廖敏导师主页

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基本信息

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姓名: 廖敏
职称: 教授
单位电话:
电子信箱: mliao@xtu.edu.cn
办公室: 物理楼A-203＃
个人主页:

个人简介

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个人简介

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廖敏，男，博士，湖南省青年****特聘专家。2006年和2009年分别本科和硕士毕业于湘潭大学微电子学专业和微电子学与固体电子学专业。硕士毕业后在日本东京工业大学物理电子系统工程专业攻读博士学位。由于突出的表现，在博士期间获得了日本学术振兴会(JSPS)博士特别研究员奖励(DC2)。2012年获得工学博士学位后，在JSPS基金的资助下，在该校继续从事微电子器件集成工艺方面的研究。2013年，加入该校元素战略研究中心，2015年被聘为该研究中心的助理教授。2016年2月入选为湖南省2015年度“****”（青年****）专家。2018年入选湖南省“湖湘青年英才”支持计划。


学习工作经历

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教育经历：
理学学士(B.S.) 2002.9-2006.6 中国, 湘潭大学, 微电子学
工学硕士(M.E.) 2006.9-2009.6中国, 湘潭大学, 微电子学与固体电子学
工学博士(Dr. Eng.) 2009.10-2012.9日本, 东京工业大学, 物理电子系统工程
工作经历：
博士后 2012.10-2015.3日本，东京工业大学
助理教授 2015.4-2016.3日本，东京工业大学
湖南省青年****专家 2016.3-至今中国，湘潭大学


研究方向

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1、铁电存储器
2、氧化物半导体器件


获奖情况

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1. 2011年4月，日本学术振兴会(JSPS)特别研究员(DC2)奖励，日本学术振兴会
2. 2016年2月，湖南省“青年****”，湖南省委组织部


科研项目

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目前主持的项目经费充足，可以为各位学生提供较好的科研条件和生活补助



发明专利

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1. 专利公开：廖敏, 肖文武, 周益春, 彭强祥, 钟向丽, 王金斌,一种铁电薄膜晶体管及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 9.3
2. 专利公开：廖敏, 肖文武, 周益春, 彭强祥, 钟向丽, 王金斌,一种铁电场效应晶体管及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 7.4
3. 专利公开：廖敏, 肖文武, 周益春, 彭强祥, 钟向丽, 王金斌,一种单管单电容存储单元装置及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 5.5
4. 专利公开：廖敏, 肖文武, 周益春, 彭强祥, 钟向丽, 王金斌,一种铁电场效应晶体管及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 2.5
5. 专利公开：廖敏, 贾林飞, 刘晨, 刘恒, 彭强祥, 周益春, 一种铁电薄膜晶体管及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 20**
6. 专利申请：廖敏, 贾林飞, 刘晨, 刘恒, 彭强祥, 周益春, 一种柔性铁电薄膜晶体管及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 6.X
7. 专利申请：廖敏, 刘晨, 陈新, 曾斌建, 彭强祥, 周益春, 一种三维NAND铁电存储器及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 7.X
8. 专利申请：廖佳佳, 彭强祥, 曾斌建, 廖敏, 周益春, 一种非易失性铁电随机存储器及其制备工艺, 中国发明专利, 专利申请号: 3.1
9. 专利申请：廖佳佳, 彭强祥, 曾斌建, 廖敏, 周益春, 一种CMOS后端工艺嵌入式的铁电随机存储器及其制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 8.0
10. 专利申请：廖佳佳, 彭强祥, 曾斌建, 廖敏, 周益春, 一种高抗疲劳性的铁电栅场效应晶体管存储器及制备工艺, 中国发明专利, 专利申请号: 7.6
11. 专利公开：彭强祥, 刘巧灵, 廖敏, 周益春, 一种基于氧化铪的铁电栅结构及其制备工艺, 中国发明专利, 专利申请号: 0.1
12. 专利公开：彭强祥, 刘巧灵, 兰杨波, 廖敏, 杨琼, 周益春, 一种基于离子注入掺杂的氧化铪铁电栅制备方法, 中国发明专利, 专利申请号: 6.9
13. 专利公开：蒋丽梅, 徐肖飞, 明浩, 杨琼, 彭强祥, 周益春, 廖敏, 一种位错对铁电材料畴结构影响机理的分析方法和系统, 中国发明专利, 专利申请号: 5.2
14. 专利公开：蒋丽梅, 周芊骞, 徐肖飞, 明浩, 廖敏, 杨琼, 彭强祥, 周益春, 一种铁电场效应晶体管模型的建立方法和系统, 中国发明专利, 专利申请号: 4.9
15. 专利授权：钟向丽, 廖敏, 王金斌, 周益春, 一种制备镧系稀土离子掺杂钛酸铋无铅铁电纳米线的方法, 中国发明专利, 专利号: ZL5.6
16. 专利授权：钟向丽, 廖敏, 王金斌, 周益春, 一种镧系稀土离子掺杂钛酸铋/尖晶石铁氧体铁电铁磁复合薄膜及其制备方法, 中国发明专利, 专利号: ZL7.5
17. 专利授权：王金斌, 王芳, 钟向丽, 李波, 廖敏, 谭丛兵, 一种钛酸铋纳米长方体及其制备方法, 中国发明专利, 专利号: ZL5.4
18. 专利授权：王金斌，王芳, 钟向丽, 李波, 廖敏, 谭丛兵, 一种多级结构钛酸铋微球的制备方法, 中国发明专利, 专利号: ZL7.X



