张文峰

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个人信息Personal information

教授博士生导师 硕士生导师
性别：男
在职信息：在职
所在单位：材料科学与工程学院
学历：研究生(博士)毕业
学位：工学博士学位
毕业院校：香港城市大学
学科：材料加工工程
曾获荣誉：
2019华中卓越****晨星岗


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个人简介Personal profile

张文峰，男，教授，博士生导师。主要从事集成电路电子制造关键半导体材料、器件工艺及封装、以及先进连接工艺的研究开发工作。2006年至2011年在香港城市大学主要从事新型半导体材料及新概念器件研究；2011年至2014年在日本东京大学Toriumi研究室从事日本学术振兴会(JSPS fellowship)支持的锗基CMOS器件界面特性研究，同时是面向锗基先进CMOS器件的锗与高k栅介质界面反应理解与控制研究骨干（日本科学技术振兴机构-战略创造研究...
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教育经历Education experience

2006.9 ~ 2009.10  香港城市大学   工学博士学位  -  研究生(博士)毕业 
2003.9 ~ 2006.4  北京科技大学   工学硕士学位  -  研究生(硕士)毕业 
1999.9 ~ 2003.7  西南交通大学  本科(学士) 

工作经历Work experience

2020.11-至今 华中科技大学材料学院 电子封装与连接中心 -教授
2014.9-2020.10 华中科技大学材料学院 电子封装与连接中心 -副教授


社会兼职Social affiliations

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研究方向Research focus

集成电路电子制造


团队成员Research group

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毕业院校：香港城市大学
学科：材料加工工程
曾获荣誉：
2019华中卓越****晨星岗



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研究领域
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论文成果
[1] Li Yang#, Wenfeng Zhang#, *, Jie Li, Shuai Cheng, Zijian Xie, and Haixin Chang*, Tellurization Velocity-Dependent Metallic-Semiconducting-Metallic Phase Evolution in Chemical Vapor Deposition Growth of Large-Area, Few-Layer MoTe2, ACS Nano, 2017,11(2): 1964-1972
[2] Li Yang#, Hao Wu#, Wenfeng Zhang,* Zhenhua Chen, Jie Li, Xun Lou, Zijian Xie, Rui Zhu and Haixin Chang*, Anomalous oxidation and its effect on electrical transport originating from surface chemical instability in large-area, few-layer 1T '-MoTe2 films, Nanoscale, 2018, 10(42),19906-19915
[3] Li Yang, Hao Wu, Wenfeng Zhang,* Xun Lou, Zijian Xie, Xu Yu, Yuan Liu, and Haixin Chang*,Ta Doping Enhanced Room-Temperature Ferromagnetism in 2D Semiconducting MoTe2 Nanosheet, Adv. Electron. Mater., 2019, **
[4] Li Yang, Hao Wu, Liang Zhang, Wenfeng Zhang,* Luying Li, Tappei Kawakami, Katsuaki Sugawara, Takafumi Sato, Gaojie Zhang, Pengfei Gao, Younis, Muhammad, Xiaokun Wen, Boran Tao, Fei Guo and Haixin Chang*,Highly Tunable Near-Room Temperature Ferromagnetism in Cr-Doped Layered Td-WTe2, Adv. Funct. Mater., 2021, 31(13): **
[5] Zijian Xie, Wenyu Lei, Wenfeng Zhang,* Yuan Liu, Li Yang, Xiaokun Wen, and Haixin Chang, High-Performance Large-Scale Vertical 1T'/2H Homojunction CVD-Grown Polycrystalline MoTe2 Transistors, Adv. Mater. Interface, 2021, 8(10): **


专利
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著作成果
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科研项目
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曾获荣誉：
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论文成果 中文主页 - 科学研究 - 论文成果

[1] Li Yang#, Wenfeng Zhang#, *, Jie Li, Shuai Cheng, Zijian Xie, and Haixin Chang*, Tellurization Velocity-Dependent Metallic-Semiconducting-Metallic Phase Evolution in Chemical Vapor Deposition Growth of Large-Area, Few-Layer MoTe2, ACS Nano, 2017,11(2): 1964-1972.
[2] Li Yang#, Hao Wu#, Wenfeng Zhang,* Zhenhua Chen, Jie Li, Xun Lou, Zijian Xie, Rui Zhu and Haixin Chang*, Anomalous oxidation and its effect on electrical transport originating from surface chemical instability in large-area, few-layer 1T '-MoTe2 films, Nanoscale, 2018, 10(42),19906-19915.
[3] Li Yang, Hao Wu, Wenfeng Zhang,* Xun Lou, Zijian Xie, Xu Yu, Yuan Liu, and Haixin Chang*,Ta Doping Enhanced Room-Temperature Ferromagnetism in 2D Semiconducting MoTe2 Nanosheet, Adv. Electron. Mater., 2019, **.
[4] Li Yang, Hao Wu, Liang Zhang, Wenfeng Zhang,* Luying Li, Tappei Kawakami, Katsuaki Sugawara, Takafumi Sato, Gaojie Zhang, Pengfei Gao, Younis, Muhammad, Xiaokun Wen, Boran Tao, Fei Guo and Haixin Chang*,Highly Tunable Near-Room Temperature Ferromagnetism in Cr-Doped Layered Td-WTe2, Adv. Funct. Mater., 2021, 31(13): **.
[5] Zijian Xie, Wenyu Lei, Wenfeng Zhang,* Yuan Liu, Li Yang, Xiaokun Wen, and Haixin Chang, High-Performance Large-Scale Vertical 1T'/2H Homojunction CVD-Grown Polycrystalline MoTe2 Transistors, Adv. Mater. Interface, 2021, 8(10): **.
[6] Xu Yu, Xiaokun Wen, Wenfeng Zhang,* Li Yang, Hao Wu, Xun Lou, Zijian Xie, Yuan Liu, and Haixin Chang, Fast and controlled growth of two-dimensional layered ZrTe3 nanoribbons by chemical vapor deposition, CrystEngComm, 2019, 21, 5586-5594.
[7] Xun Lou, Wenfeng Zhang,* Zijian Xie, Li Yang, Xu Yu, Yuan Liu, and Haixin Chang, Solution-processed high-k dielectrics for improving the performance of flexible intrinsic Ge nanowire transistors: Dielectrics screening, interface engineering and electrical properties, J. Phys. D: Appl. Phys., 52 (2019) 505103.
[8] Wenfeng Zhang#, *, Tomonori Nishimura, and Akira Toriumi, Impact of GeO2 passivation layer quality on band alignment at GeO2/Ge interface studied by internal photoemission spectroscopy, Appl. Phys. Express, 2016, 9: 024201.
[9] Zhang Wenfeng#, *, Lou Xun, Xie Zijian, Chang Haixin, Band bending analysis of charge characteristics at GeO2/Ge interface by x-ray photoemission spectroscopy, J. Phys. D: Appl. Phys., 2019.1.23, 52(4): 045101.
[10] Yoshikazu Ito#, Wenfeng Zhang#, Jinhua Li, Haixin Chang*, Pan Liu, Takeshi Fujita, Yongwen Tan, Feng Yan and Mingwei Chen*, 3D Bicontinuous Nanoporous Reduced Graphene Oxide for Highly Sensitive Photodetectors, Adv. Funct. Mater., 2016, 26(8): 1271-1277.

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