专利名称：一种碳材料改性多孔聚合物电解质膜的制备方法

专利单位：黑龙江省科学院大庆分院

专利类型：发明专利

授权时间：2013.08.07

专利号：ZL201110455921.3

主要发明人：阚侃，崔宝玉，张广鑫，田媛，尤秋实，刘喆

专利介绍：一种碳材料改性多孔聚合物电解质膜的制备方法，它涉及一种聚合物电解质膜的制备方法。本发明要解决现有的多孔聚合物电解质膜存在离子电导率低、锂离子迁移数小和电化学稳定性差的问题。方法：一、制备多孔聚合物膜，二、浸泡处理，即得到碳材料改性多孔聚合物电解质膜。优点：离子电导率达到10-3S/cm数量级、锂离子迁移数为0.80~0.95、电化学稳定窗口为5.5V~6.0V。本发明主要用于制备碳材料改性多孔聚合物电解质膜。