刘鹏 职称：工程师
研究所：微纳电子学研究院
研究领域：微纳结构制造技术
办公电话：86-
电子邮件：pengliu@pku.edu.cn
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科研/教育经历
刘鹏，男，1981年出生，硕士。2007年起，专业从事微电子加工工艺研究，主要研究方向是基于电子束光刻工艺的纳尺度图形化技术，和基于高密度等离子体干法刻蚀工艺的纳尺度图形转移技术。

研究成果概况
主要研究成果：开发大高宽比纳米结构无硬掩膜制造技术，成功获得AR＞50的6.8nm单晶硅结构，向业界展示了硅基微电子工艺在小尺寸器件研究中的应用能力，为7nm节点下的新器件研究项目提供先导性技术支撑，获IEEE MEMS 2015最佳论文提名；提出基于MEMS技术的电子散射控制方法和束斑调制技术，并基于这一成果提出高精度电子束束斑检测方法，获得国际专利授权；基于光刻胶双重感光特性，提出适用于电子束光刻工艺的紫外固化技术，将显影选择比提高一个量级，成功实现三维纳米形貌控制，拓展了电子束光刻工艺的应用范围，获得专利授权
承担科研项目：纳米加工基础工艺研究重点基金项目，基于电子束光刻的纳机电系统结构工艺方法研究NSFC重大研究计划等。同时，负责纳米加工平台开放服务，为科研项目优化并加工验证器件，典型特征尺寸达到10nm量级。