基本信息
赵立新男硕导中国科学院光电技术研究所
电子邮件： zhaolixin@ioe.ac.cn
通信地址： 四川成都双流西航港光电大道1号
邮政编码： 610209
部门/实验室：四室
研究领域微电子专用设备研究


招生信息
招生专业080401-精密仪器及机械

招生方向机械设计
自动化控制


教育背景2003-03--2006-09电子科技大学硕士
1994-09--1998-06武汉测绘科技大学本科

学历
学位

工作经历
工作简历2008-01~现在,中国科学院光电技术研究所,副研究员
2003-01~2007-12,中国科学院光电技术研究所,助理研究员
1998-07~2002-12,中国科学院光电技术研究所,实习研究员

社会兼职

教授课程

专利与奖励
奖励信息（1） 四川省科技进步三等奖, 三等奖, 省级, 2008
（2） 四川省科技进步二等奖, 二等奖, 省级, 2005
（3） 四川省科技进步三等奖, 三等奖, 省级, 2001

专利成果（ 1 ） 一种红外成像光学读出系统的照明装置, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: 2.6
（ 2 ） 一种光刻机掩模刀口移动装置, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: 5.3
（ 3 ） 一种投影光刻机中的光束稳定装置, 发明, 2010, 第 5 作者, 专利号: 4.1
（ 4 ） 一种基于相位分布的单点掩模硅片调平方法, 发明, 2010, 第 3 作者, 专利号: 6.X
（ 5 ） 一种光刻机真空曝光装置, 发明, 2010, 第 3 作者, 专利号: 1.8
（ 6 ） 一种光刻机真空曝光装置, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: ZL1.8
（ 7 ） 一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置, 发明, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL0.8
（ 8 ） 一种二维扫描精密激光曝光系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL4.X
（ 9 ） 一种具有面积微分的球面光刻系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL1.X
（ 10 ） 一种阵列微梁单元偏角测量系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL6.9
（ 11 ） 一种投影光刻物镜中的镜片倾斜微调机构, 发明, 2011, 第 1 作者, 专利号: ZL9.8
（ 12 ） 一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 4.0
（ 13 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: 7.9
（ 14 ）  基于拼接光栅莫尔条纹相位解调的纳米光刻对准方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: 1.8
（ 15 ）  一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 8.6
（ 16 ） 一种投影光刻物镜中的镜片偏心微调机构, 发明, 2009, 第 3 作者, 专利号: 0.0
（ 17 ） 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 6.4
（ 18 ） 一种单焦点光子筛, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 6.4
（ 19 ） 一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 0.2
（ 20 ） 一种基于紫外宽光谱泰伯自成像的光刻系统, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 9.4
（ 21 ） 基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及装置, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 8.3
（ 22 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: 7.9
（ 23 ） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 6.6


出版信息
发表论文（1）UV spectrum-integral Talbot lithography for amplitude periodic micro-grating fabrication,SPIE,2016,通讯作者
（2）High precision locating control system based on VCM for Talbot lithography,SPIE,2016,通讯作者
（3）Focal length measurement of a microlens-array by grating shearing interferometry,APPLIED OPTICS,2014,第3作者
（4）Wafer focusing measurement of optical lithography system based on Hartmann–Shack wavefront testing,Optics and Lasers in Engineering,2014,第3作者
（5）Design of a projection objective with high numeric aperture and large view field,Proc. SPIE,2014,第3作者
（6）Model and calibrating of a 5-DOF objective,Proc. SPIE,2014,第3作者
（7）Study of the influence of the shape of projection lens focal plane on the focus control of advanced lithography,Optik,2014,第3作者
（8）基于人机工程学的光刻机嵌入式控制面板界面设计,机械设计与制造工程,2014,第4作者
（9）A new synchronization control method of wafer and reticle stage in step and scan lithographic equipment,Optkl,2013,第3作者
（10）Iterative Learning Control for Synchronization of Reticle Stage and Wafer Stage in Step-and-Scan Lithgraphic Equipment,Proc.SPIE,2013,第3作者
（11）Synchronous Control Strategy of Wafer and Reticle Stage of Step and Scan Lithography,Proc.SPIE,2012,第3作者
（12）Tilt-modulated spatial phase imaging method for wafer-mask leveling in proximity lighography,Optics letters,2010,第3作者
（13）双工件台光刻机中的调平调焦技术,微纳电子技术,2010,第2作者
（14）Phase photon sieves,Journal of Computerized and Theoretical of Nanoscience,2010,第3作者
（15）Design and application of phase photon sieve,Optik,2010,第3作者
（16）基于矢量衍射理论的振幅型光子筛的设计,光学学报,2010,第3作者
（17）Focusing and Leveling in Dual Stage Lithographic System,Proc.SPIE,2010,第2作者
（18）微悬臂梁阵列成像系统光学特性分析,四川大学学报,2009,第3作者
（19）位相型衍射光学元件设计的混合算法,光电工程,2009,第3作者
（20）Fabrication of nanoscale line width using the improved optical maskless lithographic system,Journal of Computerized and Theoretical of Nanoscience,2009,第3作者
（21）数字灰度投影光刻技术,微纳电子技术,2009,第1作者
（22）球面投影光刻物镜的设计,光电工程,2009,第1作者

发表著作

科研活动
科研项目（ 1 ） 高精度投影光刻物镜结构设计与分析, 主持,国家级,2009-01--2016-12
（ 2 ） 双工件台原理实验与验证, 主持,国家级,2009-01--2016-12

参与会议

合作情况
项目协作单位

指导学生已指导学生
李兰兰博士研究生080402-测试计量技术及仪器
何渝博士研究生080300-光学工程
邓茜硕士研究生085202-光学工程
程依光博士研究生080300-光学工程
陈楚怡硕士研究生085208-电子与通信工程
姚靖威硕士研究生080300-光学工程
现指导学生
张绍宇硕士研究生085203-仪器仪表工程
刘锡博士研究生080402-测试计量技术及仪器
刘江辉博士研究生080402-测试计量技术及仪器
罗文韬硕士研究生080401-精密仪器及机械
位浩杰博士研究生080402-测试计量技术及仪器