基本信息
王宇男博导中国科学院微电子研究所
电子邮件： ywang@ime.ac.cn
通信地址： 北京市海淀区邓庄南路9号
邮政编码： 100094
部门/实验室：光电中心
研究领域

招生信息
招生专业080300-光学工程
081203-计算机应用技术
085202-光学工程

招生方向精密测量
气体激光，光学设计


教育背景1985-09--1991-07清华大学材料系博士
1980-09--1985-07清华大学学士

学历
学位

工作经历
工作简历2018-04~现在,中国科学院微电子研究所,研究员，副所长
2013-07~2018-04,中国科学院光电研究院,研究员，院长
2003-11~2013-07,中国科学院光电研究院,研究员，副院长
1994-10~2003-11,中国科学院空间中心,副研究员，研究员，副主任
1993-10~1994-10,日本大阪大学溶接工学研究所,博士后
1991-07~1993-10,中国科学院空间中心,助理研究员
1985-09~1991-07,清华大学材料系,博士
1980-09~1985-07,清华大学,学士

社会兼职2014-01-01-今,北京市准分子激光工程技术研究中心, 主任
2011-01-01-今,北京电子制造装备行业协会, 理事
2010-01-01-今,光刻设备产业技术创新战略联盟, 副理事长
2002-01-01-2002-12-30,空间学会空间探测专业委员会, 副主任委员


教授课程

专利与奖励
奖励信息（1） 一种准分子激光器用贯流风机叶轮, 三等奖, 省级, 2017
（2） 光刻准分子光源研发与产业化, 特等奖, 院级, 2017
（3） 自种子注入双腔结构准分子激光器系统, 国家级, 2017
（4） 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, , 国家级, 2015
（5） 投影光刻光源技术及其应用, 院级, 2015
（6） 超大屏幕激光数码影院技术研究, 二等奖, 市地级, 2011
（7） 多功能离子束辅助沉积装置, 二等奖, 部委级, 1992

专利成果（ 1 ） 一种预电离陶瓷管, 2011, 第 4 作者, 专利号: 5.8
（ 2 ） 一种气体放电电极结构, 2015, 第 5 作者, 专利号: ZL6.X
（ 3 ） 一种布儒斯特窗片的设计方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: ZL3.1
（ 4 ） Single cavity dual-electrode discharge cavity and excimer laser, 2016, 第 1 作者, 专利号: US**B2, KR**B1
（ 5 ） 一种准分子激光器用贯流风机叶轮, 2014, 第 4 作者, 专利号: ZL2.2
（ 6 ） 一种预电离电极陶瓷管组合结构, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL9.4
（ 7 ） 一种非对称气体放电电极结构, 2012, 第 5 作者, 专利号: ZL4.5
（ 8 ） 一种放电腔内的气动结构, 2015, 第 4 作者, 专利号: ZL7.9
（ 9 ） 单腔双电极放电腔及准分子激光器, 2012, 第 1 作者, 专利号: 7.9
（ 10 ） 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, 2014, 第 5 作者, 专利号: ZL5.8
（ 11 ） 一种调焦调平装置及系统, 2015, 第 3 作者, 专利号: ZL4.3
（ 12 ） 一种改善放电腔流场的气动结构, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL9.6
（ 13 ） 一种用于气体激光器的布儒斯特窗片, 2012, 第 5 作者, 专利号: ZL1.5
（ 14 ） 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, 2013, 第 5 作者, 专利号: ZL9.7
（ 15 ） 用于高压脉冲电源的过电流抖动检测方法和保护电路, 2015, 第 3 作者, 专利号: ZL4.5
（ 16 ） 控制激光器系统的有效工作温度的方法和装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: ZL6.2
（ 17 ） 控制激光器系统的有效工作温度的装置, 2013, 第 5 作者, 专利号: ZL4.7
（ 18 ） 一种设有阶梯调焦标记的调焦调平装置, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL3.0
（ 19 ） 一种调焦调平装置的起偏光路, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL1.7
（ 20 ） 一种调焦调平装置及系统, 2014, 第 3 作者, 专利号: ZL0.4
（ 21 ） 用于高压脉冲电源的过电流抖动检测电路, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL1.6
（ 22 ） 一种贯流风机叶轮, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL6.6
（ 23 ） 一种使用金属液滴帘降低碎屑的方法和装置, 2016, 第 1 作者, 专利号: ZL3.7
（ 24 ） Flow guide device for dual-electrode discharge cavity,dualelectrode discharge cavity utilize the same and excimer laser, 2016, 第 5 作者, 专利号: US**B2
（ 25 ） 一种用于激光光源的液态金属靶产生装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: ZL6.2
（ 26 ） 一种高频、高速的微米级液滴产生装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: ZL3.6
（ 27 ） 一种气体放电激光光源, 2016, 第 2 作者, 专利号: ZL4.7
（ 28 ） 一种新型气体放电腔, 2016, 第 2 作者, 专利号: ZL0.9
（ 29 ） 一种螺旋气流动态气体锁, 2015, 第 2 作者, 专利号: ZL3.4
（ 30 ） 一种气体激光器放电腔的电极机构, 2013, 第 2 作者, 专利号: ZL4.3
（ 31 ） 一种电子系统的自散热结构, 2016, 第 5 作者, 专利号: 6.3
（ 32 ） 一种多元合金薄膜的制备装置和制备方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: PCT/CN2017/116599
（ 33 ） 一种微位移测量装置与测量方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 8.5
（ 34 ） 激光光束空间相干长度测量装置及其测量方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 4.0
（ 35 ） 一种激光修复与抛光陶瓷零件的方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 7.9
（ 36 ） 一种准分子激光器放电腔气体的检测方法及模块, 2018, 第 4 作者, 专利号: 7.0
（ 37 ） 一种光学测量台架装置, 2017, 第 3 作者, 专利号: 2.6
（ 38 ） 具有位置调节功能的嵌套式支承结构及其用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 5.3
（ 39 ） 光路传输换向装置及光学性能参数检测系统, 2018, 第 3 作者, 专利号: 8.6
（ 40 ） 用于光学元件性能检测的试验台及试验台安装方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: 6.6
（ 41 ） 投影物镜的数值孔径的在线检测装置及方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: 4.6
（ 42 ） 光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: 0.5
（ 43 ） 光刻光源传输光路系统的辅助调整装置及调整方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: 5.0


