大连理工大学物理学院导师教师信息介绍简介-徐军

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本站小编 Free考研考试/2020-03-28

副教授博士生导师硕士生导师
主要任职：无
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
在职信息：在职
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理材料表面工程
办公地点：大连理工大学物理学院三束实验室2号楼202房间
联系方式：大连理工大学物理学院三束实验室
电子邮箱：

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同专业硕导
个人学术主页

教育经历

1996.9--2002.4
大连理工大学等离子体物理博士

1990.9--1993.7
大连理工大学材料表面改性硕士

1986.9--1990.7
北京理工大学应用物理学学士

1978.9--1981.7
山东省军工技工学校磨工

工作经历

1993.7--至今
大连理工大学教师
1981.7--1986.9
山东第一机械厂（国营976厂）工人

研究方向

等离子体技术应用；低温等离子体材料表面改性；等离子体合成新材料；等离子体增强气相沉积各种金属、半导体等单质薄膜及氮化物、碳化物、氧化物等各种硬质和功能化合物薄膜；气相沉积薄膜生长机理；等离子体在线诊断技术。

研究领域

论文成果More>>

Zhang, Yu,Xu, Jun,Zhou, Da-Yu,Wang, Hang-Hang,Lu, Wen-Qi,Choi, Chi-Kyu.Effects of Hf buffer layer at the Y-doped HfO2/Si interface on ferroelectric characteristics of Y-doped HfO(2 )films formed by reactive sputtering[J],CERAMICS INTERNATIONAL,2018,44(11):12841-12846
Han, Dao-Man,Liu, Yong-Xin,Gao, Fei,Wang, Xiang-Yu,Li, Ang,Xu, Jun,Jing, Zhen-Guo,Wang, You-Nian.Observation of the standing wave effect in large-area, very-high-frequency capacitively coupled plasmas by using a fiber Bragg grating sensor[J],JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,2018,123(22)
Han, Dao-Man,Liu, Yong-Xin,Gao, Fei,Liu, Wen-Yao,Xu, Jun,Wang, You-Nian.Measurements of argon metastable density using the tunable diode laser absorption spectroscopy in Ar and Ar/O-2[J],CHINESE PHYSICS B,2018,27(6)
Zhang, Yu,Xu, Jun,Zhou, Da-Yu,Wang, Hang-Hang,Lu, Wen-Qi,Choi, Chi-Kyu.Structural and electrical properties of reactive magnetron sputtered yttrium-doped HfO2 films[J],CHINESE PHYSICS B,2018,27(4)
Li, Jianquan,Lu, Wenqi,Xu, Jun,Gao, Fei,Wang, Younian.Automatic emissive probe apparatus for accurate plasma and vacuum space potential measurements[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2018,20(2)
徐军,周大雨,陆文琪.Structrual and Electrical Properties of Reactive Magnetron Sputtered Yttrium-doped HfO2 Films[J],Chinese Physics B,2018,27(4):481031-481036

专利More>>

一种凸凹探针及其等离子体诊断方法
数据采集卡的等效采样方法
一种基于虚拟仪器的朗缪尔探针等离子体诊断方法
基片梯度加热器
射频等离子体探针装置
一种射频放电等离子体诊断装置

著作成果

射频等离子体物理学

科研项目

纳米涂层等离子体制备新技术二期研发, 企事业单位委托科技项目, 2018/11/09-2019/12/31, 进行
纳米涂层等离子体制备新技术研发, 企事业单位委托科技项目, 2017/09/18-2020/09/30, 进行
硅掺杂二氧化铪反铁电纳米薄膜相变及储能特性研究, 国家自然科学基金项目, 2016/08/17, 进行

