姓名：王鹏性别：男
学科类别：单位代码：121b62
学历：博士研究生职称：研究员
电话：86-**传真：
职务：
电子邮件：pengwang@licp.cas.cn
通讯地址：兰州市天水中路18号
简历：　　受教育经历：

　　2003/09–2008/12，中国科学院研究生院，兰州化学物理研究所，博士

　　1997/09–2001/06，兰州理工大学，材料科学与工程学院，学士

　　研究工作经历：

　　2013/05–至今,中国科学院，兰州化学物理研究所，研究员

　　2010/01–2013/04,德国马普等离子体物理研究所，EdgePlasma&Wall，访问学者

　　2009/06–2009/12,中国科学院，兰州化学物理研究所，副研究员

　　2005/03–2009/05,中国科学院，兰州化学物理研究所，助理研究员

　　2001/07–2005/02,中国科学院，兰州化学物理研究所，研究实习员
研究方向：　　1、边界等离子体与第一壁材料相互作用基础研究；

　　2、低地球轨道辐照环境下润滑与防护薄膜材料服役行为研究；

　　3、新型润滑与防护薄膜材料生长机理研究；
获奖及荣誉：
承担科研项目：　　1、辐照环境下润滑与防护材料服役行为研究研究所特聘人才计划主持

　　2、原位分析空间摩擦学研究系统的研制中国科学院装备研制项目骨干
代表论著：　　1.Peng.Wang,W.Jacob,Deuteriumdiffusionandretentioninatungsten-carbonmultilayersystem.Nucl.Instr.Meth.B.329,6-13,2014.

　　2.Peng.Wang,W.Jacob,L.Gao,S.Lindig,M.Balden,Deuteriumretentionintungstenfilmsdepositedbymagnetronsputtering.AcceptedbyPhys.Scr.2014.

　　3.Peng.Wang,W.Jacob,L.Gao,T.Dürbeck,T.Schwarz-Selinger,Comparingdeuteriumretentionintungstencoatingsmeasuredbytemperatureprogrammeddesorptionspectroscopyandnuclearreactionanalyses.Nucl.Instr.Meth.B,300,54-61,2013.

　　4.Peng.Wang,W.Jacob,L.Gao,T.Dürbeck,DeuteriumRetentioninTungsten-dopedAmorphousCarbonFilmsExposedtoDeuteriumPlasma.J.Nucl.Mater.438,1134-1137,2013.

　　5.Peng.Wang,W.Jacob,M.Balden,T.H?schen,A.Manhard,Erosionoftungsten-dopedamorphouscarbonfilmexposedtodeuteriumplasma.J.Nucl.Mater.426,277-286,2012.

　　6.Peng.Wang,W.Jacob,M.Balden,A.Manhard,T.Schwarz-Selinger,Erosionoftungsten-dopedamorphouscarbonfilmsinoxygenplasma.J.Nucl.Mater.420,101-109,2012.

　　7.PengWang,XiaWang,BinZhang,WeiminLiu.Structural,mechanicalandtribologicalbehavioroffullerene-likecarbonfilm.ThinSolidFilms.518:5938-5943,2010.

　　8.PengWang,XiaWang,BinZhang,WeiminLiu.Formationofhydrogenatedamorphouscarbonfilmscontainingfullerene-likestructure.JournalofNon-crystallineSolids.355:1742-1746,2009.

　　9.PengWang,X.Wang,W.M.Liu,J.Y.Zhang.Growthandstructureofhydrogenatedcarbonfilmscontainingfullerene-likestructure.JournalofPhysicsD:AppliedPhysics.41:085401-085407,2008.

　　10.PengWang,X.Wang,Y.M.Chen,G.A.Zhang,J.Y.Zhang,W.M.Liu.TheeffectofappliednegativebiasvoltageonthestructureofTi-dopeda-C:HfilmsdepositedbyFCVA,AppliedSurfaceScience.253:3722-3726,2007.

　　11.PengWang,X.Wang,T.Xu,W.M.Liu,J.Y.Zhang.Comparinginternalstressingdiamond-likecarbonfilmswithdifferentstructure.ThinSolidFilms.515:6899-6903,2007.
社会任职：
个人网页：