出版信息
发表论文（1）Corrosion Behaviors of the Copper Alloy Electrodes in ArF Excimer Laser Operation Process,High Power Laser Science and Engineering,2018,第4作者
（2）极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究,光学学报,2017,第2作者
（3）极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究,激光与光电子学进展,2017,第2作者
（4）高精度真空材料放气测试研究,真空科学与技术学报,2016,第4作者
（5）Comparative Study on the Outgassing Rate of Materials using Different Methods,MAPAN-Journal of Metrology Society of India,2016,第4作者
（6）4-DOF mechanism design for reflectors in vacuum,MME 2016,2016,第4作者
（7）极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究,激光与光电子学进展,2016,第2作者
（8）Numerical analysis optimization of internal flow field in optical module of DUV laser,MME 2016,2016,第6作者
（9）准分子激光与SiC陶瓷的相互作用研究,激光与光电子学进展,2016,第4作者
（10）极紫外真空动态气体锁流场分析与研究,Research on Flow Analysis of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Vacuum,真空科学与技术学报,2015,第3作者
（11）极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究,Optical Simulation Research on Damage Testing System of Extreme Ultraviolet Radiation,激光与光电子学进展,2015,第3作者
（12）ArF准分子激光光源电极系统设计及电场仿真研究,激光与光电子学进展,2014,第3作者
（13）基于光源偏振补偿的硅基液晶激光三维显示光学引擎,中国激光,2011,第3作者
（14）High power and efficient continuous wave 456 nm blue laser for laser display,Quantum Electronics Conference & Lasers and Electro-Optics,2011,第3作者
（15）High Power green laser with PPMgLN intracavity doubled,CLEO/PR,2009,第4作者

发表著作

科研活动
科研项目（ 1 ） 20W 4kHz ArF曝光光源研发, 主持,国家级,2009-07--2013-09
（ 2 ） 40W 4kHz ArF曝光光源产品开发, 参与,国家级,2013-01--2020-12
（ 3 ） 60W 6kHz ArF曝光光源方案设计, 参与,国家级,2012-01--2014-12
（ 4 ） EUV基础共性技术研究, 参与,国家级,2012-01--2018-12
（ 5 ） 超大规模集成电路光刻用193nm准分子激光系统关键部件联合研发, 主持,国家级,2009-01--2010-06
（ 6 ） 193nm准分子激光样机关键技术及集成检测技术研究, 主持,部委级,2008-10--2011-10
（ 7 ） 中科院光刻机光学系统关键技术发展战略研究, 主持,部委级,2009-06--2010-12
（ 8 ） 应用于集成电路光刻的193nm准分子激光光源系统方案及若干关键技术研究, 主持,国家级,2008-01--2009-05
（ 9 ） 02专项（光刻机关键部件中科院）, 主持,国家级,2009-07--2017-12
（ 10 ） 高NA投影曝光光学系统及其产业化发展研究, 参与,国家级,2010-01--2017-12
（ 11 ） EUVL动态真空与热环境技术研究, 参与,国家级,2012-01--2018-12

参与会议

合作情况
项目协作单位

指导学生