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校庆活动之——学术预告:Atomic Layer Deposition of Sc2O3 as high-k dielectrics_南京师范大学

南京师范大学 免费考研网/2018-05-12

校庆活动之——学术预告:Atomic Layer Deposition of Sc2O3 as high-k dielectrics 报告人:奚斌,中山大学材料科学与工程学院教授、博士生导师报告时间:5月22日(周一)下午3:30报告地点:新化学楼226会议室邀请单位:南京师范大学化学与材料科学学院、生物医药功能材料协同创新中心、生物医药功能材料国家和地方联合工程中心奚斌简介:奚斌,中山大学材料科学与工程学院教授,博士生导师。2003 年本科毕业于南开大学;2009 年于普渡大学获得博士学位(导师:Tong Ren 教授);2009 年至2013 年在哈佛大学从事博士后研究(导师:Richard Holm 教授和Roy Gordon 教授);2013 年至2017 年在默克高性能材料担任高级科学家(EMD Performance Materials, Senior Scientist);2017 年4 月正式加入中山大学材料与科学工程学院,主要研究方向是纳米亚纳米级薄膜材料的原子层沉积技术及其在半导体集成电路、新能源和催化等领域的应用。奚斌教授从事电子材料及原子层沉积技术相关研究多年,有丰富的学术背景和工业背景。在Journal of the American Chemical Society, Angewandte Chemie International Edition, Applied Physics Letters, IEEE 等权威杂志和会议期刊上发表过多篇论文,持有数项工业界专利。在学术界和工业界的研究工作均为直接面向应用的前沿性课题和工业化生产中急需攻关的难题,取得一系列创新性研究成果,并应用于实际产品中(参与研发的产品已应用于苹果手机和平板电脑芯片)。

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