陈修国
姓名:陈修国
电话:
职称:教授
邮箱:xiuguochen@hust.edu.cn
个人基本情况 陈修国(Chen Xiuguo, Professor),教授、博士生导师,国家优秀青年科学基金获得者。2013年6月博士毕业于华中科技大学机械电子工程专业,同年进入华中科技大学材料学院博士后流动站,2016年6月出站并留校工作,2020年破格晋升教授。2016年12月至2018年8月期间,作为日本学术振兴会(JSPS)外国人特别研究员赴日本东北大学进行合作交流。
主要从事光学纳米测量技术与仪器、集成电路(IC)制造在线测量技术与装备、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作。近年来,作为负责人主持国家自然科学基金3项,作为骨干人员参与国家自然科学基金重大科研仪器研制项目、首批国家重大科学仪器设备开发专项、国家科技重大专项等国家级科研项目10余项。申请和授权国际国内发明专项30余项,在Appl. Phys. Lett.、Opt. Express、Opt. Lett.等期刊发表SCI论文70余篇。曾获上银优秀机械博士论文奖、湖北省自然科学优秀学术论文一等奖、日内瓦国际发明金奖、湖北省技术发明一等奖、华中科技大学“学术新人奖”等荣誉。
课题组主页:http://nom.mse.hust.edu.cn/
主要研究方向
1. 面向集成电路IC制造的纳米测量技术与装备
面向集成电路(IC)、发光二极管(LED)、有机显示(OLED)、光伏太阳能(PV)、柔性电子制造中的工艺控制和良率管理,研究纳米薄膜、纳米结构关键尺寸(CD)、套刻误差等三维形貌测量新原理与新方法,解决IC制造纳米测量装备中的“卡脖子”技术难题。
2. 新型椭偏仪研制与半导体光电材料表征测量
研制宽光谱椭偏仪、高分辨成像椭偏仪、快照式椭偏仪等新型椭偏仪器,实现石墨烯、过渡金属硫族化合物、黑磷、硅烯等新型二维材料,以及IC、LED、OLED、PV、柔性电子等新型半导体光电材料的电学、光学、力学等物理特性表征测量。
开设课程
本科生课程:《数字电路》
《数据库技术及应用》
研究生课程:《椭偏测量学导论》
近年的科研项目、专著与论文、专利、获奖
承担的科研项目:
1. 国家自然科学基金优秀青年科学基金,**,纳米测量技术与仪器,2021-2023,在研,主持
2. 国家自然科学基金面上项目,**,基于离焦扫描穆勒显微镜的纳米结构缺陷检测理论与方法研究,2018-2021,在研,主持
3. 国家自然科学基金青年基金,**,纳米结构几何参数广义成像椭偏测量理论与方法研究,2015-2017,已结题,主持
4. 湖北省重点研发计划重点项目,2020BAA008,复杂IC纳米结构三维形貌测量关键技术研究,2020-2022,在研,主持
5. 湖北省自然科学基金面上项目,2018CFB605,基于层析穆勒矩阵散射仪的三维纳米结构测量理论与方法研究,2018-2019,已结题,主持
6. 国家自然科学基金重大科研仪器研制项目,**,高分辨层析成像穆勒矩阵椭偏仪研制与应用基础研究,2018-2022,在研,参与
7. 国家科技重大专项子课题,2017ZX**-004,套刻误差光学测量技术研究,2017-2020,在研,参与
荣誉与奖励:
1. 国家优秀青年科学基金获得者
2. 日本学术振兴会外国人特别研究员
3. 华中科技大学学术新人奖
4. 2019年湖北省技术发明一等奖(排名2)
5. 2020年度华中科技大学重大学术进展(排名2)
6. 湖北省第十六届自然科学优秀学术论文一等奖
7. 华中科技大学优秀博士后
8. 第四届上银优秀机械博士论文奖
近期学术论文:
1. C. Wang, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu*, “On the limits of low-numerical-aperture imaging scatterometry,” Opt. Express 28, 8445-8462 (2020)
2. Y. Shi, K. Li, X. Chen*, P. Wang, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, “Multiobjective optimization for target design in diffraction-based overlay metrology,” Appl. Opt. 59, 2897-2905 (2020)
3. Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, “Fast reconstruction of the aberrated scanning lithographic image by a quadratic imaging model and an integral transfer function,” Appl. Opt. 59, 4708-4717 (2020)
4. H. Gu, X. Chen*, H. Jiang, Y. Shi, and S. Liu, "Wide field-of-view angle linear retarder with ultra-flat retardance response," Opt. Lett. 44, 3026-3029 (2019).
5. X. Chen*, J. Liao, H. Gu, Y. Shi, H. Jiang, and S. Liu, "Proof of principle of an optical Stokes absolute roll-angle sensor with ultra-large measuring range," Sens. Actuat. A 291, 144-149 (2019).
6. C. Chen, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, "Calibration of polarization effect of a high-numerical-aperture objective lens with Mueller matrix polarimetry," Meas. Sci. Technol. 30, 025201 (2019).
7. Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, "In-line wavefront aberration adjustment of a projection lens for a lithographic tool using the dominant mode method," Appl. Opt. 58, 4176-4184 (2019).
8. H. Gu, X. Chen*, Y. Shi, H. Jiang, C. Zhang, P. Gong, and S. Liu, “Comprehensive characterization of a general composite waveplate by spectroscopic Mueller matrix polarimetry,” Optics Express 26, 25408-25425 (2018).
9. C. Chen, X. Chen*, Y. Shi, H. Gu, H. Jiang, and S. Liu, “Metrology of nanostructures by tomographic Mueller-matrix scatterometry,” Applied Science 8, 2583 (2018).
10. Y. Tan, C. Chen, X. Chen*, W. Du, H. Gu, and S. Liu, “Development of a tomographic Mueller-matrix scatterometer for nanostructure metrology,” Review of Scientific Instruments 89, 073702 (2018)
完整论文列表,详见课题组网站。
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