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大连理工大学物理学院导师教师信息介绍简介-赵书霞

本站小编 Free考研考试/2020-03-28

基本信息Personal Information

副教授
硕士生导师
主要任职:无
性别:女
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
在职信息:在职
所在单位:物理学院
学科:等离子体物理
办公地点:新三束实验室3号楼 201室
联系方式:**-21
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个人简介Personal Profile

赵书霞,女,河北省临漳县人,副教授,硕士生导师,主要从事低温等离子体源和微电子处理工艺的数值模拟研究,模拟方法包括流体模拟、粒子模拟、混合模拟以及整体模拟,先后采用这些方法模拟过氮气平板和空心阴极直流辉光的放电特性、射频感性耦合等离子体的模式转换机理、碳氟性等离子体的放电特性和刻蚀机理、以及背景气体输运和等离子体的耦合机制等。完成国家青年自然科学基金一项和企业项目研发横向合同一项。截止目前共发表相关学术论文23篇,其中SCI和EI均收录的国际刊源文章共18篇,一作文章8篇,本人为通讯作者文章6篇,在参与发表的论文里都做出了实质性的贡献。目前教授本科生必修课程《数学物理方法》和双语课程《科技文献阅读与写作》,并担任四名本科生的指导导师。在研硕士生3名,毕业1名。
论文发表详细情况:
[1]Shu-Xia Zhao, Fei Gao, Ya-Ping Wang, You-Nian Wang and Annemie Bogaerts, "Effects of feedstock availability on the negative ion behavior in a C4F8 inductively coupled plasma", J. Appl. Phys., 118(3), 033301 (2015)
[2]Shu-Xia Zhao, Yu-Ru Zhang, Fei Gao, You-Nian Wang and Annemie Bogaerts, "Bulk plasma fragmentation in C4F8 inductively coupled plasma: a hybrid modeling study", J. Appl. Phys., 117(24), 243303 (2015)
[3]Shu-Xia Zhao, Fei Gao, You-Nian Wang and Annemie Bogaerts, "Gas ratio effects on the Si etch rate and profile uniformity in an Ar/CF4 inductively coupled plasma", Plasma Sources Sci. Technol. 22, 015017 (2013)

[4]Shu-Xia Zhao, Fei Gao, You-Nian Wang and Annemie Bogaerts, "The effects of F2 attachment by low-energy electrons on the electron behavior in an Ar/CF4 inductively coupled plasma", Plasma Sources Sci. Technol. 21, 025008 (2012).

