基于聚合物溶胀构筑微纳结构
文献类型：会议
作者：张馨月[1]
机构：[1]中国人民大学化学系
[2]中国人民大学化学系
[3]中国人民大学化学系
年：2014
会议名称：中国化学会第29届学术年会
会议论文集： 中国化学会第29届学术年会摘要集——第18分会：超分子组装与软物质材料
页码范围：1
会议地点：中国北京
会议开始日期：2014-07-11
所属部门：化学系
人气指数：1
浏览次数：1
语言：中文
关键词：聚合物溶胀;多孔硅;半球微胶囊
摘要：微纳结构在微电子技术、传感器件、光学器件等领域的应用研究越来越广泛,从而受到研究者极大的关注。常见的制备方法有光刻法、聚焦离子束刻蚀法等,但这些方法都面临着设备技术要求高、制作步骤繁琐及难以大面积制备等问题。我们利用聚合物溶胀的方法来制备微结构[1],不仅操作简易、成本低,而且可以大面积及可调控地制备微结构。其中,我们选择使用聚二甲基硅氧烷(PDMS),通过在其表面镀金之后,利用有机溶剂蒸汽溶胀PDMS,使得其表面的金膜裂解为金纳米颗粒,并利用形成的金结构选择性的诱导硅的刻蚀,最终形成多孔硅[2]。另外,我们利用聚合物相分离,将混有聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的PDMS通过溶剂蒸汽溶胀,在PD...
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