates） 石墨烯、硫化钼光电器件和纳米带器件（graphene & MoS2: photoelectronic devices, nanoribbon devices） 低维系统量子输运系统（Quantum transport in lower dimensional systems：2DEG, 1DEG, 0DEG quantum dots） 纳米铁磁结构中与电子自选相关的输运（Spin relevant transport in nano ferromagnetic structures）
2．纳米光子学与超构材料（Nanophotonics & metamaterials）： 二维、三维纳米光子晶体和超构材料的光学特性研究（Optical properties of 2D and 3D nanophotonics & metamaterials） 纳米结构色（Coloring effects by nanophotonic structures and metamaterials） 涡旋光场的超薄纳米结构形成与调控技术（Optical vortex (conversion from SAM to OAM by ultrathin nanoconverters）
3．纳米仿生结构（Nanobionic structure: technology, science and applications ） 自然生物结构的纳米制备（Nanofabrications of naturally occurring biological nanostructures） 自然仿生结构的光学物理特性研究（Optical and physical property study of fabricated nanobionic structures）
1. 高电子迁移率晶体管和单片微波集成线路（HEMTs and MMICs） 所有T形栅的纳米制备工艺（Nanofabrications of all kinds of T shape gates） GaN基、InP基和GaAs基HEMT器件的纳米制备与特性表征（Fabrications and characterizations of GaN-, InP and GaAs based HEMTs） 平面电感器、电容器、空气桥和薄膜电阻的纳米加工（Fabrications of inductors, capacitors, air-bridge and film resistors） MMIC制备（Manufactures of MMICs）
2. X射线光学显微成像关键部件纳米加工研制技术（Nanofabrications of X-ray optical components） 高高宽比菲涅尔波带片（High aspect ratio zone plates (100 nm – 10 nm)） 高高宽比汇聚透镜（High aspect ratio condensers (200 – 100 nm)） 高高宽比纳米光栅（High aspect ratio gratings (100 – 50 nm)）
三、国家重大工程项目（Large National Engineering Projects）


2014年起：英国国家物理实验室（NPL），客座高级研究员

2011-2014：中科院电子所，客座研究员

2010：瑞士洛桑理工学院（EPFL）客座教授

IRSN Electronics杂志和英国e-book的编辑

英国工程与物理科学理事会(EPSRC)的评审员

Elsevier杂志和美国真空与科学技术杂志(JVST)的审稿员



1995 英国牛津大学Clarendon Laboratory凝聚态物理系 理学博士

1985 中科院上海技术物理研究所半导体器件物理与工艺 理学硕士

1982 上海复旦大学物理系电子物理专业 理学学士


研究生专业选修课：纳米技术与应用

1.Continuous metal plasmonic frequency selective surfaces，OPTICS EXPRESS，2011，Vol. 19, No. 23，p23279
2.The fabrication of sub-30 nm T gates using SiNx as a supporting and passivation layer，Journal of Vacuum Science and Technology，2000，Vol. B18(6)，p.3521
3.Metamaterials: optical activity without chirality，Phys Rev Lett，2009，Vol. 102，p.113902
4.Asymmetric Propagation of Electromagnetic waves through a Planar Chiral Structure，Phys Review Lett.，2006，Vol. 97，p.167401
5.Nanohole array as a lens，Nano Letters，2008，Vol. 58，p. 2469
6.Hyperspectral imaging of plasmonic nanostructures with nanoscale resolution，OPTICS EXPRESS ，2007，vol. 15 (18），11313-11320
7.Focusing of light by a nanohole array，Appl. Phys. Lett.，2007，90，091119
8. Effects of developing conditions on the contrast and sensitivity of hydrogen silsequioxane，Microelectronic Engineering，2006，vol. 83，p1119
9.One dimensional transport and gating of InAs/GaSb structures，Superlattices and Microstructures，1994，15，p41
10.A Low Field Magneto-transport Study of Localisation in a Mesoscopic Anti-dot Array，Physical Review，1993，B47，p.7354