丁万昱
学科、专业名称

材料科学与工程



学 术 职 衔

博士、硕士生导师
导 师 姓 名

丁万昱
所获学位及单位

博士 大连理工大学
职 称

副教授
工 作 部 门

材料科学与工程学院

光电材料与器件工程技术研究中心
联 系 电 话*

**
电 子 邮 箱*

dwysd_2000@163.com

dwysd@djtu.edu.cn
研 究 方 向

材料表面与界面、薄膜制备与分析
学习及工作经历
1998.09-2002.06 大连理工大学物理系 应用物理专业 获理学学士学位；

2002.09-2007.10 大连理工大学物理系 等离子体物理专业 硕博连读 获理学博士学位；

2007.10-2010.06 大连交通大学材料科学与工程学院 光电材料与器件工程技术研究中心 讲师；

2010.06-今 大连交通大学材料科学与工程学院 光电材料与器件工程技术研究中心 副教授。
进修及访学经历
2008.09-2009.03，日本埼玉工业大学先端科学研究所，特聘研究员；

2011.09-2012.03，日本埼玉工业大学先端科学研究所，特聘研究员。
承担科研项目情况
1. C/N/F 离子在过渡金属后金属氧化物薄膜中的扩散机理研究，国家自然科学基金委， 2015 -2018，85万，主持；

2. a-SiO_xN_y薄膜化学键结构与缺陷形成机理的研究，国家自然科学基金委，2012-2014，25万，主持；

3. 辽宁省高等学校杰出青年学者成长计划项目，辽宁省教育厅，2011-2014，6万，主持；

4. N 离子束与TiO₂薄膜表面相互作用及N 掺杂机理研究，辽宁省科技厅，2012-2014，5万，主持；

5. 离子束与PET表面相互作用的机理研究，大连市科技局，2010-2012，5万，主持。
申请专利情况
近五年发表论文、著作情况
黑体下划线为本人，*为通讯作者

01. Q. Zhang, J. Liu, Y. Cui, W. Ding*, The oxidation process of NiSi_x film at high temperature in air and the antioxidant effect of SiOxNy/NiSix film, J Mater Sci: Mater Electron, Vol. 26 (2015) 0000, DOI 10.1007/s10854-015-2830-9. (SCI 收录).

02. W. Ding, D. Ju*, Y. Guo, K. Tanaka, F. Komori, Formation of linearly linked Fe clusters on Si(111)-7×7-C₂H₅OH surface, Nanoscale Research Letters, Vol. 9, 377, 2014. (SCI 收录).

03. J. Liu, W. Ding*, H. Wang, S. Liu, W. Jiang, C. Liu, N. Wang, W. Chai, The nanocrystalline structure of TiO₂ film deposited by DC magnetron sputtering at room temperature, Modern Physics Letters B, Vol. 28, Issue 27, **, 2014. (SCI 收录).

04. W. Ding*, L. Li, L. Zhang, D. Ju, S. Peng, W. Chai, An XPS study on the chemical bond structure at the interface between SiO_xN_y and N doped PET, J. Chemical Physics, Vol. 138, Issue 10, 104706, 2013. (SCI收录)

05. H. Liu, L. Li, T. Yao, W. Ding*, D. Ju, W. Chai, The effect of ion source working power on the composition and optical properties of TiO₂ films bombarded by N ion beams, Surface & Coatings Technology, Vol. 219, 88-93, 2013. (SCI收录)

06. L. Li, H. Liu, W. Ding*, D. Ju, W. Chai, The effect of oxygen ion beam bombardment on the properties of tin indium oxide/polyethylene terephthalate complex, Thin Solid Films, Vol. 545, 365-370, 2013. (SCI收录)

07. H. Liu, L. Li, T. Yao, W. Ding*, H. Wang, D. Ju, W. Chai, Study on the optical property and surface morphology of N doped TiO₂ film deposited with different N₂ flow rate by DCPMS, J. Environmental Science, Vol. 25, Supplement, S54-S58, 2013. (EI收录)

08. T. Yao, H. Liu, W. Ding*, D. Ju, W. Chai, The effect of working pressure on the composition and optical properties of TiO₂ films bombarded by N ion beams, Materials Science Forum, Vol. 750, 302-305, 2013. (EI收录)

09. 张立娜，丁万昱*，巨东英，柴卫平，氧离子束工作压强对PET表面化学键结构及润湿性能的影响，真空科学与技术学报，第33卷，第7期，684-688页，2013. (EI收录)

10. W. Ding, S. Ishiguro, R. Ogatsua, D. Ju*, The effect of growth surface morphology on the crystal structure and magnetic property of L₁₀ order PtFe layers deposited by magnetron sputtering, Applied Surface Science, Vol. 258, Issue 20, 7976-7981, 2012. (SCI收录)

11. W. Ding*, Y. Okabe, W. Chai, D. Ju, The influence of N ion bombardment on the properties of PET surface and SiN_x/PET complex, Surface & Coatings Technology, Vol. 205, Issue 23-24, 5318-5323, 2011. (SCI收录)