[5]Shu-Xia Zhao, and You-Nian Wang, "Investigation of the effect of metastable atoms on mode transition in argon inductive discharge via a hybrid model ", J. Phys. D: Appl. Phys. 43, 275203 (2010).
[6]Shu-Xia Zhao, Fei Gao and You-Nian Wang, "Dynamic investigation of mode transition in inductively coupled plasma with a hybrid model", J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 225203 (2009).
[7]Shu-Xia Zhao, Xiang Xu, Xue-Chun Li and You-Nian Wang, "Fluid simulation of the E-H mode transition in inductively coupled plasma", J. Appl. Phys. 105, 083306 (2009)
[8]赵书霞,张连珠,“氮气辉光放电等离子体过程的PIC/MCC模拟”,核聚变与等离子体物理,29, 39-43 (2009)
[9]Hui-Jing Xu,Shu-Xia Zhao, Yu-Ru Zhang, Fei Gao, Xue-Chun Li, You-Nian Wang, "Equivalent circuit effects on mode transitions in H2 inductively coupled plasmas",Phys. Plasma, 22, 043508, (2015)
[10]Hui-Jing Xu, Shu-Xia Zhao, Fei Gao, Yu-Ru Zhang, Xue-Chun Li, You-Nian Wang, "Discontinuity of mode transition and hysteresis in hydrogen inductively coupled plasma via a fluid model", Chin. Phys. B, 24(11), 115201,(2015)
[11]Wei Liu, Fei Gao, Shu-Xia Zhao, Xue-Chun Li, and You-Nian Wang, "Mode transitioin in CF4+Ar inductively coupled plasma", Phys. Plasmas, 20, 123513 (2013)
[12]Lian-Zhu Zhang, Shu-Xia Zhao, Xiu-Lan Meng, “Characterization of nitrogen glow discharge plasma via optical emission spectrum simulation”, Plasma Sci. and Tech., 10, 455 (2008)
[13]Fei Gao, Shu-Xia Zhao, Xiao-Song Li and You-Nian Wang, "Effects of matching network on the hysteresis during E and H mode transitions in argon inductively coupled plasma ", Phys. Plasmas 17, 103507 (2010).
[14]Fei Gao, Shu-Xia Zhao and You-Nian Wang, "Comparison between experiment and simulation for Ar inductively coupled plasma", Phys. Plasmas 16, 113502, (2009).
[15]Xue-Jiao Si, Shu-Xia Zhao, Xiang Xu, Annemie Bogaerts and You-Nian Wang, "Fluid simulations of frequency effects on nonlinear harmonics in inductively coupled plasma", Phys. Plasmas, 18, 033504 (2011)
[16]Wei Yang, Shu-Xia Zhao, De-Qi Wen, Wei Liu, Yong-Xin Liu, Xue-Chun Li, and You-Nian Wang, "F-atoms kinetics in SF6/Ar inductively coupled plasma", J. Vac. Sci. Technol. A, 34(3), 031305 (2016)
[17]Wei, Liu, De-Qi Wen, Shu-Xia Zhao, Fei Gao, and You-Nian Wang, "Characterization of O2 /Ar inductively coupled plasma studied by using a Langmuir probe and global model', Plasma Sources Sci. Technol. 24, 025035 (2015)
[18]Xi-Feng Wang, Yuan-Hong Song, Shu-Xia Zhao, Zhong-Ling Dai, and You-Nian Wang, "Hybrid Simulation of Duty Cycle In?uences on Pulse Modulated RF SiH4/Ar Discharge", Plasma Sci. Technol., 18(1), 1 (2016)
[19]Yu-Ru Zhang, Xiang Xu, Shu-Xia Zhao, Annemie Bogaerts, and You-Nian Wang, "Comparison of electrostatic and electromagnetic simulations for very high frequency plasma", Phys. Plasmas, 17, 113512 (2010)
[20]Quan-Zhi Zhang, Shu-Xia Zhao, Wei Jiang, and You-Nian Wang, "Separate control between geometrical and electrical asymmetry effects in capacitively coupled plasmas", J. Phys. D: Appl. Phys., 45, 305203 (2012)
[21]Wei Jiang, Hong-Yu Wang, Shu-Xia Zhao, and You-Nian Wang, "Hysteresis induced by gap length effects in CCP at low pressure", J. Phys. D: Appl. Phys., 42, 102005 (2009)
[22]Liang Yang, Hui-Jie Yan, Xiao-Hua Qi, Shu-Xia Zhao, and Chun-Sheng Ren, "Geometry Effects of SDBD Actuator on Atmospheric-Pressure Discharge Plasma Air?ow Acceleration", IEEE Trans. Plasma Sci., 43(10), 3653 (2015)
[23]Fei Gao, Xue-Chun Li, Shu-Xia Zhao, and You-Nian Wang, "Spatial variation behaviors of argon inductively coupled plasma during discharge mode transition", Chin. Phys. B, 21(7), 075203 (2012)
教育经历Education Background
工作经历Work Experience
2004.92007.6
河北师范大学
材料物理与化学
硕士
2007.92010.6
大连理工大学
等离子体物理
博士
2000.92001.6
河北师范大学
物理学
学士
1997.82000.6
河北省临潭县中学
2013.1至今
大连理工大学
2010.82012.12
比利时安特卫普大学
博士后

研究方向Research Focus
社会兼职Social Affiliations
流体力学的有限差分和有限体积数值模拟技术
具有自主知识产权的大型源代码的编写和调试
COMSOL多物理场耦合和PEGSUS低温等离子体模拟商业软件的使用
低气压射频等离子体源背景气体和中性基团的输运机制
低气压射频容性和感性耦合放电的流体动力学模型研究
碳氟等离子体源的放电特性和硅材料的刻蚀机理
射频感性耦合等离子体放电模式转化机理的混合模拟研究
氮气直流平板和空心阴极辉光放电特性的PIC/MCC模拟研究
低温等离子体源的多物理场数值仿真技术


