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资料目录:
5.1 减反射膜的制备工艺流程
5.1.1 减反射薄膜概念
5.1.2 薄膜生长的步骤
5.1.3 减反射薄膜的作用
5.1.4 基本的化学气相沉积反应的主要步骤
5.1.5 等离子增强化学气相沉积（PECVD）反应和工艺流程
5.2 PECVD生产设备及操作
5.2.1 PECVD沉积方法
5.2.2 Centrotherm公司批处理式PECVD设备结构
5.3 减反射膜制备生产作业
5.3.1 准备作业
5.3.2 作业流程
5.3.3 石墨舟清洗和预处理
5.3.4 岗位操作注意事项
5.4 PECVD补镀与返工生产作业
5.4.1 返工作业
5.4.2 PECVD补镀作业
5.1 减反射膜的制备工艺流程[br] 5.1.1 减反射薄膜概念[br] 5.1.2 薄膜生长的步骤[br] 5.1.3 减反射薄膜的作用[br] 5.1.4 基本的化学气相沉积反应的主要步骤[br] 5.1.5 等离子增强化学气相沉积（PECVD）反应和工艺流程[br]5.2 PECVD生产设备及操作[br] 5.2.1 PECVD沉积方法[br] 5.2.2 Centrotherm公司批处理式PECVD设备结构[br]5.3 减反射膜制备生产作业[br] 5.3.1 准备作业[br] 5.3.2 作业流程[br] 5.3.3 石墨舟清洗和预处理[br] 5.3.4 岗位操作注意事项[br]5.4 PECVD补镀与返工生产作业[br] 5.4.1 返工作业[br] 5.4.2 PECVD补镀作业[br]
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