叶冬

姓名：叶冬
电话：
职称：讲师
邮箱：yedong@hust.edu.cn
个人基本情况 叶冬（Ye Dong，Lecturer），男，1987年11月生，湖北武汉人。2011年和2016年于华中科技大学分别获得应用物理学学士学位、材料学博士学位，随后进入华中科技大学机械工程博士后流动站工作。2019年9月博士后出站留校任教，在数字制造装备与技术国家重点实验室开展前沿科研工作。
主要从事智能蒙皮/共形天线/超材料/机器人电子皮肤等柔性曲面电子器件制造与应用、等离子-电流体复合增减材制造工艺等方面研究。目前已在 Applied Physics Letter、Small、Materials Today Physics、Nanoscale、Materials Horizons、Nanotechnology等期刊发表 SCI 论文十余篇（影响因子大于10的论文3篇，入选ESI高被引论文1篇），获得授权国家发明专利 5 项。担任Nano Letter、Small、中国科学等学术期刊的审稿人。主持国家自然科学基金青年项目1项、中国博士后科学基金面上项目1项、华中科技大学创新研究院创新基金1项，排名第二参与国家自然科学基金面上项目1项。



主要研究方向
柔性电子器件制造工艺、装备及应用
机器人化微纳增材制造技术与应用




近年的科研项目、专著与论文、专利、获奖 科研项目：
[1] 国基金青年项目：微等离子体射流静电聚焦机理及石墨烯超晶格制备，在研，主持；
[2] 国基金面上项目：太阳能聚光反射镜面微颗粒粘附机理与自清洁纳米薄膜共形制造，在研，第二负责人；
[3] 湖北省技术创新重大项目：柔性曲面电子共形喷印制造原理与装备，在研，参与；
[4] 国基金重点项目：柔性电子喷印制造中非牛顿流体液滴生成和冲击动力学研究，在研，参与；
[5] 科技部“变革性”项目：高性能印刷电子器件的高精度跨尺度喷印制造基础研究，在研，参与；
[6] 博后面上项目：微等离子体射流静电聚焦机理及石墨烯图案化改性研究，结题，主持；
[7] 博士创新基金：室温常压等离子体射流图案化刻蚀石墨烯的研究，结题，主持；
[8] 国基金青年项目：利用室温常压等离子体制备区域性氮掺杂石墨烯的结构和性能研究，结题，骨干成员；
[9] 国基金面上项目：金属玻璃及其液相的微观结构的核磁共振表征，结题，参与；
[10] 科技部“973项目”：电磁驱动高速变形下材料的微观结构演变规律及性能，结题，参与。


代表性论文（*表示通讯作者）：
[1]D. Ye, J. T. Su, Y. Jiang, Z. P. Yin, Y. A. Huang*, Plasma-jet-induced programmable wettability on stretchable carbon nanotube films, Materials Today Physics, 2020, 14, 100227.（IF=10.443, JCR Q1）
[2] D. Ye, Y. J. Ding, Y. Q. Duan, J. T. Su, Z. P. Yin, Y. A. Huang*, Large-scale direct-writing of aligned nanofibers for flexible electronics, Small, 2018, 14, **. (IF=11.459, JCR Q1)
[3] D. Ye, Y. Yu*, J. Tang, L. Liu, Y. Wu, Electrochemical activation of carbon cloth in aqueous inorganic salt solution for superior capacitive performance, Nanoscale, 2016, 8, 10406. （IF=7.394, JCR Q1）
[4] D. Ye, Y. Yu*, L. Liu, X. P. Lu, Y. Wu, Cold plasma welding of polyaniline nanofibers with enhanced electrical and mechanical properties, Nanotechnology, 2015, 26, 495302. （IF=3.821, JCR Q1）
[5] D. Ye, S. Q. Wu, Y. Yu*, L. Liu, X. P. Lu, Y. Wu, Patterned graphene functionalization via mask-free scanning of micro-plasma jet under ambient condition, Applied Physics Letters, 2014, 104, 103105. （IF=3.302, JCR Q1）


发明专利：
[1] 一种石墨烯图形化掺杂方法，2016.03.02，授权发明专利号：ZL8.8.
[2] 一种用于增减材制造的一体化喷印装置, 2019.03.05, 授权发明专利号：ZL0.1.
[3] 一种微等离子体刻蚀加工装置及方法, 2019.07.19, 授权发明专利号：ZL1.0.
[4] 一种空间分布可调的阵列集成式喷印方法，2019.09.27，授权发明专利号：ZL5.2.
[5] 一种等离子体束径可控的静电聚焦喷头装置及喷射方法, 2019.11.12, 授权发明专利号：ZL9.7.


获奖情况：
[1] 协助指导2016级、2017级硕士生获国家奖学金2人/次；
[2] 协助指导硕士生获得ISFSE-IWSMM2019最佳海报奖（Best Poster Award）1人/次。