基本信息Personal Information

副教授
硕士生导师
主要任职:无
性别:女
毕业院校:大连理工大学
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研究领域




论文成果 More>>


崔文俐,赵书霞.射频容性耦合放电流体力学仿真模型的多样性分析[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
王彦洁,赵书霞.射频感性耦合的电负性双原子分子气体放电的空间特征形貌[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
赵书霞,高磊,田宇,王彦洁.复变函数n√z的多值性问题及其教学意义[J],教育教学论坛,2017,52:191-193
Yang, Wei,Zhao, Shu-Xia,Wen, De-Qi,Liu, Wei,Liu, Yong-Xin,Li, Xue-Chun,Wang, You-Nian.F-atom kinetics in SF6/Ar inductively coupled plasmas[J],JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A,2016,34(3)
Wang Xifeng,Song Yuanhong,Zhao Shuxia,Dai Zhongling,Wang Younian.Hybrid Simulation of Duty Cycle Influences on Pulse Modulated RF SiH4/Ar Discharge[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2016,18(4):394-399
Zhao Shu-Xia,Gao Fei,Zhang Yu-Ru,Li Xue-Chun,Wang You-Nian.Discontinuity of mode transition and hysteresis in hydrogen inductively coupled plasma via a fluid model[J],CHINESE PHYSICS B,2015,24(11)

专利


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著作成果


Mode Transition and Hysteresis in Inductively Coupled Plasma Sources

科研项目


高密度感应耦合等离子体源合作研究, 企事业单位委托科技项目, 2013/01/25-2013/06/30, 完成
射频感性耦合碳氟性等离子体的放电机理和基片偏压效应的研究, 主管部门科技项目, 2013/10/28-2017/05/01, 完成
碳氟性等离子体的放电机理和刻蚀过程的研究, 国家自然科学基金项目, 2013/09/25-2016/12/31, 完成
大功率低压射频感性耦合负氢离子源的物理基础研究, 国家科技部 , 2014/12/31, 进行