代表性学术成果

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部分期刊论文

[1] H. Liu,S. Z. Zheng*, Q. Chen, B. J. Zeng, J. Jiang, Q. X. Peng, M. Liao*, Y. C. Zhou, “Structural and ferroelectric properties ofPr doped HfO₂thin films fabricated by chemical solution deposition” J Mater Sci-Mater El.2019, 30, 5771–5779.
[2] W. W. Xiao, Y. Peng,S. Z. Zheng, Q. Feng*, H. Zhou, C. F. Zhang, J. C. Zhang, Y. Hao, Senior Member, IEEE, M. Liao*, and Y. C. Zhou “Integration and Electrical Properties of Ferroelectric Hf_0.5Zr_0.5O₂Thin Film on Bulkβ-Ga₂O₃(-201) Substrate for Memory Applications”IEEE Electron Device Lett., 2018, 39, 10, 1504-1507.
[3] B. J. Zeng, W. W. Xiao, J. J. Liao, H. Liu, M. Liao*, Q. X. Peng,S. Z. Zheng, and Y. C. Zhou *“Compatibility of HfN Metal gate electrodes with Hf_0.5Zr_0.5O₂ferroelectric thin films for ferroelectric field-effect transistors” IEEE Electron Device Lett.,2018, 39, 10, 1508-1511.
[4] H. X. Sun, K. M. Deng, Y. Y. Zhu, M. Liao*, J. Xiong*, Y. R. Li, and L. Li*, “A Novel conductive mesoporous layer with a dynamic two-step deposition strategy boosts efficiency of perovskite solar cells to 20%”, Adv. Mater., 2018, 30, **.
[5] C. H. Gong, K. Hu, X. P. Wang, P. H. Wang yang, C. Y. Yan, J. W. Chu, M. Liao*, L. P. Dai, T. Y. Zhai, C. Wang, L. Li*, and J. Xiong*, “2D Nanomaterial arrays for electronics and optoelectronics”, Adv. Funct. Mater., 2018, 28, **.
[6]M. Liao,S. Takemoto, Z. Xiao, Y. Toda, T. Tada, S. Ueda, T. Kamiya, and H. Hosono, “Difficulty of carrier generation in orthorhombic PbO”, J. Appl. Phys., 119, 165701 (2016).
[7]M. Liao, Z. Xiao, F. -Y. Ran, H. Kumomi, T. Kamiya, and H. Hosono, “Effects of Pb doping on hole transport properties and thin-film transistor characteristics of SnO thin films”, ECS J. Solid State Sci. Technol.,2015,4:Q26-Q30.
[8]M. Liao, H. Ishiwara, and S. Ohmi, “Excellent current drivability and environmental stability in room-temperature-fabricated pentacene-based organic field-effect transistors with HfO₂gate insulators”, IEEE Trans. Electron Device,2014,61:569-575 (2014).
[9]M. Liao, H. Ishiwara, and S. Ohmi, “Room-temperature fabrication of HfON gate insulator for low-voltage-operating pentacene-based organic field-effect transistors”, Jpn. J. Appl. Phys.,2012,51:04DK01-1 - 04DK01-4.
[10]M. Liao, H. Ishiwara, and S. Ohmi, “Growth mechanism of pentacene on HfON gate insulator and its effect on electrical properties of organic field-effect transistors”, IEICE Trans. Electron.,2012,E95-C:885-890.
[11]M. Liao, H. Ishiwara, and S. Ohmi, “Fully room-temperature-fabricated low-voltage operating pentacene-based organic field-effect transistors with HfON gate insulator”, IEEE Electron Device Lett.,2011,32:1600-1602.
