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模块四 硅片后清洗刻蚀生产

本站小编 Free考研/2022-12-25


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资料目录:
4.1 刻蚀生产工艺流程
 4.1.1 硅片刻蚀生产的目的
 4.1.2 湿法刻蚀生产和去除PSG的原理
 4.1.3 刻蚀生产工艺技术
4.2 刻蚀生产作业规范
 4.2.1 生产作业规范
 4.2.2 生产作业常见问题
4.3 刻蚀生产质量监控
 4.3.1 刻蚀工艺质量的检测
 4.3.2 后清洗刻蚀生产常见异常情况处理
4.4 刻蚀生产返工作业
 4.4.1 刻蚀生产返工作业操作流程
 4.4.2 RENA刻蚀设备的基本维护

4.1 刻蚀生产工艺流程[br] 4.1.1 硅片刻蚀生产的目的[br] 4.1.2 湿法刻蚀生产和去除PSG的原理[br] 4.1.3 刻蚀生产工艺技术[br]4.2 刻蚀生产作业规范[br] 4.2.1 生产作业规范[br] 4.2.2 生产作业常见问题[br]4.3 刻蚀生产质量监控[br] 4.3.1 刻蚀工艺质量的检测[br] 4.3.2 后清洗刻蚀生产常见异常情况处理[br]4.4 刻蚀生产返工作业[br] 4.4.1 刻蚀生产返工作业操作流程[br] 4.4.2 RENA刻蚀设备的基本维护[br]

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