研究领域

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论文成果

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[1] Zhang, Yu,Xu, Jun,Zhou, Da-Yu,Wang, Hang-Hang,Lu, Wen-Qi,Choi, Chi-Kyu.Effects of Hf buffer layer at the Y-doped HfO2/Si interface on ferroelectric characteristics of Y-doped HfO(2 )films formed by reactive sputtering[J],CERAMICS INTERNATIONAL,2018,44(11):12841-12846
[2] Han, Dao-Man,Liu, Yong-Xin,Gao, Fei,Wang, Xiang-Yu,Li, Ang,Xu, Jun,Jing, Zhen-Guo,Wang, You-Nian.Observation of the standing wave effect in large-area, very-high-frequency capacitively coupled plasmas by using a fiber Bragg grating sensor[J],JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,2018,123(22)
[3] Han, Dao-Man,Liu, Yong-Xin,Gao, Fei,Liu, Wen-Yao,Xu, Jun,Wang, You-Nian.Measurements of argon metastable density using the tunable diode laser absorption spectroscopy in Ar and Ar/O-2[J],CHINESE PHYSICS B,2018,27(6)
[4] Zhang, Yu,Xu, Jun,Zhou, Da-Yu,Wang, Hang-Hang,Lu, Wen-Qi,Choi, Chi-Kyu.Structural and electrical properties of reactive magnetron sputtered yttrium-doped HfO2 films[J],CHINESE PHYSICS B,2018,27(4)
[5] Li, Jianquan,Lu, Wenqi,Xu, Jun,Gao, Fei,Wang, Younian.Automatic emissive probe apparatus for accurate plasma and vacuum space potential measurements[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2018,20(2)
[6] 徐军,周大雨,陆文琪.Structrual and Electrical Properties of Reactive Magnetron Sputtered Yttrium-doped HfO2 Films[J],Chinese Physics B,2018,27(4):481031-481036
[7] Li, Jian-Quan,Lu, Wen-Qi,Xu, Jun,Gao, Fei,Wang, You-Nian.Automatic emissive probe apparatus for efficient plasma potential measurements[J],REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS,2017,88(11):115106
[8] 李建泉,陆文琪,徐军.基于虚拟仪器的自动发射探针诊断装置[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
[9] 韩道满,高飞,刘永新,徐军,王友年.甚高频大面积容性放电中电磁效应的实验研究[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
[10] Li, Jian-quan,Xu, Jun,Bai, Yu-jing,Lu, Wen-qi,Wang, You-nian.Improved inflection point method of emissive probe for accurate measurement of plasma potential[J],JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A,2016,34(6)
[11] 谭伟,徐军,王行行,陆文琪.射频反应磁控溅射制备AlN多晶薄膜及其择优取向研究[J],真空科学与技术学报,2016,36(10):1092-1098
[12] Bai, Yu-jing,Lu, Wen-qi,Li, Jian-quan,Xu, Jun,Wang, You-nian.Influence of the bias signal amplitude and frequency on the harmonic probe measurements in plasma diagnostics[J],PHYSICS OF PLASMAS,2016,23(8)
[13] Zhang, Yu,Xu, Jun,Wang, You-Nian,Choi, Chi Kyu,Zhou, Da-Yu.Facing-target mid-frequency magnetron reactive sputtered hafnium oxide film: Morphology and electrical properties[J],JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY,2016,68(5):679-685
[14] Xu Jun,Lu Wenqi,Wang Younian.Improvement of the Harmonic Technique of Probe for Measurements of Electron Temperature and Ion Density[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2016,18(1):58-61
[15] Mei, X.,Fu, J.,Liu, X.,Xu, J.,Wang, Y..The corrosion and oxidation resistance improvement of DZ4 Ni-based superalloy irradiated by high intensity pulsed ion beams[J],Advanced Materials Research,2012,538-541:276-280
[16] 朱明,苏元军,范鹏辉,徐军.等离子体源辅助磁控溅射法低温(200℃)制备多晶硅薄膜[J],真空,2012,49(3):47-50
[17] Su, Yuanjun,Xu, Jun,Dong, Chuang,Lu, Wenqi.Hydrogen plasma induced crystallization of Si thin films by remote inductively coupled plasma source assistant pulsed dc twin magnetron sputtering[J],SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY,2012,206(14):3159-3164
[18] Pang Jianhua,Lu Wenqi,Xin Yu,Wang Hanghang,He Jia,Xu Jun.Plasma Diagnosis for Microwave ECR Plasma Enhanced Sputtering Deposition of DLC Films[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2012,14(2):172-176
[19] Su Yuan-Jun,Xu Jun,Zhu Ming,Fan Peng-Hui,Dong Chuang.Hydrogenated poly-crystalline silicon thin films deposited by inductively coupled plasma assisted pulsed dc twin magnetron sputtering[J],ACTA PHYSICA SINICA,2012,61(2)
[20] 苏元军,徐军,朱明,范鹏辉,董闯.利用等离子体辅助脉冲磁控溅射实现多晶硅薄膜的低温沉积[J],物理学报,2011,61(2):499-508

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专利

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[1]一种凸凹探针及其等离子体诊断方法
[2]数据采集卡的等效采样方法
[3]一种基于虚拟仪器的朗缪尔探针等离子体诊断方法
[4]基片梯度加热器
[5]射频等离子体探针装置
[6]一种射频放电等离子体诊断装置
[7]等离子体诊断用多功能探针

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[1]射频等离子体物理学

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[1]纳米涂层等离子体制备新技术二期研发, 2018/11/09-2019/12/31, 进行
[2]纳米涂层等离子体制备新技术研发, 2017/09/18-2020/09/30, 进行
[3]硅掺杂二氧化铪反铁电纳米薄膜相变及储能特性研究, 国家自然科学基金, 2016/08/17, 进行

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等离子体薄膜沉积与刻蚀 /2019-2020 /春学期 /2.0学分 /**
等离子体薄膜沉积与刻蚀 /2019-2020 /春学期 /32课时 /2.0学分 /**
低温等离子体表面处理技术（双语授课） /2019-2020 /秋学期 /2.0学分 /**
等离子体技术与应用(双语) /2019-2020 /秋学期 /48课时 /3.0学分 /**
低温等离子体表面处理技术（双语授课） /2019-2020 /秋学期 /2.0学分 /**
等离子体技术与应用(双语) /2019-2020 /秋学期 /48课时 /3.0学分 /**

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本科生课程

课程名称学年学期学时学分课程号等离子体薄膜沉积与刻蚀 2019-2020 春学期 - 2 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2019-2020 秋学期 - 2 ** 等离子体技术与应用(双语) 2019-2020 秋学期 48 3 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2019-2020 秋学期 - 2 ** 等离子体技术与应用(双语) 2019-2020 秋学期 48 3 ** 等离子体技术与应用(双语) 2018-2019 秋学期 48 3 ** 等离子体技术与应用(双语) 2017-2018 秋学期 48 3 **

研究生课程

课程名称学年学期学时学分课程号等离子体薄膜沉积与刻蚀 2019-2020 春学期 32 2 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2019-2020 秋学期 32 2 ** 等离子体薄膜沉积与刻蚀 2018-2019 春学期 32 2 ** 等离子体薄膜沉积与刻蚀 2018-2019 春学期 32 2 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2018-2019 秋学期 32 2 ** 等离子体薄膜沉积与刻蚀 2017-2018 春学期 32 2 ** 等离子体薄膜沉积与刻蚀 2017-2018 春学期 32 2 ** 等离子体薄膜沉积与刻蚀 2017-2018 春学期 32 2 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2017-2018 秋学期 32 2 ** 低温等离子体表面处理技术（双语授课） 2017-2018 秋学期 32 2 **

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