[12]M. Liao, H. Ishiwara, and S. Ohmi, “Performance improvement of pentacene based organic field-effect transistor with HfON gate insulator”, IEICE Electron. Express,2011,8:1461-1466.
[13]M. Liao, X. L. Zhong, J. B. Wang, S. H. Xie, and Y. C. Zhou, “Structure and electrical properties of Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂nanofibers synthesized by electrospinning and sol-gel method”, Appl. Phys. Lett.,96, pp. 012904-1 - 012904-3 (2010).
[14]M. Liao, X. L. Zhong, Y. Qiao, J. B. Wang, Y. C. Zhou, and H. Liao, “Effects of film thickness on microstructures and properties of Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂thin films fabricated by chemical solution deposition”, J. Alloys. Compd.,487, pp. 331-334 (2009).
[15]M. Liao, X. L. Zhong, J. B. Wang, Y. C. Zhou, and H. Liao, “Effects of CoFe₂O₄content on the properties of nanoparticulate Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂-CoFe₂O₄thin films”, Scripta mater.,58, pp. 715-718 (2008).
[16]M. Liao, X. L. Zhong, J. B. Wang, H. L. Yan, J. P. He, Y. Qiao, and Y. C. Zhou, “Nd-substituted bismuth titanate ferroelectric nanofibers by electrospinning”, J. Cryst. Growth.,304, pp. 69-72 (2007).
[17]X. L. Zhong,M. Liao, J. B. Wang, S. H. Xie, and Y. C. Zhou, “Structural, ferroelectric, ferromagnetic, and magnetoelectric properties of the lead-free Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂-CoFe₂O₄double layered thin film”, J. Cryst. Growth.,310, pp. 2995-2998 (2008).
[18]X. L. Zhong, J. B. Wang,M. Liao, C. B. Tan, H. B. Shu, and Y. C. Zhou, “Effect of Mn doping on the microstructures and dielectric properties of Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂thin films”, Thin Solid Films,516, pp. 8240-8243 (2008).
[19]X. L. Zhong, J. B. Wang,M. Liao, G. J. Huang, S. H. Xie, Y. C. Zhou, Y. Qiao, and J. P. He, “Multiferroic nanoparticulate Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂-CoFe₂O₄composite thin films prepared by a chemical solution deposition technique”, Appl. Phys. Lett.,90, pp. 152903-1 - 152903-3 (2007).
[20]X. L. Zhong, J. B. Wang,M. Liao, L. Z. Sun, H. B. Shu, C. B. Tan, and Y. C. Zhou, “Ferroelectric and dielectric properties of Nd³⁺/Zr⁴⁺cosubstituted Bi₄Ti₃O₁₂thin films”, Appl. Phys. Lett.,90, pp. 102906-1 - 102906-3 (2007).
[21]Z.S. Hu, X. L. Zhong, J. B. Wang,M. Liao, X. J. Zheng, Y. C. Zhou, “Comparison of ferroelectric properties of cosubstituted bismuth titanate films between Bi_3.15Nd_0.85Ti_2.97Mg_0.03O₁₂and Bi_3.15Nd_0.85Ti_2.95Mn_0.05O₁₂”, Surf. Rev. Lett.,16, pp. 153-156 (2009).
[22]X. L. Zhong, B. Li, J. B. Wang,M. Liao, H. Liao, Y. C. Zhou, “Ferroelectric properties of Mn-Doped Bi_3.15Nd_0.85Ti₃O₁₂thin films prepared under different annealing conditions”, Mater. Lett.,62, pp. 2891-2893 (2008).