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[1]崔文俐,赵书霞.射频容性耦合放电流体力学仿真模型的多样性分析[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
[2]王彦洁,赵书霞.射频感性耦合的电负性双原子分子气体放电的空间特征形貌[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017,1
[3]赵书霞,高磊,田宇,王彦洁.复变函数n√z的多值性问题及其教学意义[J],教育教学论坛,2017,52:191-193
[4]Yang, Wei,Zhao, Shu-Xia,Wen, De-Qi,Liu, Wei,Liu, Yong-Xin,Li, Xue-Chun,Wang, You-Nian.F-atom kinetics in SF6/Ar inductively coupled plasmas[J],JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A,2016,34(3)
[5]Wang Xifeng,Song Yuanhong,Zhao Shuxia,Dai Zhongling,Wang Younian.Hybrid Simulation of Duty Cycle Influences on Pulse Modulated RF SiH4/Ar Discharge[J],PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY,2016,18(4):394-399
[6]Zhao Shu-Xia,Gao Fei,Zhang Yu-Ru,Li Xue-Chun,Wang You-Nian.Discontinuity of mode transition and hysteresis in hydrogen inductively coupled plasma via a fluid model[J],CHINESE PHYSICS B,2015,24(11)
[7]Yan, Hui-Jie,Zhao, Shu-Xia,Ren, Chun-Sheng.Geometry Effects of SDBD Actuator on Atmospheric-Pressure Discharge Plasma Airflow Acceleration[J],IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE,2015,43(10):3653-3661
[8]高飞,赵书霞,王亚萍,王友年.射频感性耦合C4F8等离子体的离解和电离机制[A],第十七届全国等离子体科学技术会议,2015,1-26
[9]Zhao, Shu-Xia,Gao, Fei,Wang, You-Nian.Effects of feedstock availability on the negative ion behavior in a C4F8 inductively coupled plasma[J],JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,2015,118(3)
[10]Zhao, Shu-Xia,Zhang, Yu-Ru,Gao, Fei,Wang, You-Nian.Bulk plasma fragmentation in a C4F8 inductively coupled plasma: A hybrid modeling study[J],JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,2015,117(24)
[11]Liu, Wei,Zhao, Shu-Xia,Gao, Fei,Wang, You-Nian.Characterization of O-2/Ar inductively coupled plasma studied by using a Langmuir probe and global model[J],PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY,2015,24(2)
[12]Zhao, Shu-Xia,Zhang, Yu-Ru,Gao, Fei,Li, Xue-Chun,Wang, You-Nian.Equivalent circuit effects on mode transitions in H-2 inductively coupled plasmas[J],PHYSICS OF PLASMAS,2015,22(4)
[13]赵书霞,张钰如,高飞,李雪春,王友年.Equivalent circuit effects on mode transitions in H2 inductively coupled plasmas[J],Physcis of Plasmas,2015,22(4):43508-43508
[14]赵书霞,高飞,王友年.Characterization of O2/Ar inductively coupled plasma studied by using a Langmuir probe and global model[J],Plasma Sources Sci. Technol.,2015,24(2):25035-25035
[15]Fei, G.,Wang, Y.-N.,Yu-Ru, Z.,Shu-Xia, Z.,Xue-Chun, L.,You-Nian, W.,Gao, F.,Zhang, Y.-R.,Zhao, S.-X.,Li, X.-C..Electronic dynamic behavior in inductively coupled plasmas with radio-frequency bias[J],CHINESE PHYSICS B,2014,23(11)
[16]Gao, Fei,Zhang, Yu-Ru,Zhao, Shu-Xia,Wang, You-Nian.Experimental and numerical investigations of the phase-shift effect in capacitively coupled discharges[J],PHYSICS OF PLASMAS,2014,21(8)
[17]高飞,张钰如,赵书霞,宋远红,王友年.Experimental and Numerical Studies of Pulse-Modulated ICP Discharges[A],2014,36-36
[18]Liu, Wei,Gao, Fei,Zhao, Shu-Xia,Li, Xue-Chun,Wang, You-Nian.Mode transition in CF4 + Ar inductively coupled plasma[J],PHYSICS OF PLASMAS,2013,20(12)
[19]Gao Fei,Liu Wei,Zhao Shu-Xia,Zhang Yu-Ru,Sun Chang-Sen,Wang You-Nian.Changes of the electron dynamics in hydrogen inductively coupled plasma[J],CHINESE PHYSICS B,2013,22(11)
[20]刘巍,高飞,赵书霞,王友年.射频感应耦合CF_4/Ar等离子体中模式转换的实验研究[A],第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会,2013,1
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Mode Transition and Hysteresis in Inductively Coupled Plasma Sources
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射频感性耦合碳氟性等离子体的放电机理和基片偏压效应的研究, 高等学校博士学科点专项科研基金项目, 2013/10/28-2017/05/01, 完成
碳氟性等离子体的放电机理和刻蚀过程的研究, 国家自然科学基金, 2013/09/25-2016/12/31, 完成
大功率低压射频感性耦合负氢离子源的物理基础研究, ITER计划, 2014/12/31, 进行
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数学物理方法1 /2019-2020 /秋学期 /32课时 /2.0学分 /**
数学物理方法1 /2019-2020 /秋学期 /32课时 /2.0学分 /**
科技文献阅读与写作 /2018-2019 /夏学期 /24课时 /1.5学分 /**
数学物理方法1 /2018-2019 /秋学期 /32课时 /2.0学分 /**
科技文献阅读与写作 /2017-2018 /夏学期 /24课时 /1.5学分 /**
数学物理方法1 /2017-2018 /秋学期 /32课时 /2.0学分 /**

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课程名称学年学期学时学分课程号 数学物理方法1 2019-2020 秋学期 32 2 ** 数学物理方法1 2019-2020 秋学期 32 2 ** 科技文献阅读与写作 2018-2019 夏学期 24 1.5 ** 数学物理方法1 2018-2019 秋学期 32 2 ** 科技文献阅读与写作 2017-2018 夏学期 24 1.5 ** 数学物理方法1 2017-2018 秋学期 32 2 **








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