12. 丁万昱*，王华林，巨东英，柴卫平，O₂流量对磁控溅射N掺杂TiO₂薄膜成分及晶体结构的影响，物理学报，第60卷，第 2期，028105(1-7)页，2011. (SCI收录)

13. W. Ding*, D. Ju, W. Chai, A simple route to synthesize nanocrystalline TiO₂ films at room temperature, Materials Letters, Vol. 64, Issue 14, 1634-1637, 2010. (SCI收录)

14. W. Ding*, D. Ju, W. Chai, The effect of working pressure on the chemical bond structure and hydrophobic properties of PET surface treated by N ion beams bombardment, Applied Surface Science, Vol. 256, Issue 22, 6876-6880, 2010. (SCI收录)

15. W. Ding*, J. Xu, W. Lu，X. Deng, C. Dong, Influence of N₂ flow rate on the mechanical properties of SiN_x films deposited by microwave electron cyclotron resonance magnetron sputtering, Thin Solid Film, Vol. 518, Issue 8, 2077-2081, 2010. (SCI收录)

16. 张粲，丁万昱*，王华林，柴卫平，O₂/Ar比例对直流脉冲磁控溅射制备TiO₂薄膜光催化性能的影响，真空科学与技术学报，第30卷，第2期，106-110页，2010. (EI收录)

17. W. Y. Ding*, J. Xu, W. Q. Lu, X. L. Deng, C. Dong, Ultra-thin a-SiN_x protective overcoats for hard disks and read/write heads, Chinese Physics B, Vol. 18, Issue 4, 1570-1573, 2009. (SCI收录)

18. W. Ding*, J. Xu, W. Lu, X. Deng, C. Dong, The effect of N₂ flow rate on discharge characteristics of microwave electron cyclotron resonance plasma, Physics of Plasmas, Vol. 16, Issue 5, 053502- 053506, 2009. (SCI收录)

19. 丁万昱*，徐军，陆文琪，邓新绿，董闯，微波ECR磁控溅射制备SiN_x薄膜的XPS结构研究，物理学报，第58卷，第6期，4109-4116页，2009. (SCI收录)

20. 丁万昱*，王华林，苗壮，张俊计，柴卫平，沉积参数对SiN_x薄膜结构及阻透性能的影响，物理学报，第58卷，第1期，432-437页，2009. (SCI收录)

21. 丁万昱*，徐军，陆文琪，邓新绿，董闯，基片温度对SiN_x薄膜结晶状态及机械性能的影响，物理学报，第57卷，第8期，5170-5175页，2008. (SCI收录)

22. 丁万昱*，徐军，李艳琴，朴勇，高鹏，邓新绿，董闯，微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiN_x薄膜及其性能分析，物理学报，Vol. 55，1363 -1368页， 2006. (SCI收录)

23. W. Ding*, J. Xu, Y. Piao, Y. Li, P. Gao, X. Deng, C. Dong, Deposition of hydrogen-free silicon nitride thin films by microwave ECR plasma enhanced magnetron sputtering at room temperature. Chinese Physics Letter, Vol. 22, 2332-2335, 2005. (SCI收录)
获奖及个人荣誉
1. 丁万昱，大连市青年科技之星，大连市科学技术局，2014.

2. 丁万昱，徐军，陆文琪，邓新绿，The effect of N₂ flow rate on discharge characteristics of microwave electron cyclotron resonance plasma, Physics of Plasmas，辽宁省科学技术协会，辽宁省自然科学学术成果奖，学术论文类二等奖(2011-LNL1120)，2011.

3. 丁万昱，Influence of N₂ flow rate on the mechanical properties of SiN_x films deposited by microwave electron cyclotron resonance magnetron sputtering，大连市科学技术协会，大连市自然科学优秀学术论文奖，三等奖(2011-167)，2011.

4. 丁万昱，一种在室温条件下制备纳米晶TiO₂薄膜的新方法，辽宁省科学技术协会，辽宁省自然科学学术成果奖，学术论文类二等奖(2012-LNL0018)，2012.

5. 刘世民，丁万昱，柴卫平， Influence of Sb doping on crystal structure and electrical property of SnO₂ nanoparticles prepared by chemical coprecipitation，辽宁省科学技术协会，辽宁省自然科学学术成果奖，学术论文类三等奖(2012-LNL0021)，2012.

6. 崔云先，李东明，张军，丁万昱，钱敏，贾颖，孙宝元，殷俊伟，瞬态切削用NiCr/NiSi薄膜热电偶测温刀具研究，辽宁省科学技术厅，辽宁省技术发明奖，二等奖(2013F-2-01-04)，2013.
社会兼职情况
指导研究生情况
已指导毕业研究生人数

硕士：2
正在指导研究生人数

硕士：1
所指导研究生获奖情况

刘红林获2013年度国家(政府)奖学金

李 丽获2013年度国家(政府)奖学金

刘金东获2014年度国家(政府)奖学金

刘红林硕士毕业论文获2014年辽宁省辽宁省优秀硕士学位论文
承担研究生课程名称